వార్తలు

అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్, CVD SiC/TaC పూత భాగాలు, ఘన SiC భాగాలు మరియు అనుకూల సెమీకండక్టర్ పరిష్కారాల కోసం VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క CNC ప్రెసిషన్ మ్యాచింగ్ సామర్థ్యాలను కనుగొనండి.

Vetek సెమీకండక్టర్ దాని అధునాతన CVD SiC మరియు TaC కోటింగ్‌లు, గ్రాఫైట్ భాగాలు, SiC సెరామిక్స్ మరియు ఇతర సెమీకండక్టర్ కోర్ మెటీరియల్‌లను ప్రదర్శిస్తూ చైనాలోని వుక్సీలో CSEAC 2026లో పాల్గొంది. ఈ ఈవెంట్ కస్టమర్ భాగస్వామ్యాలను బలోపేతం చేయడానికి, కొత్త సాంకేతికతలను చర్చించడానికి, సహకార ప్రాజెక్టులను ముందుకు తీసుకెళ్లడానికి మరియు ప్రపంచ సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో భవిష్యత్తు అవకాశాలను అన్వేషించడానికి విలువైన అవకాశాలను అందించింది.

VETEK సెమీకండక్టర్ CVD SiC కోటింగ్‌లు, CVD TaC కోటింగ్‌లు, సాలిడ్ SiC, హై-ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ మరియు కార్బన్ ఫైబర్, క్వార్ట్జ్ మరియు అడ్వాన్స్‌డ్ సెరామిక్స్ మరియు సెమీకండక్టర్ పొరలతో సహా ఆరు ప్రధాన ఉత్పత్తి వర్గాల్లో ప్రత్యేకతను కలిగి ఉంది. మా ఉత్పత్తులు ఎపిటాక్సీ, ఎచింగ్ మరియు క్రిస్టల్ గ్రోత్ వంటి క్లిష్టమైన సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలను అందిస్తాయి. ద్వంద్వ R&D ప్లాట్‌ఫారమ్‌లు, పూర్తిగా సమీకృత ఉత్పాదక వ్యవస్థ మరియు ప్రపంచ సరఫరా సామర్థ్యాలతో, మేము జాతీయ ప్రత్యేక మరియు అధునాతన "లిటిల్ జెయింట్" ఎంటర్‌ప్రైజ్‌గా గుర్తించబడ్డాము.

VETEK యొక్క కొత్త సెమీకండక్టర్ తయారీ కేంద్రం సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ క్లీన్‌రూమ్ నిర్మాణ దశలోకి ప్రవేశించింది. కొత్త సైట్ CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ భాగాలు, TaC కోటింగ్‌లు, PyC కోటింగ్‌లు, సాలిడ్ SiC భాగాలు మరియు సెమీకండక్టర్ అప్లికేషన్‌ల కోసం హై-ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ మెటీరియల్‌ల ఉత్పత్తికి మద్దతు ఇస్తుంది.

VeTek సెమీకండక్టర్ SNEC 2026 షాంఘై నుండి కీలక అంతర్దృష్టులను పంచుకుంటుంది, హై-ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్, CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ భాగాలు, కార్బన్ మిశ్రమాలు మరియు తదుపరి తరం సౌర తయారీ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ ఉత్పత్తికి మద్దతు ఇచ్చే అధునాతన థర్మల్ ఫీల్డ్ మెటీరియల్‌లను హైలైట్ చేస్తుంది.

VETEK తన కొత్త సెమీకండక్టర్ తయారీ స్థావరం యొక్క టాప్-అవుట్ వేడుకను జరుపుకుంటుంది, అధునాతన SiC, TaC మరియు PyC పూత సాంకేతికతలు, సాలిడ్ SiC భాగాలు, అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ భాగాలు మరియు సెమీకండక్టర్ థర్మల్ ఫీల్డ్ మెటీరియల్‌ల కోసం ఉత్పత్తి సామర్థ్యాన్ని విస్తరించింది.

సెప్టెంబర్ 5 న, వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క కస్టమర్లు SIC పూత మరియు TAC పూత కర్మాగారాలను సందర్శించారు మరియు తాజా ఎపిటాక్సియల్ ప్రాసెస్ పరిష్కారాలపై మరిన్ని ఒప్పందాలను చేరుకున్నారు.

సెప్టెంబరు 5, 2025న, పోలాండ్‌కు చెందిన ఒక కస్టమర్ కార్బన్ ఫైబర్ ఉత్పత్తుల ఉత్పత్తిలో మా అధునాతన సాంకేతికతలు మరియు వినూత్న ప్రక్రియల గురించి తెలుసుకోవడానికి VETEK క్రింద ఉన్న ఫ్యాక్టరీని సందర్శించారు.

SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ పొర క్యారియర్‌లు GaN మరియు LED ఎపిటాక్సీ కోసం MOCVD సిస్టమ్‌లలో కీలకమైన ఉష్ణ మరియు యాంత్రిక భాగాలు. క్యారియర్ జ్యామితి, పాకెట్ డెప్త్, ఫ్లాట్‌నెస్, గ్రాఫైట్ లక్షణాలు మరియు CVD SiC పూత పరిస్థితి పొర ఉష్ణోగ్రత పంపిణీ, ఎపిటాక్సియల్ ఏకరూపత మరియు ప్రక్రియ పునరావృతతను ఎలా ప్రభావితం చేస్తాయో ఈ సాంకేతిక కథనం వివరిస్తుంది. ఇది థర్మల్ ఏకరూపత మరియు పరికర దిగుబడి, సాధారణ పూత క్షీణత మెకానిజమ్స్, సర్వీస్-లైఫ్ పరిగణనలు మరియు కస్టమ్ లేదా రీప్లేస్‌మెంట్ MOCVD వేఫర్ క్యారియర్‌ను పేర్కొనేటప్పుడు అవసరమైన ఇంజనీరింగ్ డేటా మధ్య సంబంధాన్ని కూడా పరిశీలిస్తుంది.

SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ రసాయనికంగా స్థిరమైన CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ ప్రక్రియ ఉపరితలంతో అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ యొక్క యంత్ర సామర్థ్యం మరియు ఉష్ణ ప్రవర్తనను మిళితం చేస్తుంది. బేర్ గ్రాఫైట్ రసాయన పరస్పర చర్యకు, ఎపిటాక్సీ రియాక్టర్‌లలోని మలినాలను మరియు కణాలకు మూలంగా ఎందుకు మారుతుందో, CVD SiC మరింత స్థిరమైన ప్రక్రియ సరిహద్దును ఎలా సృష్టిస్తుంది మరియు పూత సమగ్రత, ఉపరితల అనుకూలత, జ్యామితి మరియు ఉష్ణ ప్రవర్తనను ఎందుకు కలిసి రూపొందించాలి అని ఈ సాంకేతిక శ్వేతపత్రం వివరిస్తుంది. ఇది సిలికాన్ మరియు SiC ఎపిటాక్సీ యొక్క విభిన్న డిమాండ్‌లను కూడా పరిశీలిస్తుంది మరియు సెమీకండక్టర్ అప్లికేషన్‌ల కోసం కోటెడ్ ససెప్టర్‌లను ఎలా పేర్కొనాలో వివరిస్తుంది.

SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ అనేది కేవలం పొర హోల్డర్‌గా కాకుండా సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీలో కీలకమైన థర్మల్-ఫీల్డ్ భాగం. వేఫర్ థర్మల్ సరిహద్దులు, ఉష్ణోగ్రత పంపిణీ మరియు ఎపిటాక్సియల్ ఏకరూపతను ప్రభావితం చేయడానికి ససెప్టర్ జ్యామితి, ఫ్లాట్‌నెస్, పాకెట్ డిజైన్, గ్రాఫైట్ లక్షణాలు మరియు CVD SiC పూత నాణ్యత ఎలా కలిసి పనిచేస్తాయో ఈ సాంకేతిక కథనం వివరిస్తుంది. ఇది సాధారణ ససెప్టర్ ఫెయిల్యూర్ మోడ్‌లు, కోటింగ్ డిగ్రేడేషన్, పార్టికల్ రిస్క్‌లు మరియు కస్టమ్ లేదా రీప్లేస్‌మెంట్ ఎపిటాక్సీ ససెప్టర్‌ను పేర్కొనేటప్పుడు అవసరమైన కీలక ఇంజనీరింగ్ పారామితులను కూడా పరిశీలిస్తుంది.

CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత నియంత్రిత గ్యాస్-ఫేజ్ మరియు ఉపరితల ప్రతిచర్యల ద్వారా అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్‌పై దట్టమైన SiC పొరను జమ చేయడం ద్వారా ఉత్పత్తి చేయబడుతుంది. ఈ వ్యాసం సబ్‌స్ట్రేట్ తయారీ, MTS-ఆధారిత CVD పెరుగుదల, న్యూక్లియేషన్ మరియు మాస్ ట్రాన్స్‌ఫర్, పూత మందం మరియు ఏకరూపత, SiC/గ్రాఫైట్ ఇంటర్‌ఫేస్ ఒత్తిడి, సాధారణ లోపాలు మరియు సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ తనిఖీని వివరిస్తుంది. ఎపిటాక్సీ మరియు MOCVDలో ఉపయోగించే ససెప్టర్లు మరియు వేఫర్ క్యారియర్‌ల కోసం ప్రాసెస్ పారామితులు మరియు కాంపోనెంట్ జ్యామితి ఎందుకు కలిసి ఇంజనీరింగ్ చేయబడాలి అని కూడా ఇది చూపిస్తుంది.

సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత అనేది సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌లో ఉపయోగించే అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ భాగాలకు వర్తించే దట్టమైన CVD SiC పొర. గ్రాఫైట్ SiCతో ఎందుకు పూత చేయబడింది, CVD SiC ఎలా ఏర్పడుతుంది, ఏ పూత లక్షణాలు మరియు ఇంటర్‌ఫేస్ కారకాలు పనితీరును నియంత్రిస్తాయి మరియు SiC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ, SiC ఎపిటాక్సీ మరియు MOCVDలకు ఎలా మద్దతు ఇస్తుందో ఈ కథనం వివరిస్తుంది. ఇది పూత మందం, CTE అసమతుల్యత, డీలామినేషన్ రిస్క్ మరియు ససెప్టర్లు, వేఫర్ క్యారియర్లు మరియు ఇతర పూతతో కూడిన భాగాలను పేర్కొనేటప్పుడు అవసరమైన ఇంజనీరింగ్ సమాచారాన్ని కూడా పరిశీలిస్తుంది.

CVD SiC మరియు TaC పూతలు సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీలో థర్మల్ స్టెబిలిటీ, కాలుష్యం, పార్టికల్స్ మరియు రిపీటబిలిటీని ఎలా ప్రభావితం చేస్తాయి అనేదానిపై సాంకేతిక శ్వేతపత్రం, పారామీటర్ టేబుల్‌లు, పూత-ఎంపిక నిర్ణయం ట్రీ, ఫెయిల్యూర్ మెకానిజమ్స్ మరియు RFQ ప్రమాణాలు.

8-అంగుళాల SiC ఇప్పుడు వాల్యూమ్ ఉత్పత్తిలో ఉంది, కానీ పొర దిగుబడి - సామర్థ్యం కాదు - విజేతలను వేరు చేస్తుంది. గ్రాఫైట్ హాట్-జోన్ భాగాలపై TaC పూత ఎందుకు దిగుబడిని నిర్ణయిస్తుందో మరియు సరఫరాదారుని ఎలా అర్హత పొందాలో ఈ గైడ్ వివరిస్తుంది.

ఆధునిక చిప్ తయారీలో, సబ్‌స్ట్రేట్ భౌతిక మద్దతు మరియు ఉష్ణ వెదజల్లే మార్గాన్ని అందిస్తుంది, అయితే ఎపిటాక్సియల్ పొర పరికరం యొక్క విద్యుత్ పనితీరు పరిమితులను నిర్ణయిస్తుంది. ఈ కథనం సింగిల్-క్రిస్టల్ సిలికాన్ మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ సబ్‌స్ట్రేట్‌లు మరియు CVD/MBE ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియల మధ్య ప్రాథమిక వ్యత్యాసాల యొక్క లోతైన విశ్లేషణను అందిస్తుంది మరియు ఎపిటాక్సియల్ సాంకేతికత లోపం సాంద్రతను తగ్గించడం మరియు ఇంజనీరింగ్‌ని కలుపుకోవడం ద్వారా అధిక-ఫ్రీక్వెన్సీ మరియు అధిక-వోల్టేజ్ పరికరాల పనితీరును ఎలా మెరుగుపరుస్తుందో వెల్లడిస్తుంది. మీరు ప్రాసెస్ ఇంజనీర్ అయినా లేదా ప్రొక్యూర్‌మెంట్ డెసిషన్ మేకర్ అయినా, ఈ గైడ్ మీకు అత్యంత అనుకూలమైన పొర ఎంపిక వ్యూహాన్ని త్వరగా గుర్తించడంలో సహాయపడుతుంది.