పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత

పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత అనేది రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి) సాంకేతిక పరిజ్ఞానాన్ని ఉపయోగించి అత్యంత శుద్ధి చేసిన ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ యొక్క ఉపరితలంపై పూసిన పైరోలైటిక్ కార్బన్ యొక్క సన్నని పొర. ఇది అధిక సాంద్రత, అధిక స్వచ్ఛత మరియు అనిసోట్రోపిక్ థర్మల్, ఎలక్ట్రికల్, మాగ్నెటిక్ మరియు యాంత్రిక లక్షణాలను కలిగి ఉంటుంది.

ప్రధాన లక్షణాలు:

● ఉపరితలం దట్టంగా మరియు రంధ్రాలు లేకుండా ఉంటుంది.

Purty అధిక స్వచ్ఛత, మొత్తం అశుద్ధత కంటెంట్ <20ppm, మంచి గాలి చొరబడని.

Temperature అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, వినియోగ ఉష్ణోగ్రత పెరగడంతో బలం పెరుగుతుంది, అత్యధిక విలువను 2750 at వద్ద చేరుకుంటుంది, 3600 at వద్ద సబ్లిమేషన్.

Sh తక్కువ సాగే మాడ్యులస్, అధిక ఉష్ణ వాహకత, తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం మరియు అద్భుతమైన థర్మల్ షాక్ నిరోధకత.

రసాయన స్థిరత్వం, ఆమ్లం, క్షార, ఉప్పు మరియు సేంద్రీయ కారకాలకు నిరోధకత, మరియు కరిగిన లోహాలు, స్లాగ్ మరియు ఇతర తినివేయు మాధ్యమాలపై ప్రభావం చూపదు. ఇది 400 about కంటే తక్కువ వాతావరణంలో గణనీయంగా ఆక్సీకరణం చెందదు మరియు ఆక్సీకరణ రేటు 800 at వద్ద గణనీయంగా పెరుగుతుంది.

Hight అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఎటువంటి వాయువును విడుదల చేయకుండా, ఇది సుమారు 1800 at వద్ద 10-7mmhg శూన్యతను నిర్వహించగలదు.

ఉత్పత్తి అనువర్తనం:

Sem సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో బాష్పీభవనం కోసం క్రూసిబుల్ కరిగేది

Power హై పవర్ ఎలక్ట్రానిక్ ట్యూబ్ గేట్.

వోల్టేజ్ రెగ్యులేటర్‌ను సంప్రదించే బ్రష్.

X-ray మరియు న్యూట్రాన్ డిఫ్రాక్షన్ కోసం గ్రాఫైట్ మోనోక్రోమాటర్.

Graph గ్రాఫైట్ ఉపరితలాలు మరియు అణు శోషణ ట్యూబ్ పూత యొక్క వివిధ ఆకారాలు.

చెక్కుచెదరకుండా మరియు మూసివున్న ఉపరితలంతో 500x మైక్రోస్కోప్ కింద పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత ప్రభావం.