ఉత్పత్తులు

వెటెక్సెమికన్ సిక్ కాంటిలివర్ ప్యాడిల్స్ అధిక-స్వచ్ఛత సిలికాన్ కార్బైడ్ సపోర్ట్ ఆర్మ్స్, ఇది క్షితిజ సమాంతర వ్యాప్తి ఫర్నేసులు మరియు ఎపిటాక్సియల్ రియాక్టర్లలో పొర నిర్వహణ కోసం రూపొందించబడింది. అసాధారణమైన ఉష్ణ వాహకత, తుప్పు నిరోధకత మరియు యాంత్రిక బలంతో, ఈ తెడ్డులు సెమీకండక్టర్ పరిసరాలలో డిమాండ్ చేయడంలో స్థిరత్వం మరియు శుభ్రతను నిర్ధారిస్తాయి. కస్టమ్ పరిమాణాలలో లభిస్తుంది మరియు సుదీర్ఘ సేవా జీవితం కోసం ఆప్టిమైజ్ చేయబడింది.

వెటెక్సెమికన్ యొక్క SIC బ్లాక్ సిలికాన్ మరియు నీలమణి పొరల యొక్క అధిక-సామర్థ్య గ్రౌండింగ్ మరియు సన్నబడటం కోసం రూపొందించబడింది. అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకత (≥120 w/m · k), అధిక థర్మల్ షాక్ నిరోధకత మరియు ఉన్నతమైన దుస్తులు నిరోధకత (MOHS ≥9) తో, మా బ్లాక్‌లు ప్రక్రియ స్థిరత్వాన్ని మెరుగుపరుస్తాయి మరియు సాధన మార్పు పౌన frequency పున్యాన్ని తగ్గిస్తాయి. విభిన్న ఉత్పత్తి అవసరాలను తీర్చడానికి అనుకూలీకరించిన ఎంపికలు మరియు వేగవంతమైన డెలివరీతో 120 మిమీ నుండి 480 మిమీ వరకు పరిమాణాలలో లభిస్తుంది.

వెటెక్సెమికన్ చేత సిలికాన్ కార్బైడ్ కోటింగ్ పొర హోల్డర్ MOCVD, LPCVD మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఎనియలింగ్ వంటి అధునాతన సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలలో ఖచ్చితత్వం మరియు పనితీరు కోసం ఇంజనీరింగ్ చేయబడింది. ఏకరీతి సివిడి సిక్ పూతతో, ఈ పొర హోల్డర్ అసాధారణమైన ఉష్ణ వాహకత, రసాయన జడత్వం మరియు యాంత్రిక బలాన్ని నిర్ధారిస్తుంది-కాలుష్యం లేని, అధిక-దిగుబడి పొర ప్రాసెసింగ్ కోసం అవసరం.

వెటెక్సెమికన్ హై-ప్యూరిటీ SIC ఎడ్జ్ రింగులు, ప్రత్యేకంగా సెమీకండక్టర్ ఎచింగ్ పరికరాల కోసం రూపొందించబడ్డాయి, అత్యుత్తమ తుప్పు నిరోధకత మరియు ఉష్ణ స్థిరత్వాన్ని కలిగి ఉంటాయి, పొర దిగుబడిని గణనీయంగా పెంచుతాయి

వెటెక్సెమికన్ SIC సిరామిక్స్ పొరలు ఒక రకమైన అకర్బన పొర మరియు పొర విభజన సాంకేతిక పరిజ్ఞానంలో ఘన పొర పదార్థాలకు చెందినవి. SIC పొరలను 2000 above కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత వద్ద కాల్చారు. కణాల ఉపరితలం మృదువైన మరియు గుండ్రంగా ఉంటుంది. మద్దతు పొర మరియు ప్రతి పొరలో మూసివేసిన రంధ్రాలు లేదా ఛానెల్‌లు లేవు. అవి సాధారణంగా వేర్వేరు రంధ్రాల పరిమాణాలతో మూడు పొరలతో కూడి ఉంటాయి.

CMP పాలిషింగ్ స్లర్రీ (కెమికల్ మెకానికల్ పాలిషింగ్ స్లర్రీ) అనేది సెమీకండక్టర్ తయారీ మరియు ఖచ్చితమైన మెటీరియల్ ప్రాసెసింగ్‌లో ఉపయోగించే అధిక-పనితీరు గల పదార్థం. నానో స్థాయిలో ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు ఉపరితల నాణ్యత అవసరాలను తీర్చడానికి రసాయన తుప్పు మరియు మెకానికల్ గ్రౌండింగ్ యొక్క సినర్జిస్టిక్ ప్రభావంతో మెటీరియల్ ఉపరితలం యొక్క చక్కటి ఫ్లాట్‌నెస్ మరియు పాలిషింగ్ సాధించడం దీని ప్రధాన విధి. మీ తదుపరి సంప్రదింపుల కోసం ఎదురు చూస్తున్నాను.