పరిశ్రమ వార్తలు

సెమీకండక్టర్ తయారీలో, కెమికల్ మెకానికల్ ప్లానరైజేషన్ (CMP) కీలక పాత్ర పోషిస్తుంది. CMP ప్రక్రియ సిలికాన్ పొరల ఉపరితలాన్ని సున్నితంగా చేయడానికి రసాయన మరియు యాంత్రిక చర్యలను మిళితం చేస్తుంది, సన్నని-ఫిల్మ్ నిక్షేపణ మరియు ఎచింగ్ వంటి తదుపరి దశలకు ఏకరీతి పునాదిని అందిస్తుంది. CMP పాలిషింగ్ స్లర్రీ, ఈ ప్రక్రియ యొక్క ప్రధాన భాగం, పాలిషింగ్ సామర్థ్యం, ​​ఉపరితల నాణ్యత మరియు ఉత్పత్తి యొక్క తుది పనితీరును గణనీయంగా ప్రభావితం చేస్తుంది

వేఫర్ CMP పాలిషింగ్ స్లర్రీ అనేది సెమీకండక్టర్ తయారీలో CMP ప్రక్రియలో ఉపయోగించే ప్రత్యేకంగా రూపొందించబడిన ద్రవ పదార్థం. ఇది నీరు, రసాయన ఎచాంట్లు, అబ్రాసివ్‌లు మరియు సర్ఫ్యాక్టెంట్‌లను కలిగి ఉంటుంది, ఇది రసాయన చెక్కడం మరియు మెకానికల్ పాలిషింగ్ రెండింటినీ అనుమతిస్తుంది.

సిలికాన్ కార్బైడ్ అబ్రాసివ్‌లు సాధారణంగా క్వార్ట్జ్ మరియు పెట్రోలియం కోక్‌లను ప్రాథమిక ముడి పదార్థాలుగా ఉపయోగించి ఉత్పత్తి చేస్తారు. సన్నాహక దశలో, ఈ పదార్థాలు ఫర్నేస్ ఛార్జ్‌లో రసాయనికంగా నిష్పత్తిలో ఉండే ముందు కావలసిన కణ పరిమాణాన్ని సాధించడానికి మెకానికల్ ప్రాసెసింగ్‌కు లోనవుతాయి.

గత కొన్ని సంవత్సరాలుగా, ప్యాకేజింగ్ సాంకేతికత యొక్క కేంద్ర దశ క్రమంగా "పాత సాంకేతికత" - CMP (కెమికల్ మెకానికల్ పాలిషింగ్)కి ఇవ్వబడింది. కొత్త తరం అధునాతన ప్యాకేజింగ్‌లో హైబ్రిడ్ బాండింగ్ ప్రధాన పాత్రగా మారినప్పుడు, CMP క్రమంగా తెర వెనుక నుండి వెలుగులోకి వస్తోంది.

గృహ మరియు వంటగది ఉపకరణాల యొక్క ఎప్పటికప్పుడు అభివృద్ధి చెందుతున్న ప్రపంచంలో, ఒక ఉత్పత్తి ఇటీవల దాని ఆవిష్కరణ మరియు ఆచరణాత్మక అప్లికేషన్-క్వార్ట్జ్ థర్మోస్ బకెట్ కోసం గణనీయమైన దృష్టిని ఆకర్షించింది.

క్వార్ట్జ్ ఉత్పత్తులు సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియలో వాటి అధిక స్వచ్ఛత, అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత మరియు బలమైన రసాయన స్థిరత్వం కారణంగా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతున్నాయి.