ఉత్పత్తులు

ప్లాస్మా సాంద్రత, వాయువు ప్రవాహం మరియు విద్యుత్-క్షేత్ర పంపిణీని స్థిరంగా ఉంచడానికి డ్రై ప్లాస్మా ఎట్చ్ చాంబర్‌లు పొర చుట్టూ ఉండే ఖచ్చితమైన సరిహద్దు నియంత్రణపై ఆధారపడతాయి. VeTek సెమీకండక్టర్ హై ప్యూరిటీ క్వార్ట్జ్ Etch రింగ్స్ అనేది డీహైడ్రాక్సిలేటెడ్ ఫ్యూజ్డ్ క్వార్ట్జ్‌తో తయారు చేయబడిన సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ ఛాంబర్ భాగాలు. అవి పొర అంచు వద్ద ప్రాసెస్ జోన్‌ను నిర్వచించాయి, ప్లాస్మా, మృదువైన వాయువు ప్రవాహాన్ని పరిమితం చేయడంలో సహాయపడతాయి మరియు పొర అంచుని రక్షించడంలో సహాయపడతాయి-2–12 అంగుళాల సిలికాన్, SiC, GaN మరియు నీలమణి పొరలలో మరింత ఏకరీతి ఎట్చ్ రేట్లు మరియు క్లీనర్ ప్రొఫైల్‌లకు మద్దతు ఇస్తాయి.

VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క హై ప్యూరిటీ క్వార్ట్జ్ వేఫర్ క్యారియర్లు అధిక-ఉష్ణోగ్రత థర్మల్ ప్రాసెసింగ్, థిన్-ఫిల్మ్ డిపాజిషన్, వెట్ ప్రాసెస్‌లు మరియు వాక్యూమ్ అప్లికేషన్‌లలో స్థిరమైన వేఫర్ హ్యాండ్లింగ్ కోసం ఖచ్చితమైన-ఇంజనీరింగ్ సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ ఫిక్స్చర్‌లు. సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ డీహైడ్రాక్సిలేటెడ్ ఫ్యూజ్డ్ క్వార్ట్జ్ (JGS2 సమానమైన) నుండి తయారు చేయబడిన ఈ పొర వాహకాలు అతి-అధిక స్వచ్ఛత, అద్భుతమైన థర్మల్ షాక్ రెసిస్టెన్స్, రసాయన జడత్వం, తక్కువ ఔట్‌గ్యాసింగ్ మరియు అధిక ఫ్లాట్‌నెస్‌ను అందిస్తాయి—విశ్వసనీయమైన, కలుషిత రహిత, సిచ్ యాప్ 2-12కి భరోసా ఇస్తాయి. ఉపరితలాలు.

VeTek సెమీకండక్టర్ తదుపరి తరం అల్ట్రా-వైడ్-బ్యాండ్‌గ్యాప్ సెమీకండక్టర్ పరికరాల కోసం అధిక-నాణ్యత అల్యూమినియం నైట్రైడ్ (AlN) సింగిల్-క్రిస్టల్ పొరలు మరియు సబ్‌స్ట్రేట్‌లను సరఫరా చేస్తుంది. సుమారు 6.2 eV యొక్క అల్ట్రా-వైడ్ బ్యాండ్‌గ్యాప్‌తో, అత్యుత్తమ ఉష్ణ వాహకత, అసాధారణమైన విద్యుత్ ఇన్సులేషన్ మరియు GaNతో అద్భుతమైన లాటిస్ మరియు థర్మల్-ఎక్స్‌పాన్షన్ మ్యాచ్‌తో, AlN పొరలు అధిక-పవర్ RF పరికరాలు, అధిక-వోల్టేజ్ పవర్ ఎలక్ట్రానిక్స్ మరియు డీప్-అల్ట్రావియొలెట్ (DronicVElectronics) కోసం అనువైనవి.

VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క అధిక-స్వచ్ఛత క్వార్ట్జ్ ఫర్నేస్ ట్యూబ్‌లు సెమీకండక్టర్ థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ పరికరాల కోసం కోర్ ప్రాసెస్ ఛాంబర్ భాగాలు. సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ డీహైడ్రాక్సిలేటెడ్ ఫ్యూజ్డ్ క్వార్ట్జ్ నుండి తయారు చేయబడిన ఈ ట్యూబ్‌లు ఆక్సీకరణ ఫర్నేసులు, డిఫ్యూజన్ ఫర్నేసులు, ఎనియలింగ్ ఫర్నేసులు మరియు LPCVD సిస్టమ్‌లలో మూసివున్న ప్రతిచర్య కుహరంగా పనిచేస్తాయి. అవి అసాధారణమైన స్వచ్ఛత, ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు రసాయన ప్రతిఘటనను అందజేస్తాయి, ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత క్షేత్రాలు, స్థిరమైన వాయువు ప్రవాహాన్ని మరియు 4/6/8/12-అంగుళాల పొర ప్రాసెసింగ్ కోసం అతి తక్కువ కాలుష్యాన్ని నిర్ధారిస్తాయి.

Aixtron G10-SiC ప్లాట్‌ఫారమ్ కోసం VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క సాలిడ్ SiC ఉపకరణాలు అధిక-స్వచ్ఛత, పూర్తిగా దట్టమైన సిలికాన్ కార్బైడ్ భాగాలు SiC ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల యొక్క డిమాండ్ ఉన్న ఉష్ణ మరియు రసాయన వాతావరణం కోసం రూపొందించబడ్డాయి. ఈ భాగాలు అత్యద్భుతమైన అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం, రసాయన నిరోధకత మరియు అల్ట్రా-తక్కువ కణ ఉత్పత్తిని అందజేస్తాయి, పవర్ డివైజ్ తయారీలో ఉపయోగించే అధిక-నిర్గమాంశ 9×150 mm / 6×200 mm ప్లానెటరీ రియాక్టర్ కాన్ఫిగరేషన్‌కు మద్దతు ఇస్తుంది.

CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ విడిభాగాల కోసం VETEK ప్రొఫెషనల్ క్లీనింగ్ సర్వీస్ అనేది Aixtron / Veeco MOCVD పరికరాల ససెప్టర్లు మరియు GaN / AlN / AlGaN ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలలో ఉపయోగించే గ్రాఫైట్ భాగాల కోసం రూపొందించబడిన ప్రత్యేక సాంకేతిక సేవ. మా యాజమాన్య శుభ్రపరిచే ప్రక్రియ ఉపరితల మెమరీ ప్రభావాన్ని పూర్తిగా తొలగిస్తుంది, రియాక్టర్‌లో స్థిరమైన గ్యాస్ ప్రవాహాన్ని పునరుద్ధరిస్తుంది మరియు సంపూర్ణ సున్నా మందం నష్టం మరియు సున్నా మెటల్ అవశేషాలతో 100 µm CVD SiC పూతను ఖచ్చితంగా రక్షిస్తుంది.