వార్తలు

మనమందరం భయాందోళన క్షణం అనుభవించాము. మీ ఫోన్ బ్యాటరీ 5%వద్ద ఉంది, మీకు నిమిషాలు మిగిలి ఉన్నాయి, మరియు ప్రతి సెకనులో ప్లగ్ ఇన్ చేసిన శాశ్వతత్వం అనిపిస్తుంది. ఈ ఆందోళనను ముగించే రహస్యం పూర్తిగా కొత్త కెమిస్ట్రీలో కాదు, బ్యాటరీలోనే ప్రాథమిక పదార్థాన్ని తిరిగి చిత్రించడంలో ఉంటే? టెక్ యొక్క ముందంజలో రెండు దశాబ్దాలుగా, పోకడలు వచ్చి వెళ్ళడం నేను చూశాను. కానీ పోరస్ గ్రాఫైట్ చుట్టూ ఉన్న సంచలనం భిన్నంగా అనిపిస్తుంది. ఇది కేవలం పెరుగుతున్న దశ కాదు; ఇది మేము శక్తి నిల్వ రూపకల్పనను ఎలా చేరుకోవాలో ప్రాథమిక మార్పును సూచిస్తుంది.

వెటెక్ వద్ద, పెరుగుతున్న ఉష్ణోగ్రతల వద్ద విశ్వసనీయతను కోరుతున్న పరిశ్రమల కోసం మా ఐసోట్రోపిక్ గ్రాఫైట్ పరిష్కారాలను మెరుగుపరచడానికి మేము దశాబ్దాలు గడిపాము. ఈ పదార్థం ఎందుకు అగ్ర ఎంపిక అని డైవ్ చేద్దాం - మరియు మా ఉత్పత్తులు పోటీని ఎలా అధిగమిస్తాయి.

సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో ఒక దశాబ్దం పాటు పనిచేసిన తరువాత, అధిక-ఉష్ణోగ్రత, అధిక-శక్తి వాతావరణంలో భౌతిక ఎంపిక ఎంత సవాలుగా ఉంటుందో నేను ప్రత్యక్షంగా అర్థం చేసుకున్నాను. నేను వెటెక్ యొక్క SIC బ్లాక్‌ను ఎదుర్కొనే వరకు నేను చివరకు నిజంగా నమ్మదగిన పరిష్కారాన్ని కనుగొన్నాను.

2025 షాంఘై సెమికాన్ ఇంటర్నేషనల్ ఎగ్జిబిషన్‌లో వెటెక్సెమికన్ ప్రకాశిస్తుంది, ఇది వినూత్న సాంకేతిక పరిజ్ఞానాలతో సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమ యొక్క భవిష్యత్తును నడిపించింది

సెమీకండక్టర్ తయారీ పరిశ్రమలో, పరికర పరిమాణం తగ్గిపోతున్నందున, సన్నని చలన చిత్ర సామగ్రి యొక్క నిక్షేపణ సాంకేతికత అపూర్వమైన సవాళ్లను ఎదుర్కొంది. అణు పొర నిక్షేపణ (ALD), అణు స్థాయిలో ఖచ్చితమైన నియంత్రణను సాధించగల సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ టెక్నాలజీగా, సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఒక అనివార్యమైన భాగంగా మారింది. ఈ వ్యాసం అధునాతన చిప్ తయారీలో దాని ముఖ్యమైన పాత్రను అర్థం చేసుకోవడంలో ALD యొక్క ప్రక్రియ ప్రవాహం మరియు సూత్రాలను ప్రవేశపెట్టడం లక్ష్యంగా పెట్టుకుంది.

సంపూర్ణ స్ఫటికాకార బేస్ లేయర్‌పై ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌లు లేదా సెమీకండక్టర్ పరికరాలను నిర్మించడం ఉత్తమం. సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఎపిటాక్సీ (epi) ప్రక్రియ ఒక స్ఫటికాకార ఉపరితలంపై సాధారణంగా 0.5 నుండి 20 మైక్రాన్‌ల వరకు ఉండే చక్కటి సింగిల్-స్ఫటికాకార పొరను జమ చేయడం లక్ష్యంగా పెట్టుకుంది. సెమీకండక్టర్ పరికరాల తయారీలో, ముఖ్యంగా సిలికాన్ పొరల తయారీలో ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియ ఒక ముఖ్యమైన దశ.