CVD TaC కోటెడ్ ససెప్టర్

ఉత్పత్తి నిర్వచనం మరియు కూర్పు

VETEK CVD TaC కోటెడ్ ససెప్టర్ అనేది మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ (SiC, GaN, AlN) ఎపిటాక్సియల్ ప్రాసెసింగ్ కోసం ప్రత్యేకంగా ఉపయోగించే ఒక హై-ఎండ్ వేఫర్ క్యారియర్ భాగం. ఈ ఉత్పత్తి రెండు అధిక-పనితీరు పదార్థాల భౌతిక ప్రయోజనాలను మిళితం చేస్తుంది:

హై-ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్: సబ్‌స్ట్రేట్ ఉన్నతమైన నిర్మాణ బలం, అధిక సాంద్రత మరియు థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ స్థిరత్వాన్ని కలిగి ఉండేలా ఐసోస్టాటిక్ ప్రెస్సింగ్ మోల్డింగ్ ప్రక్రియను ఉపయోగిస్తుంది.

CVD TaC పూత: అధునాతన రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) సాంకేతికత ద్వారా గ్రాఫైట్ ఉపరితలంపై దట్టమైన, ఒత్తిడి లేని టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) రక్షణ పొరను పెంచుతారు.

ప్రధాన సాంకేతిక ప్రయోజనాలు: అసాధారణమైన పర్యావరణ అనుకూలత

MOCVD ప్రక్రియలో, TaC పూత అనేది భౌతిక రక్షణ పొర మాత్రమే కాదు, ప్రక్రియ పునరావృతమయ్యేలా నిర్ధారించడానికి ప్రధాన అంశం కూడా:

విపరీతమైన అధిక ఉష్ణోగ్రతలకు సహనం: TaC 3880°C కంటే ఎక్కువ ద్రవీభవన స్థానం కలిగి ఉంది, 1600°C కంటే ఎక్కువ అల్ట్రా-అధిక ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలలో కూడా అద్భుతమైన ఆకృతి స్థిరత్వాన్ని నిర్వహిస్తుంది.

అద్భుతమైన తుప్పు నిరోధకత: NH₃(అమోనియా) లేదా H₂(హైడ్రోజన్) కలిగిన బలమైన తగ్గింపు పరిసరాలలో, TaC యొక్క తుప్పు రేటు చాలా తక్కువగా ఉంటుంది, ఇది ఉపరితల నష్టం మరియు అశుద్ధ అవక్షేపాలను సమర్థవంతంగా నివారిస్తుంది.

అల్ట్రా-అధిక స్వచ్ఛత హామీ: పూత స్వచ్ఛత 99.9995% వరకు ఉంటుంది. దీని దట్టమైన నిర్మాణం గ్రాఫైట్ మైక్రోపోర్‌లను పూర్తిగా మూసివేస్తుంది, ఎపిటాక్సియల్ ఫిల్మ్ చాలా తక్కువ మలిన స్థాయికి చేరుకునేలా చేస్తుంది.

ఖచ్చితమైన థర్మల్ ఫీల్డ్ పంపిణీ: VETEK యొక్క ఆప్టిమైజ్ చేసిన పూత నియంత్రణ సాంకేతికత ససెప్టర్ ఉపరితల ఉష్ణోగ్రత వ్యత్యాసం ±2°C లోపల నియంత్రించబడుతుందని నిర్ధారిస్తుంది, ఇది పొర ఎపిటాక్సియల్ పొర యొక్క మందం మరియు తరంగదైర్ఘ్యం అనుగుణ్యతను గణనీయంగా మెరుగుపరుస్తుంది.

సాంకేతిక పారామితులు

మైక్రోస్కోపిక్ క్రాస్-సెక్షన్‌పై టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూత:

కోర్ అప్లికేషన్ ఫీల్డ్స్

SiC (సిలికాన్ కార్బైడ్) ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్: 6-అంగుళాల, 8-అంగుళాల మరియు పెద్ద సైజు SiC పవర్ పరికరాల ఉత్పత్తికి మద్దతు ఇస్తుంది.

GaN (గాలియం నైట్రైడ్) ఆధారిత పరికరాలు: అధిక-ప్రకాశవంతమైన LEDలు, HEMT పవర్ పరికరాలు మరియు RF చిప్‌ల కోసం MOCVD ప్రక్రియలలో ఉపయోగించబడుతుంది.

AlN (అల్యూమినియం నైట్రైడ్) మరియు UVC గ్రోత్: డీప్ UV LEDల వంటి అల్ట్రా-వైడ్ బ్యాండ్‌గ్యాప్ మెటీరియల్‌ల కోసం తీవ్ర అధిక-ఉష్ణోగ్రత (1400°C+) క్యారియర్ సొల్యూషన్‌లను అందిస్తుంది.

అనుకూలీకరించిన పరిశోధన మద్దతు: వివిధ క్రమరహిత భాగాలు మరియు బహుళ-రంధ్రాల డిస్క్‌ల కోసం పరిశోధనా సంస్థల యొక్క ఖచ్చితమైన అనుకూలీకరణ అవసరాలకు అనుగుణంగా ఉంటుంది.

అనుకూల నమూనాలు మరియు అనుకూలీకరణ సేవలు

VETEK ఖచ్చితమైన మెకానికల్ ప్రాసెసింగ్ మరియు పూత సామర్థ్యాలను కలిగి ఉంది, ప్రపంచ ప్రధాన స్రవంతి MOCVD పరికరాలకు సంపూర్ణంగా అనుగుణంగా ఉంటుంది:

AIXTRON: వివిధ ప్లానెటరీ రొటేషన్ డిస్క్‌లు మరియు బేస్‌లకు మద్దతు ఇస్తుంది.

వీకో: K465i, ప్రొపెల్ మరియు ఇతర నిలువు ససెప్టర్ సిరీస్‌లకు మద్దతు ఇస్తుంది.