వార్తలు

డైమండ్, నాల్గవ తరం "అంతిమ సెమీకండక్టర్", దాని అసాధారణమైన కాఠిన్యం, ఉష్ణ వాహకత మరియు విద్యుత్ లక్షణాల కారణంగా సెమీకండక్టర్ సబ్‌స్ట్రేట్‌లలో దృష్టిని ఆకర్షిస్తోంది. దాని అధిక ధర మరియు ఉత్పత్తి సవాళ్లు దాని వినియోగాన్ని పరిమితం చేస్తున్నప్పటికీ, CVD అనేది ప్రాధాన్య పద్ధతి. డోపింగ్ మరియు పెద్ద-ప్రాంత క్రిస్టల్ సవాళ్లు ఉన్నప్పటికీ, డైమండ్ వాగ్దానాన్ని కలిగి ఉంది.

SiC మరియు GaN అనేది అధిక బ్రేక్‌డౌన్ వోల్టేజీలు, వేగవంతమైన స్విచింగ్ వేగం మరియు ఉన్నతమైన సామర్థ్యం వంటి సిలికాన్‌పై ప్రయోజనాలతో విస్తృత బ్యాండ్‌గ్యాప్ సెమీకండక్టర్లు. అధిక ఉష్ణ వాహకత కారణంగా అధిక-వోల్టేజ్, అధిక-శక్తి అనువర్తనాలకు SiC ఉత్తమం, అయితే GaN దాని ఉన్నతమైన ఎలక్ట్రాన్ చలనశీలత కారణంగా అధిక-ఫ్రీక్వెన్సీ అప్లికేషన్‌లలో రాణిస్తుంది.

ఎలక్ట్రాన్ బీమ్ బాష్పీభవనం అనేది నిరోధక తాపనతో పోలిస్తే అత్యంత సమర్థవంతమైన మరియు విస్తృతంగా ఉపయోగించే పూత పద్ధతి, ఇది బాష్పీభవన పదార్థాన్ని ఎలక్ట్రాన్ పుంజంతో వేడి చేస్తుంది, దీనివల్ల ఆవిరైపోతుంది మరియు సన్నని చలనచిత్రంగా ఘనీకృతమవుతుంది.

వాక్యూమ్ పూతలో ఫిల్మ్ మెటీరియల్ బాష్పీభవనం, వాక్యూమ్ రవాణా మరియు సన్నని చలన చిత్ర పెరుగుదల ఉన్నాయి. వేర్వేరు ఫిల్మ్ మెటీరియల్ బాష్పీభవన పద్ధతులు మరియు రవాణా ప్రక్రియల ప్రకారం, వాక్యూమ్ పూతను రెండు వర్గాలుగా విభజించవచ్చు: పివిడి మరియు సివిడి.

ఈ వ్యాసం వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క పోరస్ గ్రాఫైట్ యొక్క భౌతిక పారామితులు మరియు ఉత్పత్తి లక్షణాలను, అలాగే సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌లో దాని నిర్దిష్ట అనువర్తనాలను వివరిస్తుంది.

ఈ వ్యాసం టాంటాలమ్ కార్బైడ్ పూత మరియు సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత యొక్క ఉత్పత్తి లక్షణాలు మరియు అనువర్తన దృశ్యాలను బహుళ కోణాల నుండి విశ్లేషిస్తుంది.