పోరస్ గ్రాఫైట్

SiC సబ్‌స్ట్రేట్ నిర్మాతలు సాధారణంగా హాట్ ఫీల్డ్ ప్రాసెస్ కోసం పోరస్ గ్రాఫైట్ సిలిండర్‌తో క్రూసిబుల్ డిజైన్‌ను ఉపయోగిస్తారు. ఈ డిజైన్ బాష్పీభవన ప్రాంతం మరియు ఛార్జ్ వాల్యూమ్‌ను పెంచుతుంది. క్రిస్టల్ లోపాలను పరిష్కరించడానికి, సామూహిక బదిలీని స్థిరీకరించడానికి మరియు SiC క్రిస్టల్ నాణ్యతను మెరుగుపరచడానికి కొత్త ప్రక్రియ అభివృద్ధి చేయబడింది. ఇది థర్మల్ విస్తరణ మరియు ఒత్తిడి ఉపశమనం కోసం సీడ్‌లెస్ క్రిస్టల్ ట్రే ఫిక్సేషన్ పద్ధతిని కలిగి ఉంటుంది. అయినప్పటికీ, క్రూసిబుల్ గ్రాఫైట్ మరియు పోరస్ గ్రాఫైట్ యొక్క పరిమిత మార్కెట్ సరఫరా SiC సింగిల్ స్ఫటికాల నాణ్యత మరియు దిగుబడికి సవాళ్లను కలిగిస్తుంది.

VeTek సెమీకండక్టర్ పోరస్ గ్రాఫైట్ యొక్క ముఖ్య లక్షణాలు:

1.అధిక ఉష్ణోగ్రత పర్యావరణ సహనం - ఉత్పత్తి 2500 డిగ్రీల సెల్సియస్ వాతావరణాన్ని తట్టుకోగలదు, అద్భుతమైన ఉష్ణ నిరోధకతను ప్రదర్శిస్తుంది.

2.స్ట్రిక్ట్ సచ్ఛిద్ర నియంత్రణ - VeTek సెమీకండక్టర్ గట్టి సచ్ఛిద్ర నియంత్రణను నిర్వహిస్తుంది, స్థిరమైన పనితీరును నిర్ధారిస్తుంది.

3.అల్ట్రా-అధిక స్వచ్ఛత - ఉపయోగించిన పోరస్ గ్రాఫైట్ పదార్థం కఠినమైన శుద్దీకరణ ప్రక్రియల ద్వారా అధిక స్థాయి స్వచ్ఛతను సాధిస్తుంది.

4.Excellent ఉపరితల కణ బంధన సామర్ధ్యం - VeTek సెమీకండక్టర్ అద్భుతమైన ఉపరితల కణ బంధన సామర్ధ్యం మరియు పొడి సంశ్లేషణకు నిరోధకతను కలిగి ఉంది.

5.గ్యాస్ రవాణా, వ్యాప్తి మరియు ఏకరూపత - గ్రాఫైట్ యొక్క పోరస్ నిర్మాణం సమర్థవంతమైన గ్యాస్ రవాణా మరియు వ్యాప్తిని సులభతరం చేస్తుంది, ఫలితంగా వాయువులు మరియు కణాల ఏకరూపత మెరుగుపడుతుంది.

6.నాణ్యత నియంత్రణ మరియు స్థిరత్వం - VeTek సెమీకండక్టర్ క్రిస్టల్ పెరుగుదలలో నాణ్యతను నిర్ధారించడానికి అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ అశుద్ధ కంటెంట్ మరియు రసాయన స్థిరత్వాన్ని నొక్కి చెబుతుంది.

7.ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ మరియు ఏకరూపత - పోరస్ గ్రాఫైట్ యొక్క ఉష్ణ వాహకత ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత పంపిణీని అనుమతిస్తుంది, పెరుగుదల సమయంలో ఒత్తిడి మరియు లోపాలను తగ్గిస్తుంది.

8.మెరుగైన ద్రావణ వ్యాప్తి మరియు వృద్ధి రేటు - పోరస్ నిర్మాణం కూడా ద్రావణ పంపిణీని ప్రోత్సహిస్తుంది, స్ఫటికాల పెరుగుదల రేటు మరియు ఏకరూపతను పెంచుతుంది.