ఉత్పత్తులు

వేఫర్ క్యారియర్ కోసం VETEK CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ అనేది సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియల కోసం రూపొందించబడిన అధిక-పనితీరు గల పొర మద్దతు భాగం. ఉత్పత్తి అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్‌ను సబ్‌స్ట్రేట్‌గా ఉపయోగిస్తుంది మరియు ఏకరీతి CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పొరతో పూత పూయబడి, అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం, రసాయన నిరోధకత మరియు కణ నియంత్రణను అందిస్తుంది. క్లిష్టమైన గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ కాంపోనెంట్‌గా, ఇది రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లోని పొరలకు నేరుగా మద్దతు ఇస్తుంది మరియు ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత పంపిణీ మరియు స్థిరమైన ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల పరిస్థితులను నిర్వహించడానికి సహాయపడుతుంది.

VeTek సెమీకండక్టర్ అధిక-దిగుబడి SiC క్రిస్టల్ గ్రోత్ (PVT ప్రక్రియ), సెమీకండక్టర్ సబ్‌స్ట్రేట్ ఉత్పత్తి మరియు అధునాతన ఫంక్షనల్ సిరామిక్స్ కోసం ప్రత్యేకంగా రూపొందించబడిన ప్రీమియం-గ్రేడ్ హై ప్యూరిటీ సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పౌడర్‌ను అందిస్తుంది. అల్ట్రా-క్లీన్ ప్యూరిఫికేషన్ టెక్నాలజీ ద్వారా ప్రాసెస్ చేయబడిన, మా అధిక స్వచ్ఛత కలిగిన SiC ముడి పదార్థం అనూహ్యంగా తక్కువ ట్రేస్ మెటల్ స్థాయిలు, పునరుత్పాదక సబ్లిమేషన్ పనితీరు మరియు కఠినమైన సెమీకండక్టర్ తయారీ అవసరాలను తీర్చడానికి అత్యంత స్థిరమైన బ్యాచ్-టు-బ్యాచ్ నాణ్యతను అందిస్తుంది.

TEL సెమీకండక్టర్ పరికరాల కోసం VETEK హై ప్యూరిటీ క్వార్ట్జ్ వేఫర్ బోట్ సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ క్వార్ట్జ్ మెటీరియల్ నుండి తయారు చేయబడింది మరియు వ్యాప్తి, ఆక్సీకరణ, ఎనియలింగ్ మరియు CVD వంటి అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్రక్రియలలో పొర నిర్వహణ కోసం రూపొందించబడింది. అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం, రసాయన నిరోధకత మరియు తక్కువ కాలుష్య లక్షణాలతో, ఇది సెమీకండక్టర్ తయారీ అనువర్తనాలకు నమ్మకమైన పొర మద్దతును అందిస్తుంది.

VETEK పోరస్ TaC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ రింగ్ అనేది PVT (భౌతిక ఆవిరి రవాణా) ప్రక్రియ ద్వారా SiC సింగిల్ క్రిస్టల్ పెరుగుదల కోసం రూపొందించబడిన థర్మల్ ఫీల్డ్ భాగం. ఇది అధిక స్వచ్ఛత పోరస్ గ్రాఫైట్ నుండి ఉత్పత్తి చేయబడుతుంది మరియు CVD సాంకేతికతను ఉపయోగించి టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC)తో పూత పూయబడింది. డిజైన్ అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం, రసాయన స్థితిస్థాపకత మరియు నియంత్రిత థర్మల్ ఫీల్డ్ పనితీరును లక్ష్యంగా చేసుకుంటుంది. కాలుష్యాన్ని తగ్గించడం ద్వారా మరియు ప్రక్రియ అనుగుణ్యతకు మద్దతు ఇవ్వడం ద్వారా, ఈ భాగం పునరుత్పాదక SiC క్రిస్టల్ వృద్ధి ఫలితాలకు దోహదం చేస్తుంది.

VETEK CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) కోటెడ్ గ్రాఫైట్ RTP RTA క్యారియర్ సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఉపయోగించే వేగవంతమైన థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ (RTP) మరియు ర్యాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్ (RTA) సిస్టమ్‌ల కోసం రూపొందించబడింది. దట్టమైన CVD SiC పూతతో అధిక-స్వచ్ఛత ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ నుండి తయారు చేయబడింది, ఇది అత్యుత్తమ ఉష్ణ స్థిరత్వం, అద్భుతమైన ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపత, ఉన్నతమైన రసాయన నిరోధకత మరియు అల్ట్రా-తక్కువ కణాల ఉత్పత్తిని అందిస్తుంది. పునరావృత వేగవంతమైన తాపన మరియు శీతలీకరణ చక్రాలను తట్టుకునేలా రూపొందించబడిన క్యారియర్, సిలికాన్ వేఫర్ ఎనియలింగ్ మరియు ఇతర అధిక-ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ అప్లికేషన్‌ల కోసం నమ్మకమైన పొర మద్దతు మరియు స్థిరమైన ప్రక్రియ పనితీరును నిర్ధారిస్తుంది.

VETEK CVD TaC కోటెడ్ ససెప్టర్ అధిక-స్వచ్ఛత కలిగిన ఐసోస్టాటిక్ గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ను దట్టమైన CVD టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూతతో మిళితం చేసి అసాధారణమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం, తుప్పు నిరోధకత మరియు సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ డిమాండ్ కోసం తక్కువ కణాల ఉత్పత్తిని అందిస్తుంది. SiC, GaN మరియు AlN ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల కోసం రూపొందించబడింది, ఇది కాలుష్యాన్ని తగ్గిస్తుంది, పొర ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపతను మెరుగుపరుస్తుంది మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత MOCVD మరియు CVD ప్రక్రియలలో కాంపోనెంట్ సేవా జీవితాన్ని పొడిగిస్తుంది.