CVD SIC పూత తాపన మూలకం

CVD SIC పూత తాపన మూలకం ప్రధానంగా PVD (భౌతిక ఆవిరి నిక్షేపణ) పరికరాలలో ఉపయోగించబడుతుంది. బాష్పీభవన ప్రక్రియలో, బాష్పీభవనం లేదా స్పుట్టరింగ్ సాధించడానికి పదార్థం వేడి చేయబడుతుంది మరియు చివరకు ఏకరీతి సన్నని చిత్రం ఉపరితలంపై ఏర్పడుతుంది.

.నిర్దిష్ట అనువర్తనం

సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్: సివిడి సిక్ పూత తాపన మూలకం బాష్పీభవన మూలం లేదా స్పుట్టరింగ్ సోర్స్‌లో ఉపయోగించబడుతుంది. తాపన ద్వారా, మూలకం అధిక ఉష్ణోగ్రతకు జమ చేయవలసిన పదార్థాన్ని వేడి చేస్తుంది, తద్వారా దాని అణువులు లేదా అణువులు పదార్థం యొక్క ఉపరితలం నుండి వేరు చేయబడతాయి, తద్వారా ఆవిరి లేదా ప్లాస్మా ఏర్పడుతుంది. మా తాపన మూలకం ఆధారిత SIC పూత పివిడి ప్రక్రియలో భౌతిక వనరుగా ఉపయోగించడానికి వాక్యూమ్ వాతావరణంలో ఆవిరైపోవడానికి లేదా ఉత్కృష్టంగా కొన్ని లోహ లేదా సిరామిక్ పదార్థాలను నేరుగా వేడి చేస్తుంది. నిర్మాణం కేంద్రీకృత పొడవైన కమ్మీలను కలిగి ఉన్నందున, ఇది తాపన యొక్క ఏకరూపతను నిర్ధారించడానికి ప్రస్తుత మార్గం మరియు ఉష్ణ పంపిణీని బాగా నియంత్రించగలదు.

బాష్పీభవన పివిడి ప్రక్రియ యొక్క స్కీమాటిక్ రేఖాచిత్రం

.వర్కింగ్ సూత్రం

రెసిస్టివ్ హీటింగ్, సిక్ కోటెడ్ హీటర్ యొక్క నిరోధక మార్గం గుండా ప్రస్తుతము ఉన్నప్పుడు, జూల్ వేడి ఉత్పత్తి అవుతుంది, తద్వారా తాపన ప్రభావాన్ని సాధిస్తుంది. కేంద్రీకృత నిర్మాణం కరెంట్‌ను సమానంగా పంపిణీ చేయడానికి అనుమతిస్తుంది. ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణ పరికరం సాధారణంగా ఉష్ణోగ్రతను పర్యవేక్షించడానికి మరియు సర్దుబాటు చేయడానికి మూలకానికి అనుసంధానించబడి ఉంటుంది.

.భౌతిక మరియు నిర్మాణ రూపకల్పన

CVD SIC పూత తాపన మూలకం అధిక ఉష్ణోగ్రత వాతావరణాన్ని ఎదుర్కోవటానికి అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మరియు SIC పూతతో తయారు చేయబడింది. అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ కూడా థర్మల్ ఫీల్డ్ మెటీరియల్‌గా ఉపయోగించబడింది. CVD పద్ధతి ద్వారా గ్రాఫైట్ ఉపరితలంపై పూత పొరను వర్తింపజేసిన తరువాత, దాని అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం, తుప్పు నిరోధకత, ఉష్ణ సామర్థ్యం మరియు ఇతర లక్షణాలు మరింత మెరుగుపరచబడతాయి.

కేంద్రీకృత పొడవైన కమ్మీల రూపకల్పన కరెంట్‌ను డిస్క్ ఉపరితలంపై ఏకరీతి లూప్‌ను రూపొందించడానికి అనుమతిస్తుంది. ఇది ఏకరీతి ఉష్ణ పంపిణీని సాధిస్తుంది, కొన్ని ప్రాంతాలలో ఏకాగ్రత వల్ల కలిగే స్థానిక వేడెక్కడం నివారిస్తుంది, ప్రస్తుత ఏకాగ్రత వల్ల కలిగే అదనపు ఉష్ణ నష్టాన్ని తగ్గిస్తుంది మరియు తద్వారా తాపన సామర్థ్యాన్ని మెరుగుపరుస్తుంది.

CVD SIC పూత తాపన మూలకం రెండు కాళ్ళు మరియు శరీరాన్ని కలిగి ఉంటుంది. ప్రతి కాలుకు విద్యుత్ సరఫరాకు అనుసంధానించే థ్రెడ్ ఉంటుంది. వెటెక్ సెమీకండక్టర్ ఒక-ముక్క భాగాలను లేదా విభజన భాగాలను తయారు చేయగలదు, అనగా కాళ్ళు మరియు శరీరాన్ని విడిగా తయారు చేసి, ఆపై సమావేశమవుతాయి. CVD SIC కోటెడ్ హీటర్ కోసం మీకు ఏ అవసరాలు ఉన్నా, దయచేసి మమ్మల్ని సంప్రదించండి. వెటెక్సేమి మీకు అవసరమైన ఉత్పత్తులను అందించగలదు.

CVD SIC పూత యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలు