సెమీకండక్టర్ సిరామిక్ నాజిల్

సెమీకండక్టర్ సిరామిక్ నాజిల్ ఒక ముఖ్యమైన పాత్ర పోషిస్తుందిHDP-CVD ప్రక్రియ, గ్యాస్ ప్రవాహాన్ని ఖచ్చితంగా నియంత్రించడానికి మరియు నిర్ధారించడానికి ఉపయోగిస్తారుఅధిక-నాణ్యత చిత్రం నిక్షేపణ. సిరామిక్ నాజిల్ స్ప్రే అనేది స్థిరమైన మరియు నియంత్రించదగిన గ్యాస్ ప్రవాహ రేట్లను నిర్ధారించడానికి ఖచ్చితంగా రూపొందించబడింది, వాయువు ప్రతిచర్య గదిలోకి ప్రవేశించినప్పుడు సాధ్యమయ్యే గందరగోళాన్ని తగ్గిస్తుంది.

సాంకేతిక లక్షణాలు:

1.మెటీరియల్ కూర్పు:

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ సిరామిక్ ఇసుక పేలుడు నాజిల్ సాధారణంగా అల్యూమినియం ఆక్సైడ్ (AL2O3) వంటి సెమీకండక్టర్ సెరామిక్స్‌తో తయారు చేయబడుతుంది,సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC), లేదా జిర్కోనియం ఆక్సైడ్ (ZrO2), ఈ పదార్థాలు అద్భుతమైన లక్షణాలను కలిగి ఉన్నాయి:

    • అధిక ఉష్ణ స్థిరత్వం (1000℃ కంటే ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతలను తట్టుకోగలదు)

    • ఉపయోగించిన రియాక్టివ్ వాయువుల ద్వారా తుప్పుకు నిరోధకతCVD ప్రక్రియలు(సిలేన్, అమ్మోనియా వంటివి)

    • నిరంతర ప్లాస్మా ఎక్స్పోజర్కు నిరోధకత.

2. స్ట్రక్చరల్ డిజైన్:

    • ఆరిఫైస్ సైజు: సెమీకండక్టర్ సిరామిక్ నాజిల్ యొక్క రంధ్రం శాస్త్రీయంగా గ్యాస్ ప్రవాహంపై ఖచ్చితమైన నియంత్రణను ఎనేబుల్ చేయడానికి రూపొందించబడింది, ఇది ఫిల్మ్ యొక్క ఏకరూపత మరియు మందాన్ని ప్రభావితం చేస్తుంది.

    • కోణాలు మరియు జ్యామితి: సబ్‌స్ట్రేట్ అంతటా ఏకరీతి వాయువు పంపిణీని నిర్ధారించడానికి ఖచ్చితంగా రూపొందించబడింది, ఇది జమ చేసిన పొరలో లోపాలను తగ్గిస్తుంది.

సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో, సెమీకండక్టర్ సిరామిక్ బ్లాస్ట్ నాజిల్ ప్రధానంగా HDP-CVD ప్రక్రియలో కీలక పాత్ర పోషిస్తుంది. మైక్రోఎలక్ట్రానిక్స్ ఉత్పత్తి కోసం సన్నని చలనచిత్రాలను డిపాజిట్ చేయడానికి కూడా ఇవి ఉపయోగించబడతాయి, అధిక-నాణ్యత ఉపరితల పూతలను ఏకరీతిగా మరియు కలుషితాలు లేకుండా నిర్ధారిస్తుంది.

VeTeK సెమీకండక్టర్ సిరామిక్ నాజిల్ దుకాణాలు: