LPE రియాక్షన్ ఛాంబర్ కోసం హాఫ్మూన్

LPE రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లో హాఫ్‌మూన్ అంటే ఏమిటి?

అనేక LPE క్షితిజ సమాంతర రియాక్టర్లలో, హాఫ్మూన్ అంతర్గత గది అసెంబ్లీలో భాగం. వేర్వేరు పరికరాల తయారీదారులు కొద్దిగా భిన్నమైన నిర్మాణాలను ఉపయోగించవచ్చు, కానీ ఫంక్షన్ సాధారణంగా సమానంగా ఉంటుంది. భాగం సాధారణంగా ఎగువ మరియు దిగువ విభాగాలుగా విభజించబడింది:

• అప్పర్ హాఫ్మూన్:ఎగువ భాగం ప్రధానంగా రియాక్టర్ లోపల సహాయక నిర్మాణంగా పనిచేస్తుంది. ఇది చాలా కాలం పాటు అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్రక్రియ జోన్‌కు దగ్గరగా ఉన్నందున, పదేపదే ఉష్ణ చక్రాల తర్వాత స్పష్టమైన వైకల్యం లేకుండా పదార్థం స్థిరంగా ఉండాలి. మరో ముఖ్యమైన అంశం రసాయన స్థిరత్వం. SiC ఎపిటాక్సీ సమయంలో, ఛాంబర్ వాతావరణంలో రియాక్టివ్ వాయువులు ఉంటాయి, కాబట్టి గ్రాఫైట్ ఉపరితలం సరిగ్గా రక్షించబడాలి.
• లోయర్ హాఫ్మూన్:దిగువ విభాగం క్వార్ట్జ్ ట్యూబ్ ప్రాంతం మరియు తిరిగే అసెంబ్లీకి సమీపంలో అనుసంధానించబడి ఉంది. ఇది ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల సమయంలో గ్యాస్ పరిచయం మరియు యాంత్రిక మద్దతులో పాల్గొంటుంది. సాధారణ గ్రాఫైట్ నిర్మాణ భాగాలతో పోలిస్తే, దిగువ హాఫ్‌మూన్ సాధారణంగా రియాక్టర్ ఆపరేషన్ సమయంలో నిరంతర వేడి మరియు శీతలీకరణ కారణంగా ఆక్సీకరణ నిరోధకత మరియు థర్మల్ షాక్ స్థిరత్వం కోసం అధిక అవసరాలను ఎదుర్కొంటుంది.

LPE రియాక్షన్ ఛాంబర్ కోసం VETEK హాఫ్‌మూన్ యొక్క ముఖ్య లక్షణాలు

1. అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్

ప్రాథమిక పదార్థం సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియ పరిసరాలకు అనువైన అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్. SiC ఎపిటాక్సీలో మెటీరియల్ స్వచ్ఛత ముఖ్యం ఎందుకంటే లోహ కాలుష్యం క్రిస్టల్ గ్రోత్ స్టెబిలిటీ మరియు ఫిల్మ్ క్వాలిటీని ప్రభావితం చేయవచ్చు. VETEK ఈ అప్లికేషన్ కోసం నియంత్రిత అశుద్ధ స్థాయిలతో శుద్ధి చేయబడిన గ్రాఫైట్ పదార్థాలను ఉపయోగిస్తుంది.

2. అధునాతన CVD SiC & TaC కోటింగ్

అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్రక్రియ పరిస్థితులలో ఉపరితల రక్షణను మెరుగుపరచడానికి చాలా హాఫ్‌మూన్ భాగాలు CVD SiCతో పూత పూయబడి ఉంటాయి. మరింత డిమాండ్ ఉన్న పరిసరాల కోసం, TaC పూత కూడా అందుబాటులో ఉంది. పూతతో కూడిన నిర్మాణాల యొక్క సాధారణ ప్రయోజనాలు:

• తినివేయు ప్రక్రియ వాయువులకు మెరుగైన ప్రతిఘటన
• తక్కువ కణ ఉత్పత్తి
• మెరుగైన ఉపరితల మన్నిక
• థర్మల్ సైక్లింగ్ సమయంలో మెరుగైన స్థిరత్వం

ఆచరణాత్మక ఉపయోగంలో, పూత ఎంపిక సాధారణంగా రియాక్టర్ ఉష్ణోగ్రత, ప్రాసెస్ కెమిస్ట్రీ మరియు ఆశించిన సేవా జీవితకాలంపై ఆధారపడి ఉంటుంది.

3. అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం

అధిక-ఉష్ణోగ్రత సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ పరిసరాల కోసం రూపొందించబడిన, VETEK హాఫ్‌మూన్ దీర్ఘకాల ఎపిటాక్సియల్ సైకిల్స్ సమయంలో డైమెన్షనల్ స్టెబిలిటీ మరియు స్ట్రక్చరల్ ఇంటెగ్రిటీని నిర్వహిస్తుంది, ఇది LPE మరియు MOCVD పరికరాలకు అత్యంత అనుకూలంగా ఉంటుంది.

4. ప్రెసిషన్ CNC మ్యాచింగ్

VETEK మైక్రోన్-లెవల్ డైమెన్షనల్ కంట్రోల్‌తో అధునాతన CNC ప్రెసిషన్ మ్యాచింగ్ సామర్థ్యాలను కలిగి ఉంది, సంక్లిష్టమైన LPE రియాక్టర్ నిర్మాణాలు మరియు అనుకూలీకరించిన పరికరాల అవసరాలతో అద్భుతమైన అనుకూలతను నిర్ధారిస్తుంది.

5. లాంగ్ సర్వీస్ లైఫ్

ఆప్టిమైజ్ చేసిన పూత సంశ్లేషణ సాంకేతికత మరియు అధిక-స్వచ్ఛత మెటీరియల్ ప్రాసెసింగ్ ద్వారా, VETEK హాఫ్‌మూన్ భాగాలు పునరావృత థర్మల్ సైక్లింగ్ మరియు తినివేయు ప్రక్రియ వాయువుల క్రింద అద్భుతమైన మన్నికను ప్రదర్శిస్తాయి, నిర్వహణ ఫ్రీక్వెన్సీ మరియు మొత్తం నిర్వహణ ఖర్చులను తగ్గిస్తాయి.

సాంకేతిక ప్రయోజనాలు

అప్లికేషన్లు

LPE రియాక్షన్ ఛాంబర్ కోసం VETEK హాఫ్‌మూన్ విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది:

• సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) ఎపిటాక్సీ సిస్టమ్స్
• LPE క్షితిజసమాంతర రియాక్టర్లు
• సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ పరికరాలు
• అధిక-ఉష్ణోగ్రత CVD ప్రక్రియ గదులు
• అధునాతన సెమీకండక్టర్ థర్మల్ ఫీల్డ్ సిస్టమ్స్
• SiC క్రిస్టల్ గ్రోత్ సిస్టమ్స్
• మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ తయారీ

మా ఉత్పత్తులు బహుళ పరిశ్రమ ప్రధాన స్రవంతి పరికరాల ప్లాట్‌ఫారమ్‌లకు అనుకూలంగా ఉంటాయి మరియు కస్టమర్ డ్రాయింగ్‌లు లేదా రియాక్టర్ స్పెసిఫికేషన్‌ల ప్రకారం అనుకూలీకరించబడతాయి.

VETEK సెమీకండక్టర్‌ను ఎందుకు ఎంచుకోవాలి?

VETEK సెమీకండక్టర్ అనేక సంవత్సరాలుగా సెమీకండక్టర్ గ్రాఫైట్ భాగాలు మరియు పూత సాంకేతికతలపై దృష్టి సారిస్తోంది. 2016 నుండి, కంపెనీ శుద్దీకరణ ప్రాసెసింగ్, ప్రెసిషన్ గ్రాఫైట్ మ్యాచింగ్ మరియు సెమీకండక్టర్ అప్లికేషన్‌ల కోసం CVD కోటింగ్ ఉత్పత్తిలో తన సామర్థ్యాలను అభివృద్ధి చేయడం కొనసాగించింది.

VETEK సామర్థ్యాలు:

• SiC ఎపిటాక్సీ భాగాలు మరియు రియాక్టర్ భాగాలతో అనుభవం
• అంతర్గత CVD SiC మరియు TaC పూత ఉత్పత్తి
• సెమీకండక్టర్-స్థాయి పదార్థ శుద్దీకరణ నియంత్రణ
• డ్రాయింగ్‌లు లేదా నమూనాల ఆధారంగా అనుకూల తయారీ
• బ్యాచ్ ఆర్డర్‌ల కోసం స్థిరమైన ఉత్పత్తి సామర్థ్యం
• గ్రాఫైట్ ఫీల్డ్ మరియు థర్మల్ ఫీల్డ్ మెటీరియల్స్ సరఫరా
• ISO9001 నాణ్యత నిర్వహణ వ్యవస్థ
• విదేశీ కస్టమర్లకు సాంకేతిక మద్దతు

తరచుగా అడిగే ప్రశ్నలు

(1) LPE రియాక్టర్‌లో హాఫ్‌మూన్ పని ఏమిటి?

హాఫ్‌మూన్ కాంపోనెంట్ గ్యాస్ ఫ్లో గైడెన్స్, ఛాంబర్ స్ట్రక్చర్ ఇంటిగ్రేషన్, టెంపరేచర్ మేనేజ్‌మెంట్ మరియు ఎపిటాక్సియల్ రియాక్షన్ ఛాంబర్ లోపల ససెప్టర్ రొటేషన్‌కు మద్దతు ఇస్తుంది.

(2) హాఫ్‌మూన్ వేఫర్‌తో ప్రత్యక్ష సంబంధంలో ఉందా?

సాధారణంగా లేదు. చాలా LPE రియాక్టర్ నిర్మాణాలలో, హాఫ్మూన్ నేరుగా పొరను తాకకుండా ఛాంబర్ అసెంబ్లీ చుట్టూ ఉంటుంది.

(3) ఉపరితలంపై SiC లేదా TaC పూతను ఎందుకు ఉపయోగించాలి?

పూత ప్రధానంగా రక్షణ కోసం. SiC ఎపిటాక్సీ సమయంలో, గ్రాఫైట్ భాగాలు అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు రియాక్టివ్ వాయువులకు ఎక్కువ కాలం బహిర్గతమవుతాయి. పూత ఆక్సీకరణ నిరోధకతను మెరుగుపరచడంలో సహాయపడుతుంది మరియు ఉపరితల దుస్తులు మరియు కణాల ఉత్పత్తిని తగ్గిస్తుంది.

(4) భాగాన్ని అనుకూలీకరించవచ్చా?

అవును. చాలా హాఫ్‌మూన్ భాగాలు వాస్తవానికి రియాక్టర్ నిర్మాణం మరియు కస్టమర్ డ్రాయింగ్‌ల ప్రకారం తయారు చేయబడ్డాయి, ఎందుకంటే కొలతలు మరియు ఇన్‌స్టాలేషన్ వివరాలు తరచుగా పరికరాల ప్లాట్‌ఫారమ్‌ల మధ్య మారుతూ ఉంటాయి.