ఘన SiC ఫోకస్ రింగ్స్

1. ఉత్పత్తి లక్షణాలు

● స్వచ్ఛత (GDMS ధృవీకరించబడింది): > 99.99995% (6N-7N వరకు) | ట్రేస్ మెటల్ ప్రమాదాలు లేకుండా గదిని ఉంచుతుంది.

● నిర్మాణ పటిష్టత: ≥3.21  g/cm3 | సైద్ధాంతిక సాంద్రతకు చేరుకుంటుంది; అవుట్‌గ్యాసింగ్ లేదా మైక్రో-పార్టికల్స్‌ను దాచడానికి శూన్యాలు లేవు.

● థర్మల్ రెగ్యులేషన్: 200 - 300W/m·K | వేఫర్-రిమ్ ఉష్ణోగ్రతలను ఖచ్చితంగా సమానంగా ఉంచడానికి వేడిని వేగంగా వ్యాపిస్తుంది.

● విద్యుత్ పరిధి: 0.01 - 10 Ωcm | ప్లాస్మా షీత్‌ను స్థిరంగా ఉంచడానికి మరియు RF కనెక్షన్‌ని మెరుగుపరచడానికి అడాప్టబుల్ రెసిస్టివిటీ. ఉపరితల దృఢత్వం: ≥2500 HV | నిరంతర పొడి-ఎచింగ్ చక్రాల సమయంలో రాపిడి దుస్తులను నిరోధిస్తుంది.

2. అప్లికేషన్లు 

● అధునాతన ప్రక్రియ ప్లాస్మా ఎచింగ్

● థిన్ ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ ప్రాసెస్‌లు (PECVD/ALD)

● సాలిడ్ SiC ఎచింగ్ రింగ్‌లు అధునాతన చిప్ తయారీలో కీలకమైన వినియోగ వస్తువులు, పొర అంచు ప్రక్రియల ఏకరూపతను నిర్ధారించడానికి, దిగుబడిని మెరుగుపరచడానికి మరియు ప్లాస్మా ఎచింగ్ మరియు డిపాజిషన్ ప్రక్రియలలో కాంపోనెంట్ లైఫ్‌ని పొడిగించడానికి ఉపయోగిస్తారు.

3. ఫ్యాబ్ దుర్బలత్వాలను పరిష్కరించడం

● సమస్య: ఫాస్ట్ పార్ట్ ఎరోషన్ నుండి ఖరీదైన నిష్క్రియ సమయం

పరిష్కారం:  Vetek యొక్క CVD-పెరిగిన నిర్మాణం క్వార్ట్జ్ కంటే 10 నుండి 20 రెట్లు నెమ్మదిగా మరియు బల్క్ సిలికాన్ కంటే 3 నుండి 5 రెట్లు నెమ్మదిగా కోత వేగాన్ని చూపుతుంది. ఫ్యాబ్‌లు ఎక్కువ ఉత్పత్తి పరుగులు మరియు చాలా తక్కువ ఎమర్జెన్సీ ఛాంబర్ వెంట్‌లను పొందుతాయి.

● సమస్య: ఎడ్జ్ దిగుబడి కుదించు ("ది ఎడ్జ్ ఎఫెక్ట్")

ది ఫిక్స్: రింగ్ ఫేస్ అంతటా స్లో, ఊహాజనిత దుస్తులు కాలక్రమేణా ప్లాస్మా షీత్ వంగిపోకుండా ఆపుతుంది. ఇది పొర చుట్టుకొలత వద్ద గట్టి క్రిటికల్ డైమెన్షన్ (CD) పరిమితులను సంరక్షిస్తుంది.

● సమస్య: సింటెర్డ్-పార్ట్ షెడ్డింగ్ నుండి డిఫెక్ట్ స్పైక్‌లు

ది ఫిక్స్: మా గ్యాస్-ఫేజ్ సింథసిస్ జీరో గ్రెయిన్-బౌండరీ బైండర్‌లు లేదా మెటాలిక్ ఫిల్లర్‌లను వదిలివేస్తుంది. ఈ బలహీనమైన మచ్చలు లేకుండా, రింగ్ పొరలుగా మారదు లేదా పొర ఉపరితలంపై మైక్రో-మాస్కింగ్ లోపాలను కలిగించదు.

4. టైలర్డ్ ఇంజనీరింగ్ మద్దతు

● టూల్ డ్రాప్-ఇన్ ఇంటిగ్రేషన్: లామ్, AMAT మరియు TEL వంటి గ్లోబల్ ఎచర్ బ్రాండ్‌ల ఖచ్చితమైన స్పేసింగ్ స్పెక్స్‌తో సరిపోలడానికి అనుకూల-మెషిన్ చేయబడింది.

● రెసిస్టివిటీ మ్యాచింగ్: మేము ప్రతి బ్యాచ్ యొక్క ఎలక్ట్రికల్ ప్రొఫైల్‌ను మీ నిర్దిష్ట రెసిపీ పారామితులతో ఖచ్చితంగా వరుసలో ఉంచడానికి ట్యూన్ చేస్తాము.

● అధునాతన ముగింపులు: కఠినమైన ఉపరితలాలను సున్నితంగా చేయడానికి అల్ట్రా-క్లీన్ కెమికల్ మెకానికల్ ప్లానరైజేషన్ (CMP)ని ఉపయోగిస్తుంది, ప్రారంభ టూల్ మసాలా సమయంలో కణాల గణనలను తగ్గిస్తుంది.

● క్లిష్టమైన ఫారమ్-ఫాక్టర్‌లు: గమ్మత్తైన, బహుళ-దశల అంచు రింగ్‌లు మరియు ఇంటర్‌లాకింగ్ రింగ్ సెటప్‌లపై మేము గట్టి టాలరెన్స్‌లను (±0.01mm) కలిగి ఉంటాము.

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ వేర్‌హౌస్: