పైరోలైటిక్ కార్బన్ (PyC) కోటెడ్ గ్రాఫైట్ రింగ్స్: అధిక-ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ తయారీలో విశ్వసనీయతను మెరుగుపరచడం

పెద్ద పొరలు, ఎప్పటికప్పుడు అధిక శక్తి సాంద్రతలు మరియు మరింత క్లిష్టమైన ప్రక్రియ శ్రేణుల కోసం పుష్ సెమీకండక్టర్ ఫాబ్రికేషన్ పరికరాలలో ఉపయోగించే పదార్థాలపై అపూర్వమైన డిమాండ్‌లను కలిగిస్తోంది. రియాక్టర్లు మరియు థర్మల్ సిస్టమ్స్ లోపల కూర్చున్న భాగాలు ఇప్పుడు తీవ్ర ఉష్ణోగ్రతలు, దూకుడు రసాయన వాతావరణాలు మరియు పదేపదే థర్మల్ సైక్లింగ్‌ను భరించవలసి ఉంటుంది-ఇవన్నీ గట్టి డైమెన్షనల్ టాలరెన్స్‌లను కొనసాగిస్తూ వాస్తవంగా ఎటువంటి కలుషితాలను విడుదల చేయవు.

ఈ సవాళ్లను ఎదుర్కొనేందుకు ఉద్భవించిన అధునాతన మెటీరియల్ సొల్యూషన్స్‌లో, పైరోలైటిక్ కార్బన్ (PyC) పూతతో కూడిన గ్రాఫైట్ రింగులు ప్రత్యేకించి బలమైన పట్టు సాధించాయి. అవి ఇప్పుడు సిలికాన్ కార్బైడ్ క్రిస్టల్ పెరుగుదల, ఎపిటాక్సియల్ డిపాజిషన్, CVD ప్రక్రియలు మరియు ఇతర అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఉష్ణ చికిత్సల కోసం విస్తృతంగా పేర్కొనబడ్డాయి. Vetek సెమీకండక్టర్ వద్ద, మేము మా R&D ప్రయత్నాలను పైరోలైటిక్ కార్బన్ కోటింగ్ టెక్నాలజీలపై కేంద్రీకరించాము, ఇవి ఫ్యాబ్‌లు మరింత స్థిరమైన ప్రక్రియలు, ఎక్కువ కాలం జీవితకాలం మరియు తక్కువ మొత్తం నిర్వహణ ఖర్చులను సాధించడంలో సహాయపడతాయి.

నేటి ప్రక్రియలలో అసురక్షిత గ్రాఫైట్ ఎందుకు తక్కువగా ఉంటుంది?

గ్రాఫైట్ చాలా కాలంగా సెమీకండక్టర్ థర్మల్ సిస్టమ్‌లకు పని చేసే పదార్థంగా ఉంది, దాని మంచి ఉష్ణ వాహకత, తక్కువ బరువు మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రతలను నిర్వహించగల సామర్థ్యం కారణంగా. కానీ బేర్ గ్రాఫైట్, దాని స్వంతదానిపై, నేటి అధునాతన ప్రక్రియల కోసం దానిని తగ్గించదు.

ఉదాహరణకు, SiC PVT క్రిస్టల్ పెరుగుదల, MOCVD ఎపిటాక్సీ, CVD నిక్షేపణ, వ్యాప్తి మరియు ఆక్సీకరణ దశలు లేదా అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఎనియలింగ్‌ను తీసుకోండి. వీటిలో ప్రతిదానిలో, గ్రాఫైట్ భాగాలు మామూలుగా 1500°C కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతలు, హైడ్రోజన్, అమ్మోనియా, క్లోరిన్-బేరింగ్ వాయువులు మరియు తరచుగా థర్మల్ అప్-అండ్-డౌన్ సైకిల్స్ వంటి పరిస్థితులకు బహిర్గతమవుతాయి. కాలక్రమేణా, చికిత్స చేయని గ్రాఫైట్ ఉపరితల కోత, కణాల తొలగింపు, రసాయన దాడి, క్షీణించిన ఉష్ణ ఏకరూపత మరియు గుర్తించదగిన తక్కువ సేవా జీవితాన్ని చూపడం ప్రారంభిస్తుంది. ప్రాసెసింగ్ సమయంలో ఉత్పన్నమయ్యే చిన్న కణాలు కూడా పొరలపైకి దిగి దిగుబడిని దెబ్బతీస్తాయి.

అందుకే ఆధునిక సెమీకండక్టర్ తయారీలో అధునాతన ఉపరితల రక్షణ అనేది చర్చించలేని భాగంగా మారింది.

నిజానికి పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత అంటే ఏమిటి?

పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూత అనేది ప్రత్యేకమైన రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) మార్గాన్ని ఉపయోగించి ఉత్పత్తి చేయబడుతుంది, దీనిలో దట్టమైన, అధిక ఆర్డర్ చేయబడిన కార్బన్ పొర అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ ఉపరితలంపై నిక్షిప్తం చేయబడుతుంది. సాంప్రదాయిక కార్బన్ పూతలతో PyC ని వేరుగా ఉంచేది దాని బాగా ఆర్డర్ చేయబడిన మైక్రోస్ట్రక్చర్, ఇది అసాధారణమైన ఉష్ణ, యాంత్రిక మరియు రసాయన పనితీరుగా అనువదిస్తుంది.

Vetek సెమీకండక్టర్ వద్ద, మా పైరోలైటిక్ కార్బన్ పూతలు అనేక ఆచరణాత్మక ప్రయోజనాలను అందించడానికి రూపొందించబడ్డాయి:

• అధిక స్వచ్ఛత - మొత్తం మలినాలు 20ppm కంటే తక్కువగా ఉంచబడతాయి, అద్భుతమైన గ్యాస్ బిగుతుతో, పూత అల్ట్రా-క్లీన్ సెమీకండక్టర్ పరిసరాలకు అనుకూలంగా ఉంటుంది.
• అత్యుత్తమ ఉష్ణ స్థిరత్వం - అల్ట్రా-అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద పూత స్థిరంగా ఉంటుంది; వాస్తవానికి, ఉష్ణోగ్రత పెరిగేకొద్దీ దాని యాంత్రిక బలం పెరుగుతుంది, గరిష్ట పనితీరు 2750°C మరియు సబ్లిమేషన్ పాయింట్ 3600°C వరకు ఉంటుంది.
• అద్భుతమైన థర్మల్ షాక్ రెసిస్టెన్స్ - తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం, అధిక ఉష్ణ వాహకత మరియు తక్కువ సాగే మాడ్యులస్ కారణంగా, PyC వేగవంతమైన ఉష్ణోగ్రత మార్పులకు చాలా బాగా నిలుస్తుంది.
• విస్తృత రసాయన స్థిరత్వం - ఇది ఆమ్లాలు, ఆల్కాలిస్, లవణాలు, సేంద్రీయ కారకాలు మరియు కరిగిన లోహాలకు కూడా నిరోధిస్తుంది.
• అల్ట్రా-తక్కువ అవుట్‌గ్యాసింగ్ - దాదాపు 1800°C వద్ద, PyC గణనీయమైన గ్యాస్ విడుదల లేకుండా దాదాపు 10⁻⁷mmHg వాక్యూమ్ స్థాయిని నిర్వహించగలదు.

ఈ లక్షణాలన్నీ PyC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్‌ను కఠినమైన సెమీకండక్టర్ అప్లికేషన్‌లకు నమ్మదగిన ఎంపికగా చేస్తాయి.

పైరోలైటిక్ కార్బన్ కోటెడ్ రింగులు ఎక్కడ ఎక్కువగా ఉపయోగించబడతాయి?

1. PVT ద్వారా SiC క్రిస్టల్ పెరుగుదల

భౌతిక ఆవిరి రవాణా అనేది సెమీకండక్టర్ ప్రపంచంలో అత్యంత డిమాండ్ ఉన్న ప్రక్రియలలో ఒకటి, సాధారణ ఆపరేటింగ్ ఉష్ణోగ్రతలు 2300-2500°C పరిధిలో ఉంటాయి. PyC-కోటెడ్ గ్రాఫైట్ రింగులు సాధారణంగా థర్మల్ ఫీల్డ్ సిస్టమ్స్, ససెప్టర్లు, క్రూసిబుల్స్, హీట్ షీల్డ్స్ మరియు స్ట్రక్చరల్ సపోర్టులలో ఉపయోగించబడతాయి. వినియోగదారులు తక్కువ కాలుష్య ప్రమాదం, మరింత స్థిరమైన థర్మల్ ఫీల్డ్‌లు, ఎక్కువ భాగం జీవితం మరియు మరింత స్థిరమైన క్రిస్టల్ పెరుగుదల పరిస్థితులను నివేదిస్తారు. కొన్ని సందర్భాల్లో, తయారీదారులు 15-20% అధిక వృద్ధి సామర్థ్యాన్ని మరియు 90% కంటే ఎక్కువ వేఫర్ దిగుబడిని చూశారు.

2. సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ (SiC మరియు GaN)

ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల కోసం, పొర అంతటా ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపత చలనచిత్ర నాణ్యతకు ఖచ్చితంగా కీలకం. PyC-పూతతో కూడిన గ్రాఫైట్ భాగాలు ఏకరీతి ఉష్ణ పంపిణీని అందించడం మరియు కణ ఉత్పత్తిని తగ్గించడం ద్వారా మరింత స్థిరమైన వృద్ధి వాతావరణాన్ని సృష్టించడంలో సహాయపడతాయి. చెల్లింపు అనేది మెరుగైన ప్రక్రియ అనుగుణ్యత, లోపం సాంద్రతలు 0.05 లోపాలు/సెం² కంటే తక్కువ, మరియు పొర ఏకరూపతకు మెరుగైన పొర, ఇవన్నీ నేరుగా అధిక ఉత్పత్తి దిగుబడికి అనువదిస్తాయి.

3. అధిక-ఉష్ణోగ్రత వ్యాప్తి మరియు ఆక్సీకరణ

ఈ పూతతో కూడిన రింగులు వ్యాప్తి ఫర్నేసులు, ఆక్సీకరణ ఫర్నేసులు మరియు ఎనియలింగ్ వ్యవస్థలలో కూడా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి. థర్మల్ షాక్‌కు వారి బలమైన ప్రతిఘటన వాటిని పునరావృత తాపన మరియు శీతలీకరణ చక్రాలను కనిష్ట క్షీణతతో జీవించడానికి అనుమతిస్తుంది. ఆచరణలో, నిర్వహణ విరామాలను తరచుగా మూడు నెలల నుండి ఆరు నెలల వరకు పొడిగించవచ్చు, ఇది పరికరాల లభ్యతను పెంచుతుంది మరియు పనికిరాని సమయాన్ని తగ్గిస్తుంది.

ఇతర సెమీకండక్టర్ పూత సాంకేతికతలకు వ్యతిరేకంగా పైరోలైటిక్ కార్బన్

వేర్వేరు ప్రక్రియలు వేర్వేరు పూత పరిష్కారాల కోసం పిలుపునిస్తాయి, అందుకే Vetek సెమీకండక్టర్ నిర్దిష్ట ఆపరేటింగ్ వాతావరణాలకు సరిపోయేలా అధునాతన సాంకేతికతలను అందిస్తుంది.

CVD SiC పూత 99.99999% వరకు స్వచ్ఛత, అద్భుతమైన రసాయన నిరోధకత, తక్కువ కణాల ఉత్పత్తి మరియు సుదీర్ఘ సేవా జీవితాన్ని అందిస్తుంది. ఇది సాధారణంగా SiC మరియు GaN ఎపిటాక్సీ, MOCVD రియాక్టర్లు మరియు PECVD సిస్టమ్‌లలో ఉపయోగించబడుతుంది.

CVD TaC పూత ఉన్నతమైన ఆక్సీకరణ నిరోధకత, అద్భుతమైన అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం మరియు అత్యుత్తమ దుస్తులు నిరోధకతను అందిస్తుంది, ఇది SiC సింగిల్-క్రిస్టల్ పెరుగుదల మరియు మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ తయారీకి గో-టు ఎంపికగా చేస్తుంది.

బహుళ పూత ఎంపికలను అందించడం ద్వారా, మేము కస్టమర్‌లు వారి ప్రాసెస్ ఫ్లోలో ప్రతి నిర్దిష్ట దశకు అత్యంత సముచితమైన మెటీరియల్‌ని ఎంచుకోవడానికి వీలు కల్పిస్తాము.

తయారీ పరంగా ఏ వెటెక్ సెమీకండక్టర్ టేబుల్‌కి తీసుకువస్తుంది?

నమ్మదగిన సెమీకండక్టర్ భాగాలను ఉత్పత్తి చేయడం అనేది అధునాతన పదార్థాల గురించి మాత్రమే కాదు-ఇది ఖచ్చితమైన మ్యాచింగ్ మరియు కఠినమైన నాణ్యత నియంత్రణపై కూడా ఆధారపడి ఉంటుంది. Vetek సెమీకండక్టర్ మెటీరియల్ ప్యూరిఫికేషన్, CNC ప్రెసిషన్ మ్యాచింగ్, పైరోలైటిక్ కార్బన్ కోటింగ్, CVD SiC కోటింగ్, CVD TaC కోటింగ్ మరియు సమగ్ర తనిఖీని కవర్ చేసే ఇంటిగ్రేటెడ్ మ్యానుఫ్యాక్చరింగ్ ప్లాట్‌ఫారమ్‌ను నిర్వహిస్తుంది.

మా ఖచ్చితమైన మ్యాచింగ్ డైమెన్షనల్ టాలరెన్స్‌లను ±3μm వరకు కలిగి ఉంటుంది మరియు మేము సంక్లిష్ట జ్యామితిలను నిర్వహించగలము. మేము పెద్ద-పరిమాణ ప్రాసెసింగ్ సామర్థ్యాన్ని కూడా కలిగి ఉన్నాము: 2000mm వ్యాసం మరియు 2000mm ఎత్తు వరకు భాగాలు మా సామర్థ్యంలో ఉంటాయి. సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ స్వచ్ఛత ప్రోటోకాల్‌లను అనుసరించి, అన్ని ఉత్పత్తి కఠినమైన కాలుష్య నిర్వహణలో నిర్వహించబడుతుంది.

అప్లైడ్ మెటీరియల్స్, లామ్ రీసెర్చ్, వీకో, ఐక్స్‌ట్రాన్, ASM, TEL మరియు LPE వంటి వాటితో సహా ప్రధాన పరికరాల ప్లాట్‌ఫారమ్‌ల కోసం మా భాగాలు డ్రాప్-ఇన్ రీప్లేస్‌మెంట్‌ల కోసం రూపొందించబడ్డాయి, కాబట్టి కస్టమర్‌లు గణనీయమైన పరికరాల మార్పులు లేకుండా అప్‌గ్రేడ్ చేయవచ్చు.

అధునాతన పూత యొక్క దీర్ఘకాలిక విలువ

యాజమాన్యం యొక్క మొత్తం వ్యయాన్ని తగ్గించడం పరిశ్రమ అంతటా ప్రాధాన్యతనిస్తుంది మరియు అధునాతన పూత సాంకేతికతలు కొలవగల రాబడిని అందిస్తాయి. వినియోగదారులు సాధారణంగా 40% వరకు తక్కువ వినియోగించదగిన ఖర్చులు, 15-20% అధిక స్ఫటిక వృద్ధి సామర్థ్యం, ​​పొడిగించిన నిర్వహణ విరామాలు, తగ్గిన పరికరాల పనికిరాని సమయం, మెరుగైన వేఫర్ దిగుబడి మరియు ఎక్కువ భాగం సేవ జీవితాన్ని చూస్తారు.

సెమీకండక్టర్ తయారీ పెద్ద SiC పొరలు, అధిక-శక్తి పరికరాలు మరియు మరింత డిమాండ్ ఉన్న ఉష్ణ వాతావరణాల వైపు కదులుతున్నప్పుడు, ఉపరితల ఇంజనీరింగ్ ప్రాముఖ్యతను పెంచుతుంది. పైరోలైటిక్ కార్బన్ కోటెడ్ గ్రాఫైట్ రింగ్‌లు, CVD SiC మరియు CVD TaC సాంకేతికతలతో పాటు, మరింత సమర్థవంతమైన, విశ్వసనీయమైన మరియు కొలవగల ఉత్పత్తి వ్యవస్థలను నిర్మించడంలో ప్రధాన పాత్ర పోషిస్తున్నాయి.

Vetek సెమీకండక్టర్ గురించి

Vetek సెమీకండక్టర్ అధిక-ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ తయారీ కోసం అధునాతన పదార్థాలు మరియు పూత సాంకేతికతలలో ప్రత్యేకత కలిగి ఉంది. మా ఉత్పత్తి పోర్ట్‌ఫోలియోలో పైరోలైటిక్ కార్బన్ (PyC) పూత, CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పూత, CVD టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూత, అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ భాగాలు, ఘన CVD SiC భాగాలు మరియు పూర్తి థర్మల్ ఫీల్డ్ సొల్యూషన్‌లు ఉన్నాయి. మెటీరియల్ సైన్స్ నైపుణ్యం, ఖచ్చితత్వ తయారీ మరియు లోతైన ప్రక్రియ పరిజ్ఞానాన్ని కలపడం ద్వారా, మేము తదుపరి తరం సెమీకండక్టర్ ఉత్పత్తికి నమ్మదగిన పరిష్కారాలను అందిస్తాము.