ఉత్పత్తులు

VeTek సెమీకండక్టర్ నుండి CVD SiC కోటెడ్ RTP ససెప్టర్ సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఉపయోగించే వేగవంతమైన థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ (RTP) మరియు వేగవంతమైన థర్మల్ ఎనియలింగ్ (RTA) పరికరాలను అందిస్తుంది. సబ్‌స్ట్రేట్ అధిక-స్వచ్ఛత ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ నుండి తయారు చేయబడింది, దీని మీద దట్టమైన CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పొర నిక్షిప్తం చేయబడుతుంది. ఈ నిర్మాణం పునరావృతమయ్యే అధిక-ఉష్ణోగ్రత సైక్లింగ్‌లో అధిక ఉష్ణ వాహకత, బలమైన రసాయన జడత్వం మరియు స్థిరమైన డైమెన్షనల్ స్థిరత్వాన్ని అందిస్తుంది.

డిమాండ్ సెమీకండక్టర్ క్రిస్టల్ గ్రోత్ అప్లికేషన్‌ల కోసం, VETEK త్రీ-పీస్ గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ ప్రక్రియకు అవసరమైన స్థిరత్వం, స్వచ్ఛత మరియు ఉష్ణ సమానత్వాన్ని అందిస్తుంది. ఐచ్ఛిక SiC, TaC లేదా PyC కోటింగ్‌లతో హై-గ్రేడ్ ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ నుండి తయారు చేయబడింది-దీని స్ప్లిట్ డిజైన్ సౌలభ్యం కోసం మాత్రమే కాదు. ఇది ఉష్ణ ఒత్తిడిని చురుకుగా తగ్గిస్తుంది, నిర్వహణను వేగవంతం చేస్తుంది మరియు చక్రం తర్వాత చక్రాన్ని నిర్వహిస్తుంది.

VETEK PG (పైరోలైటిక్ గ్రాఫైట్) కోటెడ్ రింగ్ అనేది సెమీకండక్టర్ థర్మల్ ఫీల్డ్ మరియు ఏకరీతి ఉష్ణ పంపిణీ మరియు స్థిరమైన ఉష్ణోగ్రతలు చర్చించలేని స్ఫటిక పెరుగుదల వాతావరణాల కోసం ఉద్దేశించబడింది. అధిక-స్వచ్ఛత కలిగిన గ్రాఫైట్ బేస్‌తో ప్రారంభించి, దట్టమైన పైరోలైటిక్ గ్రాఫైట్ పూతతో పూర్తయింది, ఈ భాగం అసాధారణమైన ఉష్ణ వాహకతను అందిస్తుంది, తీవ్రమైన థర్మల్ షాక్‌ను తట్టుకుంటుంది మరియు తీవ్ర ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఎక్కువ కాలం పాటు దాని కొలతలు నిలుపుకుంటుంది. మీరు క్రిస్టల్ గ్రోత్ ఫర్నేస్‌లు, అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఓవెన్‌లు మరియు సెమీకండక్టర్‌ల కోసం థర్మల్ ఫీల్డ్ అసెంబ్లీలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించే ఈ రింగ్‌లను మీరు కనుగొంటారు-ఎక్కడైనా ఖచ్చితమైన ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ నేరుగా ప్రక్రియ పునరావృతతను మరియు తుది ఉత్పత్తి నాణ్యతను నడిపిస్తుంది.

డిపాజిషన్ ఛాంబర్‌లో మీరు ఎప్పుడైనా అసమాన వాయువు ప్రవాహం లేదా కణ కాలుష్యంతో వ్యవహరించినట్లయితే, VETEK CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ షవర్ హెడ్ దానిని పరిష్కరించడానికి రూపొందించబడింది. ఇది థర్మల్ స్టెబిలిటీ మరియు సులభమైన మ్యాచింగ్ కోసం అధిక-స్వచ్ఛత ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్‌తో మొదలవుతుంది, ఆపై ఉపరితలాన్ని మూసివేసే, తినివేయు వాయువులను (HCl లేదా NF₃ వంటివి) నిరోధించే దట్టమైన CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పూతను పొందుతుంది మరియు అవుట్‌గ్యాసింగ్‌ను నిరోధిస్తుంది. ఫలితంగా పొర అంతటా ఏకరీతి ప్రవాహాన్ని అందించే గ్యాస్ డిస్ట్రిబ్యూషన్ ప్లేట్, అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సీని నిర్వహిస్తుంది మరియు బేర్ గ్రాఫైట్ లేదా క్వార్ట్జ్ కంటే చాలా ఎక్కువసేపు ఉంటుంది - ఇది CVD, PECVD, MOCVD, సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ మరియు SiC ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియలకు విశ్వసనీయమైన భాగం. మేము కస్టమ్ హోల్ నమూనాలు మరియు పరిమాణాలను కూడా అందిస్తాము, ఎందుకంటే ఏ రెండు రియాక్టర్‌లు సరిగ్గా ఒకేలా ఉండవు.

VeTek సెమీకండక్టర్ హై ప్యూరిటీ సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పౌడర్ ప్రత్యేకంగా SiC క్రిస్టల్ గ్రోత్, సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్స్ మరియు అధునాతన సిరామిక్ అప్లికేషన్‌ల కోసం అభివృద్ధి చేయబడింది. అధునాతన శుద్దీకరణ సాంకేతికత మరియు కఠినమైన నాణ్యత నియంత్రణ ద్వారా, మా SiC పౌడర్ అల్ట్రా-తక్కువ అశుద్ధ స్థాయిలు, స్థిరమైన కణ పంపిణీ మరియు డిమాండ్ తయారీ ప్రక్రియలకు అద్భుతమైన అనుగుణ్యతను అందిస్తుంది.

SiC PVT క్రిస్టల్ గ్రోత్ సెటప్‌లలో, గ్రాఫైట్ భాగాలు చాలా కాలం పాటు అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద అమలు చేయబడతాయి. VeTek యొక్క PyC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ రింగ్ ఆ రకమైన విధి కోసం నిర్మించబడింది. పైరోలైటిక్ కార్బన్ పొర CVD ద్వారా అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్‌లో జమ చేయబడుతుంది. ఇది భాగానికి మెరుగైన ఉపరితల స్థిరత్వాన్ని ఇస్తుంది మరియు ఆపరేషన్ సమయంలో తక్కువ కణాలు బయటకు వస్తాయి. ఆవిరి ప్రవాహాన్ని నిర్వహించడానికి మరియు ఫర్నేస్ లోపల వేడి ఎలా వ్యాపిస్తుంది అనేదానిని నిర్వహించడానికి మీరు సాధారణంగా థర్మల్ ఫీల్డ్ ప్రాంతంలో ఉంచుతారు. 2200°C కంటే ఎక్కువగా ఉన్నప్పుడు పూత గ్రాఫైట్ సబ్‌లిమేషన్‌ను నెమ్మదిస్తుంది, ఇది మొత్తం భాగం ఎక్కువసేపు ఉండేలా చేస్తుంది.