ఉత్పత్తులు

వెటెక్సెమికన్ SIC సిరామిక్స్ పొరలు ఒక రకమైన అకర్బన పొర మరియు పొర విభజన సాంకేతిక పరిజ్ఞానంలో ఘన పొర పదార్థాలకు చెందినవి. SIC పొరలను 2000 above కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్ద కాల్చారు. కణాల ఉపరితలం మృదువైన మరియు గుండ్రంగా ఉంటుంది. మద్దతు పొర మరియు ప్రతి పొరలో మూసివేసిన రంధ్రాలు లేదా ఛానెల్‌లు లేవు. అవి సాధారణంగా వేర్వేరు రంధ్రాల పరిమాణాలతో మూడు పొరలతో కూడి ఉంటాయి.

CMP పాలిషింగ్ స్లర్రి (కెమికల్ మెకానికల్ పాలిషింగ్ స్లర్రి) అనేది సెమీకండక్టర్ తయారీ మరియు ఖచ్చితమైన పదార్థ ప్రాసెసింగ్‌లో ఉపయోగించే అధిక-పనితీరు గల పదార్థం. నానో స్థాయిలో ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు ఉపరితల నాణ్యత అవసరాలను తీర్చడానికి రసాయన తుప్పు మరియు యాంత్రిక గ్రౌండింగ్ యొక్క సినర్జిస్టిక్ ప్రభావం క్రింద పదార్థ ఉపరితలం యొక్క చక్కటి ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు పాలిషింగ్ సాధించడం దీని ప్రధాన పని. మీ తదుపరి సంప్రదింపుల కోసం ఎదురు చూస్తున్నాను.

గ్లాస్ కార్బన్ ఉత్పత్తుల యొక్క ప్రముఖ చైనీస్ తయారీదారుగా, వెటెక్సెమికన్ యొక్క గ్లాస్ కార్బన్ క్రూసిబుల్స్ సెమీకండక్టర్ తయారీ రంగంలో వారి అద్భుతమైన అల్ట్రా-హై ప్యూరిటీ, జీరో సచ్ఛిద్రత, యాంటీ-పర్మియేషన్ మరియు అద్భుతమైన రసాయన తుప్పు నిరోధకత కారణంగా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతున్నాయి మరియు యూరోపియన్ మరియు అమెరికన్ కస్టమర్ల నుండి అధిక ప్రశంసలు పొందాయి. మీ విచారణకు స్వాగతం.

సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత ఉత్పత్తుల యొక్క ప్రముఖ చైనీస్ తయారీదారు మరియు సరఫరాదారుగా, ఎచింగ్ కోసం వెటెక్సెమికన్ యొక్క SIC పూత పొర క్యారియర్ దాని అద్భుతమైన అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం, అత్యుత్తమ తుప్పు నిరోధకత మరియు అధిక ఉష్ణ వాహకతతో చెక్కడం ప్రక్రియలో పూడ్చలేని కోర్ పాత్రను పోషిస్తుంది.

వెటెక్సెమికాన్ యొక్క సివిడి సిక్ కోటెడ్ పొర ససెప్టర్ అనేది సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలకు కట్టింగ్-ఎడ్జ్ పరిష్కారం, ఇది అల్ట్రా-హై ప్యూరిటీ (≤100 పిపిబి, ఐసిపి-ఇ 10 సర్టిఫైడ్) మరియు గాన్‌, ఎస్‌ఐసి మరియు సిలికాన్-బిస్డ్ ఎపి-లియర్స్ యొక్క కాంటామినేషన్-రెసిస్టెంట్ పెరుగుదల కోసం అసాధారణమైన ఉష్ణ/రసాయన స్థిరత్వాన్ని అందిస్తుంది. ప్రెసిషన్ సివిడి టెక్నాలజీతో ఇంజనీరింగ్ చేయబడిన ఇది 6 ”/8”/12 ”పొరలకు మద్దతు ఇస్తుంది, కనీస ఉష్ణ ఒత్తిడిని నిర్ధారిస్తుంది మరియు 1600 ° C వరకు తీవ్రమైన ఉష్ణోగ్రతను తట్టుకుంటుంది.

సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క అధిక ఉష్ణోగ్రత ప్రక్రియలో మా SIC పూత ప్లానెటరీ ససెప్టర్ ఒక ప్రధాన భాగం. థర్మల్ మేనేజ్‌మెంట్ పనితీరు, రసాయన స్థిరత్వం మరియు యాంత్రిక బలం యొక్క సమగ్ర ఆప్టిమైజేషన్‌ను సాధించడానికి దీని డిజైన్ సిలికాన్ కార్బైడ్ పూతతో గ్రాఫైట్ ఉపరితలాన్ని మిళితం చేస్తుంది.