పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత

పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత అనేది రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) సాంకేతికతను ఉపయోగించి అత్యంత శుద్ధి చేయబడిన ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ యొక్క ఉపరితలంపై పూసిన పైరోలైటిక్ కార్బన్ యొక్క పలుచని పొర. ఇది అధిక సాంద్రత, అధిక స్వచ్ఛత మరియు అనిసోట్రోపిక్ థర్మల్, ఎలక్ట్రికల్, మాగ్నెటిక్ మరియు మెకానికల్ లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది.

ప్రధాన లక్షణాలు:

● ఉపరితలం దట్టంగా మరియు రంధ్రాలు లేకుండా ఉంటుంది.

● అధిక స్వచ్ఛత, మొత్తం అపరిశుభ్రత కంటెంట్<20ppm, మంచి గాలి చొరబడనిది.

● అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, పెరుగుతున్న వినియోగ ఉష్ణోగ్రతతో బలం పెరుగుతుంది, 2750 ℃ ​​వద్ద అత్యధిక విలువను చేరుకుంటుంది, 3600 ℃ వద్ద సబ్లిమేషన్.

● తక్కువ సాగే మాడ్యులస్, అధిక ఉష్ణ వాహకత, తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం మరియు అద్భుతమైన థర్మల్ షాక్ నిరోధకత.

● మంచి రసాయన స్థిరత్వం, యాసిడ్, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలకు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది మరియు కరిగిన లోహాలు, స్లాగ్ మరియు ఇతర తినివేయు మాధ్యమాలపై ఎటువంటి ప్రభావం ఉండదు. ఇది 400 ℃ కంటే తక్కువ వాతావరణంలో గణనీయంగా ఆక్సీకరణం చెందదు మరియు ఆక్సీకరణ రేటు 800 ℃ వద్ద గణనీయంగా పెరుగుతుంది.

● అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఎటువంటి వాయువును విడుదల చేయకుండా, అది దాదాపు 1800 ℃ వద్ద 10-7mmHg వాక్యూమ్‌ను నిర్వహించగలదు.

ఉత్పత్తి అప్లికేషన్:

● సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో బాష్పీభవనం కోసం మెల్టింగ్ క్రూసిబుల్

● అధిక శక్తి గల ఎలక్ట్రానిక్ ట్యూబ్ గేట్.

● వోల్టేజ్ రెగ్యులేటర్‌ని సంప్రదించే బ్రష్.

● ఎక్స్-రే మరియు న్యూట్రాన్ డిఫ్రాక్షన్ కోసం గ్రాఫైట్ మోనోక్రోమేటర్.

● గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ల వివిధ ఆకారాలు మరియు అటామిక్ అబ్సార్ప్షన్ ట్యూబ్ పూత.

చెక్కుచెదరకుండా మరియు మూసివున్న ఉపరితలంతో 500X సూక్ష్మదర్శిని క్రింద పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత ప్రభావం.