అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతి

థర్మల్ ఫీల్డ్ ఇన్సులేషన్ కార్బన్ మెటీరియల్స్ అప్లికేషన్ నేపథ్యం

థర్మల్ ఫీల్డ్ ఇన్సులేషన్ కార్బన్ పదార్థాలు థర్మల్ ఫీల్డ్ ఫంక్షనల్ భాగాల అంచున మరియు వివిధ కొలిమి శరీరాల లోపల పూత పూయబడతాయి మరియు ప్రధానంగా థర్మల్ ఫీల్డ్ స్పేస్ మరియు థర్మల్ ఇన్సులేషన్ నిర్మించడానికి ఉపయోగిస్తారు. కార్బన్ ఫైబర్ అధిక ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉన్నప్పటికీ, కార్బన్ ఫైబర్ పదార్థం వదులుగా మరియు పోరస్ కార్బన్ ఫైబర్ పాలిమర్. భావించిన శరీరం యొక్క ఆకారాన్ని నిర్వహించడానికి ఫైబర్స్ ఘర్షణపై ఆధారపడతాయి. ఫైబర్స్ కలిసి అతివ్యాప్తి చెందుతాయి, ఇది పాయింట్ కాంటాక్ట్, ఇది ఘన ఉష్ణ ప్రసరణ మార్గం ద్వారా బదిలీ చేయబడిన ఉష్ణాన్ని బాగా తగ్గిస్తుంది. ముఖ్యంగా అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఉష్ణ క్షేత్రాలలో (800 ℃ పైన), రేడియేషన్ తీవ్రత పెరుగుతుంది మరియు ఉష్ణ రేడియేషన్ ఉష్ణ బదిలీ యొక్క ప్రధాన రూపంగా మారుతుంది. రేడియేషన్ తరంగాలు నిరంతరం ఫైబర్స్ మధ్య ప్రతిబింబిస్తాయి మరియు భావించిన శరీరం లోపల వెదజల్లుతాయి, తద్వారా థర్మల్ ఇన్సులేషన్ ప్రభావాన్ని సాధిస్తుంది.

సాధారణంగా ఉపయోగించే థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పదార్థం వివిధ రూపాల్లో అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతి. అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతి సన్నని ఫైబర్‌లతో తయారు చేయబడింది. మృదువైన అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతిని సాపేక్షంగా సన్నని పలకలలో అల్లినది, తరువాత కావలసిన ఆకారంలోకి కత్తిరించి, సహేతుకమైన వ్యాసార్థంలో గట్టిగా వంగి ఉంటుంది.

హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫీల్ వర్గీకరణ

ఉపయోగించిన వేర్వేరు ముడి పదార్థాల ప్రకారం, అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతిని మూడు వర్గాలుగా విభజించవచ్చు: పాన్-ఆధారిత, విస్కోస్-ఆధారిత మరియు తారు-ఆధారిత:

పాన్-ఆధారిత మరియు తారు-ఆధారిత పదార్థాలతో పోలిస్తే, విస్కోస్-ఆధారిత కార్బన్ పదార్థాలు థర్మల్ ఇన్సులేషన్‌లో మెరుగైన పనితీరును కలిగి ఉంటాయి. అందువల్ల, విస్కోస్-ఆధారిత హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫీల్ సెమీకండక్టర్ మరియు ఫోటోవోల్టాయిక్ థర్మల్ ఫీల్డ్ ఇన్సులేషన్ కార్బన్ పదార్థాలకు ప్రధాన స్రవంతి ఎంపిక.

పివిటి పద్ధతిలో అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ యొక్క అనువర్తనం

పివిటి పద్ధతి సాధారణంగా పరిశ్రమలో సిలికాన్ కార్బైడ్ సింగిల్ క్రిస్టల్‌ను పెంచడానికి ఉపయోగిస్తారు. SIC పౌడర్ గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ దిగువన నిండి ఉంటుంది, మరియు SIC సీడ్ క్రిస్టల్ గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ కవర్ లోపల ముడి పదార్థ ఉపరితలం నుండి కొంత దూరంతో బంధించబడుతుంది, ఆపై గ్రాఫైట్ క్రూసిబుల్ మొత్తం గ్రాఫైట్ తాపన శరీరంలో ఉంచబడుతుంది. బాహ్య అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతిని సర్దుబాటు చేయడం ద్వారా, SIC ముడి పదార్థం అధిక ఉష్ణోగ్రత జోన్‌లో ఉంచబడుతుంది మరియు SIC సీడ్ క్రిస్టల్ తదనుగుణంగా తక్కువ ఉష్ణోగ్రత జోన్‌లో ఉంటుంది.

ఈ ప్రక్రియలో, క్రూసిబుల్ మరియు చుట్టుపక్కల థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పదార్థంతో కూడిన థర్మల్ ఫీల్డ్ ప్రాంతం SIC సింగిల్ క్రిస్టల్ పెరుగుదలకు చాలా ముఖ్యమైన ప్రాంతం. క్రిస్టల్ గ్రోత్ చాంబర్ చాలా ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రతకు చేరుకుంటుంది (3000 ℃ వరకు), ఈ అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద, వెటెక్ సెమీకండక్టర్ హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతి అంత అధిక ఉష్ణోగ్రతను తట్టుకోగలదు, మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద SIC సబ్‌లైమేషన్‌తో స్పందించదు, అద్భుతమైన థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పనితీరు, అధిక-నాణ్యత SIC క్రిస్టల్ యొక్క పెరుగుదలను నిర్ధారించడానికి థర్మల్ ఇన్సులేషన్ పనితీరు.

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫెల్ట్ అనేది ఇండక్షన్ ఫర్నేసులలో ఒక అనివార్యమైన ఇన్సులేషన్ పదార్థం. ఇండక్షన్ ఫర్నేసులు పనిచేసేటప్పుడు చాలా వేడిని ఉత్పత్తి చేస్తాయి, మరియు అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్ మృదువైన అనుభూతి తక్కువ ఉష్ణ వాహకత మరియు తక్కువ నిర్దిష్ట వేడిని కలిగి ఉంటుంది, ఇది కొలిమిలో ఉష్ణోగ్రత యొక్క స్థిరత్వం మరియు ఏకరూపతను నిర్ధారిస్తుంది మరియు కొలిమి యొక్క ఉష్ణ సామర్థ్యాన్ని మెరుగుపరుస్తుంది. అదే సమయంలో, ఇండక్షన్ కొలిమి శరీరాన్ని సీలింగ్ చేయడంలో మరియు ఇన్సులేట్ చేయడంలో హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ కూడా ఒక పాత్ర పోషిస్తుంది, కొలిమిలో వేడి మరియు వాయువు లీకేజీని నివారిస్తుంది.

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ హై ప్యూరిటీ హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ కోసం డేటా షీట్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ హై ప్యూరిటీ హై ప్యూరిటీ గ్రాఫైట్ సాఫ్ట్ ఫీల్డ్ ప్రొడక్ట్స్ షాపులు