SIC పూత ఎందుకు అంత శ్రద్ధ తీసుకుంటుంది? - వెటెక్ సెమీకండక్టర్

ఇటీవలి సంవత్సరాలలో, ఎలక్ట్రానిక్స్ పరిశ్రమ యొక్క నిరంతర అభివృద్ధితో,మూడవ తరం సెమీకండక్టర్సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ అభివృద్ధికి పదార్థాలు కొత్త చోదక శక్తిగా మారాయి. మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ పదార్థాల యొక్క సాధారణ ప్రతినిధిగా, సెమీకండక్టర్ తయారీ రంగంలో SIC విస్తృతంగా ఉపయోగించబడింది, ముఖ్యంగాఉష్ణ క్షేత్రంపదార్థాలు, దాని అద్భుతమైన భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాల కారణంగా.

కాబట్టి, SiC పూత అంటే ఏమిటి? మరియు ఏమిటిCVD SIC పూత?

SIC అనేది అధిక కాఠిన్యం, అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకత, తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం మరియు అధిక తుప్పు నిరోధకత కలిగిన సమయోజనీయ బంధిత సమ్మేళనం. దీని ఉష్ణ వాహకత 120-170 W/M · K ని చేరుకుంటుంది, ఇది ఎలక్ట్రానిక్ కాంపోనెంట్ హీట్ వెదజల్లడంలో అద్భుతమైన ఉష్ణ వాహకతను చూపుతుంది. అదనంగా, సిలికాన్ కార్బైడ్ యొక్క ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం 4.0 × 10-6/K (300–800 ℃ పరిధిలో) మాత్రమే, ఇది అధిక ఉష్ణోగ్రత వాతావరణంలో డైమెన్షనల్ స్టెబిలిటీని నిర్వహించడానికి వీలు కల్పిస్తుంది, థర్మల్ వల్ల కలిగే వైకల్యం లేదా వైఫల్యాన్ని బాగా తగ్గిస్తుంది ఒత్తిడి. సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత అనేది భౌతిక లేదా రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ, స్ప్రేయింగ్ మొదలైన వాటి ద్వారా భాగాల ఉపరితలంపై తయారుచేసిన సిలికాన్ కార్బైడ్‌తో చేసిన పూతను సూచిస్తుంది.  

రసాయనిక ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి)ప్రస్తుతం సబ్‌స్ట్రేట్ ఉపరితలాలపై SIC పూతను సిద్ధం చేయడానికి ప్రధాన సాంకేతికత. ప్రధాన ప్రక్రియ ఏమిటంటే, గ్యాస్ దశ ప్రతిచర్యలు ఉపరితల ఉపరితలంపై భౌతిక మరియు రసాయన ప్రతిచర్యల శ్రేణికి లోనవుతాయి మరియు చివరకు CVD SIC పూత ఉపరితల ఉపరితలంపై జమ చేయబడుతుంది.

CVD SIC పూత యొక్క SEM డేటా

సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత చాలా శక్తివంతమైనది కాబట్టి, ఏ సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క లింకులు ఇది భారీ పాత్ర పోషించింది? సమాధానం ఎపిటాక్సీ ఉత్పత్తి ఉపకరణాలు.

SIC పూత పదార్థ లక్షణాల పరంగా ఎపిటాక్సియల్ వృద్ధి ప్రక్రియను ఎక్కువగా సరిపోల్చడం యొక్క ముఖ్య ప్రయోజనాన్ని కలిగి ఉంది. సిక్ పూత యొక్క ముఖ్యమైన పాత్రలు మరియు కారణాలు క్రిందివిSIC పూత ఎపిటాక్సియల్ ససెప్టర్:

1. అధిక ఉష్ణ వాహకత మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత

ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల వాతావరణం యొక్క ఉష్ణోగ్రత 1000℃ కంటే ఎక్కువగా ఉంటుంది. SiC పూత చాలా అధిక ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది వేడిని ప్రభావవంతంగా వెదజల్లుతుంది మరియు ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల యొక్క ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపతను నిర్ధారిస్తుంది.

2. రసాయన స్థిరత్వం

SIC పూత అద్భుతమైన రసాయన జడత్వాన్ని కలిగి ఉంది మరియు తినివేయు వాయువులు మరియు రసాయనాల ద్వారా తుప్పును నిరోధించగలదు, ఇది ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల సమయంలో ప్రతిచర్యలతో ప్రతికూలంగా స్పందించకుండా చూస్తుంది మరియు పదార్థ ఉపరితలం యొక్క సమగ్రతను మరియు శుభ్రతను నిర్వహిస్తుంది.

3. మ్యాచింగ్ లాటిస్ స్థిరాంకం

ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదలలో, SiC పూత దాని క్రిస్టల్ నిర్మాణం కారణంగా వివిధ రకాల ఎపిటాక్సియల్ పదార్థాలతో బాగా సరిపోలవచ్చు, ఇది లాటిస్ అసమతుల్యతను గణనీయంగా తగ్గిస్తుంది, తద్వారా క్రిస్టల్ లోపాలను తగ్గిస్తుంది మరియు ఎపిటాక్సియల్ పొర యొక్క నాణ్యత మరియు పనితీరును మెరుగుపరుస్తుంది.

4. తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం

SIC పూత తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకాన్ని కలిగి ఉంది మరియు ఇది సాధారణ ఎపిటాక్సియల్ పదార్థాలకు దగ్గరగా ఉంటుంది. దీని అర్థం అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద, ఉష్ణ విస్తరణ గుణకాలలో వ్యత్యాసం, మెటీరియల్ పీలింగ్, పగుళ్లు లేదా వైకల్యం వంటి సమస్యలను నివారించడం వల్ల బేస్ మరియు SIC పూత మధ్య తీవ్రమైన ఒత్తిడి ఉండదు.

5. అధిక కాఠిన్యం మరియు ధరించండి

SiC పూత చాలా ఎక్కువ కాఠిన్యాన్ని కలిగి ఉంటుంది, కాబట్టి ఎపిటాక్సియల్ బేస్ యొక్క ఉపరితలంపై పూత వేయడం వలన దాని దుస్తులు నిరోధకతను గణనీయంగా మెరుగుపరుస్తుంది మరియు దాని సేవా జీవితాన్ని పొడిగించవచ్చు, అయితే ఎపిటాక్సియల్ ప్రక్రియలో బేస్ యొక్క జ్యామితి మరియు ఉపరితల ఫ్లాట్‌నెస్ దెబ్బతినకుండా చూసుకుంటుంది.

SIC పూత యొక్క క్రాస్-సెక్షన్ మరియు ఉపరితల చిత్రం

ఎపిటాక్సియల్ ఉత్పత్తికి అనుబంధంగా ఉండటమే కాకుండా,SiC పూత కూడా ఈ ప్రాంతాల్లో గణనీయమైన ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది:

సెమీకండక్టర్ పొర క్యారియర్లు：సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ సమయంలో, పొరల నిర్వహణ మరియు ప్రాసెసింగ్ చాలా ఎక్కువ శుభ్రత మరియు ఖచ్చితత్వం అవసరం. SiC పూత తరచుగా పొర క్యారియర్‌లు, బ్రాకెట్‌లు మరియు ట్రేలలో ఉపయోగించబడుతుంది.

పొర క్యారియర్

ప్రీహీటింగ్ రింగ్：ప్రీహీటింగ్ రింగ్ SI ఎపిటాక్సియల్ సబ్‌స్ట్రేట్ ట్రే యొక్క బయటి రింగ్‌లో ఉంది మరియు క్రమాంకనం మరియు తాపన కోసం ఉపయోగిస్తారు. ఇది ప్రతిచర్య గదిలో ఉంచబడుతుంది మరియు నేరుగా పొరను సంప్రదించదు.

  ప్రీహీటింగ్ రింగ్

ఎగువ అర్ధ-చంద్ర భాగం యొక్క ప్రతిచర్య గది యొక్క ఇతర ఉపకరణాల క్యారియర్SIC ఎపిటాక్సీ పరికరం, ఇది పొరతో ప్రత్యక్ష సంబంధం లేకుండా రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లో ఉష్ణోగ్రత నియంత్రించబడుతుంది మరియు ఇన్‌స్టాల్ చేయబడుతుంది. దిగువ అర్ధ-చంద్ర భాగం క్వార్ట్జ్ ట్యూబ్‌కు అనుసంధానించబడి, బేస్ భ్రమణాన్ని నడపడానికి గ్యాస్‌ను పరిచయం చేస్తుంది. ఇది ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణలో ఉంటుంది, రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లో ఇన్‌స్టాల్ చేయబడింది మరియు పొరతో ప్రత్యక్ష సంబంధంలోకి రాదు.

ఎగువ అర్ధ చంద్ర భాగం

అదనంగా, సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో బాష్పీభవనం కోసం ద్రవీభవన క్రూసిబుల్, హై పవర్ ఎలక్ట్రానిక్ ట్యూబ్ గేట్, వోల్టేజ్ రెగ్యులేటర్‌ను సంప్రదించే బ్రష్, ఎక్స్-రే మరియు న్యూట్రాన్ కోసం గ్రాఫైట్ మోనోక్రోమేటర్, గ్రాఫైట్ సబ్‌స్ట్రేట్‌ల వివిధ ఆకారాలు మరియు అణు శోషణ ట్యూబ్ పూత మొదలైనవి, SIC పూత పెరుగుతున్న ముఖ్యమైన పాత్రను పోషిస్తోంది.

ఎందుకు ఎంచుకోవాలిఇది సెమీకండక్టర్?

VeTek సెమీకండక్టర్ వద్ద, మా తయారీ ప్రక్రియలు అధునాతన మెటీరియల్‌లతో ఖచ్చితమైన ఇంజనీరింగ్‌ను మిళితం చేసి SiC కోటింగ్ ఉత్పత్తులను అత్యుత్తమ పనితీరు మరియు మన్నికతో ఉత్పత్తి చేస్తాయి.సిక్ కోటెడ్ పొర హోల్డర్, SiC కోటింగ్ ఎపి రిసీవర్,యుడ్ ఎడ్ ఎడ్ఇడ్, సిలికాన్ కార్బైడ్ సిరామిక్ పూతమరియుCoపిరితిత్తుల పూత. మేము సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ మరియు ఇతర పరిశ్రమల యొక్క నిర్దిష్ట అవసరాలను తీర్చగలుగుతున్నాము, వినియోగదారులకు అధిక-నాణ్యత అనుకూల SiC కోటింగ్‌ను అందిస్తాము.

మీకు ఏవైనా విచారణలు ఉంటే లేదా అదనపు వివరాలు కావాలంటే, దయచేసి మమ్మల్ని సంప్రదించడానికి సంకోచించకండి.

మాబ్/WhatsAPP: +86-180 6922 0752

ఇమెయిల్: anny@veteksemi.com