వెబ్ మెనూ

ఉత్పత్తి శోధన

భాష

వార్తలు
ఉత్పత్తులు

ప్రపంచంలో నాలుగు అత్యంత శక్తివంతమైన గ్రాఫైట్ తయారీదారులు - వెటెక్

SGL, టొయో టాన్సో, టోకై కార్బన్, మెర్సెన్ మరియు ఇతర గ్రాఫైట్ బ్రాండ్లు ఇప్పుడు సాపేక్షంగా అద్భుతమైన గ్రాఫైట్ తయారీదారులు, మరియు సెమీకండక్టర్, ఫోటోవోల్టాయిక్ మరియు ఇతర రంగాలలో తయారీదారులు ఉత్సాహంగా కోరింది. అందువల్ల, వారి ప్రధాన ఉత్పత్తులను తెలుసుకోవడం అవసరం.


SGL యొక్క సాధారణ గ్రాఫైట్ మరియు అప్లికేషన్ ప్రాంతాలు


● R8500 సిరీస్: కాంతివిపీడన, సెమీకండక్టర్స్ మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత ప్రాసెసింగ్‌లో ఉపయోగిస్తారు.

●  R7300 సిరీస్: అధిక స్వచ్ఛత, ముఖ్యంగా సెమీకండక్టర్ అనువర్తనాలకు అనువైనది.

●  R6500 సిరీస్: అద్భుతమైన పనితీరు, వివిధ అధిక ఉష్ణోగ్రత, అధిక లోడ్ మరియు అధిక ఖచ్చితత్వ అనువర్తనాలకు అనువైనది. ప్రధానంగా సెమీకండక్టర్ తయారీ, కాంతివిపీడన పరిశ్రమ, లోహశాస్త్రం మరియు ఇతర అధిక ఉష్ణోగ్రత క్షేత్రాలలో ఉపయోగిస్తారు.


సాంకేతిక పారామితులు


R8510
 R6510
 R7300
 R8500
 R8710
సగటు ధాన్యం పరిమాణం µm
 10 10 20 10 3
బల్క్ డెన్సిటీ g/cm³
 1.77 1.83 1.73 1.77 1.8
ఓపెన్ సచ్ఛిద్రత వాల్యూమ్.%
 14 10 14 14 10
మధ్యస్థ రంధ్ర ప్రవేశ వ్యాసం µm
 1.8 1.8 1.6 1.8 0.6
పారగమ్యత యొక్క గుణకం (పరిసర ఉష్ణోగ్రత) cm2/s
 0.25 0.06 0.1 0.25 0.01
రాక్వెల్ కాఠిన్యం hr₅/
 70 85 75 70 105
రెసిస్టివిటీ µωm
 14 12 16 14 13
ఫ్లెక్చురల్ బలం MPA
 50 60 40 50 85
సంపీడన బలం MPA
 110 130 85 110 170
మానిసివిటీ యొక్క డైనమిక్ మాడ్యులస్
 10.5 x 10³
 11.5 x 10³
 10 x 10³
 10.5 x 10³
 10.5 x 10³
ఉష్ణ విస్తరణ (20 - 200 ° C) K⁻
 4.2 x
 4.2 x 2.7 x 4.2 x 4.7 x
ఉష్ణ వాహకత (20 ° C) WM⁻K⁻
 95 110 70 95 105
బూడిద కంటెంట్ పిపిఎం
 200 / 200 200 200

టొయో టాన్సో యొక్క సాధారణ గ్రాఫైట్ మరియు అప్లికేషన్ ప్రాంతాలు


●  IG సిరీస్.

●  పేరు సిరీస్: అధిక పనితీరు ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్, EDM, అచ్చు తయారీ, సెమీకండక్టర్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ క్షేత్రాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది

●  ISO సిరీస్: అధిక పనితీరు ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్, ప్రధానంగా అధిక స్వచ్ఛత, అధిక బలం మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత అవసరమయ్యే పారిశ్రామిక అనువర్తనాల కోసం

●  TTK సిరీస్: EDM, అచ్చు తయారీ మరియు ఇతర అధిక ఖచ్చితమైన ప్రాసెసింగ్ ఫీల్డ్‌ల కోసం

●  HPG సిరీస్: అధిక ఖచ్చితత్వం మరియు కఠినమైన పరిస్థితులలో పరికరాలు మరియు భాగాలకు అనుకూలం, ముఖ్యంగా ఎలక్ట్రానిక్స్, సెమీకండక్టర్, ఫోటోవోల్టాయిక్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలలో


సాంకేతిక పారామితులు

గ్రేడ్
 IG-11
 IG-70
 పేరు -1
 పేరు -8
 ISO-63
 TTK-55
 HPG-30
 HPG-59
బల్క్ డెన్సిటీ
 Mg/m3
 1.77 1.83 1.68 1.78 1.78 1.8 1.8 1.91
కాఠిన్యం
 Hsd
 51 58 45 63 76 73 74 88
విద్యుత్ నిరోధకత
 μω ･ m
 11 10 13.5 13.4 15 15.3 15.3 13.5
ఫ్లెక్చురల్ బలం
 MPa
 39 47 36 52 65 63 65 100
సంపీడన బలం
 MPa
 78 103 69 106 135 139 142 210
తన్యత బలం
 MPa
 25 31 20 34 46 48 50 74
యంగ్ మాడ్యులస్
 GPA
 9.8 11.8 8.8 10.1 12 11.2 11.3 12.7
ఉష్ణ విస్తరణ యొక్క గుణకం
 10-6/కె
 4.5 4.6 4.2 5.6 5.6 5.6 5.6 5.7
ఉష్ణ వాహకత
 W/(m ･ k)
 120 130 90 90 70 86 86 95

టోకై యొక్క సాధారణ గ్రాఫైట్ మరియు అప్లికేషన్ ప్రాంతాలు


●  HK1: పెద్ద అచ్చు చనిపోవడం మరియు డై-కాస్టింగ్ అనువర్తనాల యొక్క కఠినమైన మ్యాచింగ్.

●  HK2: మీడియం నుండి చిన్న అధిక ఖచ్చితత్వం, పదునైన నిర్వచనం అచ్చు మరియు ప్రెస్ సాధనాలను కఠినతరం చేయడం మరియు పూర్తి చేయడం.

●  HK3. మంచి MRR రేటు/దుస్తులు నిష్పత్తి.

●  HK-75: HK-75 గ్రాఫైట్ యొక్క అల్ట్రా-ఫైన్ గ్రేడ్ మరియు ఇక్కడ అధిక ఉపరితల ముగింపులు మరియు మంచి అంచు దుస్తులు పరిస్థితులు కీలకం. ఇది మూలలు మరియు ప్రొఫైల్‌లపై హై డెఫినిషన్ యొక్క సులభమైన మ్యాచింగ్ లక్షణాలను కూడా ఇస్తుంది. అచ్చు తయారీ ప్రక్రియ యొక్క అధిక నాణ్యత ముగింపులో ఇది ఉత్తమంగా ఉపయోగించబడుతుంది.


సాంకేతిక పారామితులు

గ్రేడ్

HK-1
 HK-2
 HK-3
 HK-75
నిర్దిష్ట గురుత్వాకర్షణ
 g/cm3
 1.85
 1.82 1.84 1.82
నిర్దిష్ట ప్రతిఘటన
 μω ･ m
 11 13.5 15.5 16.5
ఫ్లెక్చురల్ బలం MPa 50 64 88 66
కాఠిన్యం
 తీరం
 58 64 78 72
సగటు ధాన్యం పరిమాణం
 μm
 11 7 2 4

మెర్సెన్ యొక్క సాధారణ గ్రాఫైట్ మరియు అప్లికేషన్ ప్రాంతాలు


●  ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్: సెమీకండక్టర్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ పరిశ్రమలలో సివిడి భాగాలు మరియు క్రూసిబుల్స్ కోసం అనుకూలం. మోనోక్రిస్టలైన్ మరియు పాలీక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ కోసం తయారీ భాగాలు, ముఖ్యంగా అధిక-ఉష్ణోగ్రత వాతావరణంలో.

●  Ellor+ సిరీస్: అధిక వాహకత, దుస్తులు-నిరోధక, అధిక ఉత్సర్గ సామర్థ్యం, ​​అధిక ముగింపు ఉపరితల ప్రాసెసింగ్, ఖచ్చితమైన అచ్చు ప్రాసెసింగ్‌కు అనువైనది.


సాంకేతిక పారామితులు

గ్రేడ్
ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ 1940
 ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ 2910
 Ellor+18
 Ellor+50

సగటుధాన్యం పరిమాణం

μm
 / / 12 5
సాంద్రత
 g/cm3
 1.79 1.74 1.78 1.86
కాఠిన్యం
 తీరం
 63 55 62 80

ఫ్లెక్చురల్బలం

MPa
 43 30 45 76

విద్యుత్రెసిస్టివిటీ

μOHM.CM
 1397 1600 1370 1370


మునుపటి :

అధిక నాణ్యత గల క్రిస్టల్ పెరుగుదలను ఎలా సాధించాలి? - sic క్రిస్టల్ గ్రోత్ కొలిమి

తరువాత :

SIC పూత కార్బన్ యొక్క ఆక్సీకరణ నిరోధకతను ఎలా మెరుగుపరుస్తుంది

సంబంధిత వార్తలు
కొత్త ఉత్పత్తులు
సిలికాన్ కార్బైడ్ సిరామిక్ కోటింగ్ గ్రాఫైట్ హీటర్
సిలికాన్ కార్బైడ్ సిరామిక్ కోటింగ్ గ్రాఫైట్ హీటర్మరిన్ని చూడండి >>
LPE హాఫ్మూన్ SIC EPI రియాక్టర్
LPE హాఫ్మూన్ SIC EPI రియాక్టర్మరిన్ని చూడండి >>
సెక్కఆర్డక్టర్ క్వార్ట్జ్ బెల్ జార్
సెక్కఆర్డక్టర్ క్వార్ట్జ్ బెల్ జార్మరిన్ని చూడండి >>
నిలువు కొలిమి
నిలువు కొలిమిమరిన్ని చూడండి >>
క్షితిజసమాంతర ఫర్నేస్ కోసం సిలికాన్ కార్బైడ్ వేఫర్ బోట్
క్షితిజసమాంతర ఫర్నేస్ కోసం సిలికాన్ కార్బైడ్ వేఫర్ బోట్మరిన్ని చూడండి >>
అధిక స్వచ్ఛత క్వార్ట్జ్ వేఫర్ బోట్
అధిక స్వచ్ఛత క్వార్ట్జ్ వేఫర్ బోట్మరిన్ని చూడండి >>
వార్తల సిఫార్సులు
3C-SIC చాలా SIC పాలిమార్ఫ్‌లలో ఎందుకు నిలుస్తుంది? - వెటెక్ సెమీకండక్టర్
3C-SIC చాలా SIC పాలిమార్ఫ్‌లలో ఎందుకు నిలుస్తుంది? - వెటెక్ సెమీకండక్టర్మరిన్ని చూడండి >>
సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియ: రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి)
సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియ: రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి)మరిన్ని చూడండి >>
ఎపిటాక్సీ మరియు ALD మధ్య తేడా ఏమిటి?
ఎపిటాక్సీ మరియు ALD మధ్య తేడా ఏమిటి?మరిన్ని చూడండి >>
టాంటాలమ్ కార్బైడ్ TAC పూత అంటే ఏమిటి? - వెటెక్సెమికన్
టాంటాలమ్ కార్బైడ్ TAC పూత అంటే ఏమిటి? - వెటెక్సెమికన్మరిన్ని చూడండి >>
MOCVD గ్రాఫైట్ ట్రేని ఎలా ఎంచుకోవాలి?
MOCVD గ్రాఫైట్ ట్రేని ఎలా ఎంచుకోవాలి?మరిన్ని చూడండి >>
పోరస్ టాంటాలమ్ కార్బైడ్: SIC క్రిస్టల్ పెరుగుదల కోసం కొత్త తరం పదార్థాలు
పోరస్ టాంటాలమ్ కార్బైడ్: SIC క్రిస్టల్ పెరుగుదల కోసం కొత్త తరం పదార్థాలుమరిన్ని చూడండి >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept