సెమీకండక్టర్ పరికరాలలో క్వార్ట్జ్ భాగాల అనువర్తనం

క్వార్ట్జ్ ఉత్పత్తులుఅధిక స్వచ్ఛత, అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత మరియు బలమైన రసాయన స్థిరత్వం కారణంగా సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి.

1.క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్

అప్లికేషన్ - ఇది మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ రాడ్లను గీయడానికి ఉపయోగించబడుతుంది మరియు ఇది సిలికాన్ పొర తయారీలో ప్రధానంగా వినియోగించదగినది.

క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్స్లోహ మలినాలు ద్వారా కలుషితాన్ని తగ్గించడానికి హై-ప్యూరిటీ క్వార్ట్జ్ ఇసుక (4n8 గ్రేడ్ మరియు అంతకంటే ఎక్కువ) తో తయారు చేయబడతాయి. ఇది అధిక-ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం (ద్రవీభవన స్థానం> 1700 ° C) మరియు ఉష్ణ విస్తరణ యొక్క తక్కువ గుణకం కలిగి ఉండాలి. సెమీకండక్టర్ ఫీల్డ్‌లోని క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్స్ ప్రధానంగా సిలికాన్ సింగిల్ స్ఫటికాల తయారీకి ఉపయోగించబడతాయి. పాలిక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ ముడి పదార్థాలను లోడ్ చేయడానికి అవి వినియోగించదగిన క్వార్ట్జ్ కంటైనర్లు మరియు వాటిని చదరపు మరియు రౌండ్ రకాలుగా విభజించవచ్చు. పాలిక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ కడ్డీల ప్రసారం కోసం చదరపు వాటిని ఉపయోగిస్తారు, అయితే మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ రాడ్ల డ్రాయింగ్ కోసం రౌండ్ వాటిని ఉపయోగిస్తారు. ఇది అధిక ఉష్ణోగ్రతను తట్టుకోగలదు మరియు రసాయన స్థిరత్వాన్ని నిర్వహించగలదు, సిలికాన్ సింగిల్ స్ఫటికాల స్వచ్ఛత మరియు నాణ్యతను నిర్ధారిస్తుంది.

2. క్వార్ట్జ్ కొలిమి గొట్టాలు

క్వార్ట్జ్ గొట్టాలుఅధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత (దీర్ఘకాలిక ఆపరేటింగ్ ఉష్ణోగ్రత 1100 ° C కంటే ఎక్కువ చేరుకోవచ్చు), రసాయన తుప్పు నిరోధకత (హైడ్రోఫ్లోరిక్ ఆమ్లం వంటి కొన్ని కారకాలు మినహా స్థిరంగా ఉంటుంది), అధిక స్వచ్ఛత (అశుద్ధమైన కంటెంట్ పిపిఎమ్ లేదా పిపిబి స్థాయి (ముఖ్యంగా పిపిబి స్థాయి (ముఖ్యంగా పిపిబి స్థాయి) వంటి వాటి లక్షణాల కారణంగా సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడతాయి. కోర్ దృశ్యాలు పొర తయారీ యొక్క బహుళ కీ ప్రాసెస్ లింక్‌లలో కేంద్రీకృతమై ఉన్నాయి.

ప్రధాన అప్లికేషన్ లింకులు:వ్యాప్తి, ఆక్సీకరణ, సివిడి (రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ)

ప్రయోజనం:

• డిఫ్యూజన్ ట్యూబ్: అధిక-ఉష్ణోగ్రత వ్యాప్తి ప్రక్రియలలో ఉపయోగించబడుతుంది, ఇది డోపింగ్ కోసం సిలికాన్ పొరలను కలిగి ఉంటుంది.
• ఫర్నేస్ ట్యూబ్: అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ చికిత్స కోసం ఆక్సీకరణ కొలిమిలో క్వార్ట్జ్ పడవలకు మద్దతు ఇస్తుంది.

లక్షణాలు

ఇది అధిక స్వచ్ఛత (మెటల్ అయాన్ ≤1ppm) మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత వైకల్య నిరోధకత (1200 ° C పైన) యొక్క అవసరాలను తీర్చాలి.

3. క్వార్ట్జ్ క్రిస్టల్ బోట్

వేర్వేరు పరికరాలను బట్టి, ఇది నిలువు మరియు క్షితిజ సమాంతర రకాలుగా విభజించబడింది. వేర్వేరు ఫాబ్ ఉత్పత్తి మార్గాలను బట్టి, పరిమాణ పరిధి 4 నుండి 12 అంగుళాలు. సెమీకండక్టర్ ICS తయారీలో,క్వార్ట్జ్ క్రిస్టల్ బోట్లుప్రధానంగా పొర బదిలీ, శుభ్రపరచడం మరియు ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియలలో ఉపయోగించబడతాయి. అధిక-స్వచ్ఛత మరియు అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధక పొర క్యారియర్‌లుగా, అవి అనివార్యమైన పాత్రను పోషిస్తాయి. కొలిమి గొట్టం యొక్క విస్తరణ లేదా ఆక్సీకరణ ప్రక్రియలో, బహుళ పొరలను క్వార్ట్జ్ క్రిస్టల్ బోట్లలో ఉంచి, ఆపై బ్యాచ్ తయారీ కోసం కొలిమి గొట్టంలోకి నెట్టబడుతుంది.

సెమీకండక్టర్లలోని ఇంజెక్టర్లు ప్రధానంగా గ్యాస్ లేదా ద్రవ పదార్థాలను ఖచ్చితంగా రవాణా చేయడానికి ఉపయోగిస్తారు మరియు సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్, ఎచింగ్ మరియు డోపింగ్ వంటి బహుళ కీ ప్రాసెస్ లింక్‌లలో వర్తించబడతాయి.

సిలికాన్ ట్రాన్సిస్టర్ మరియు ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ ఉత్పత్తి యొక్క శుభ్రపరిచే ప్రక్రియలో, ఇది సిలికాన్ పొరలను తీసుకెళ్లడానికి ఉపయోగించబడుతుంది మరియు శుభ్రపరిచే ప్రక్రియలో సిలికాన్ పొరలు కలుషితం కాదని నిర్ధారించడానికి యాసిడ్ మరియు ఆల్కలీ రెసిస్టెంట్‌గా ఉండాలి.

6. క్వార్ట్జ్ ఫ్లాంగెస్, క్వార్ట్జ్ రింగులు, ఫోకస్ రింగ్స్ మొదలైనవి

ఇది సెమీకండక్టర్ ఎచింగ్ ప్రక్రియలలో ఉపయోగించబడుతుంది, ఇతర క్వార్ట్జ్ ఉత్పత్తులతో కలిపి కుహరం యొక్క మూసివున్న రక్షణను సాధించడానికి, పొర చుట్టూ దగ్గరగా, ఎచింగ్ తయారీ ప్రక్రియలో వివిధ రకాల కాలుష్యాన్ని నివారించడం మరియు రక్షణ పాత్ర పోషిస్తుంది.

క్వార్ట్జ్ బెల్ జాడిసెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో సాధారణంగా ఉపయోగించే ముఖ్య భాగాలు, అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత మరియు అధిక కాంతి ప్రసారం కలిగి ఉంటాయి. పోలిసిలికాన్ తగ్గింపు కొలిమి కవర్: క్వార్ట్జ్ బెల్ కవర్ ప్రధానంగా పాలిసిలికాన్ కోసం తగ్గింపు కొలిమి కవర్ గా ఉపయోగించబడుతుంది. పాలిసిలికాన్ ఉత్పత్తిలో, అధిక-స్వచ్ఛత ట్రైక్లోరోసిలేన్ ఒక నిర్దిష్ట నిష్పత్తిలో హైడ్రోజన్‌తో కలుపుతారు మరియు తరువాత క్వార్ట్జ్ బెల్ కవర్‌తో అమర్చిన తగ్గింపు కొలిమిలోకి ప్రవేశపెట్టబడుతుంది, ఇక్కడ వాహక సిలికాన్ కోర్ మీద తగ్గింపు ప్రతిచర్య జరుగుతుంది మరియు పాలిసిలికాన్ ఏర్పడటానికి.

8. క్వార్ట్జ్ తడి శుభ్రపరిచే ట్యాంక్

అప్లికేషన్ దశ: సిలికాన్ పొరల తడి శుభ్రపరచడం

ఉపయోగం: ఇది యాసిడ్ వాషింగ్ (HF, H₂SO₄, మొదలైనవి) మరియు అల్ట్రాసోనిక్ క్లీనింగ్ కోసం ఉపయోగించబడుతుంది.

లక్షణాలు: బలమైన రసాయన స్థిరత్వం మరియు బలమైన ఆమ్ల తుప్పుకు నిరోధకత.

9. క్వార్ట్జ్ లిక్విడ్ కలెక్షన్ బాటిల్

ద్రవ సేకరణ బాటిల్ ప్రధానంగా తడి శుభ్రపరిచే ప్రక్రియలో వ్యర్థ ద్రవ లేదా అవశేష ద్రవాన్ని సేకరించడానికి ఉపయోగిస్తారు

పొరల యొక్క తడి శుభ్రపరిచే ప్రక్రియలో (RCA క్లీనింగ్, SC1/SC2 క్లీనింగ్ వంటివి), పొరలను శుభ్రం చేయడానికి పెద్ద మొత్తంలో అల్ట్రాపుర్ నీరు లేదా కారకాలు అవసరం, మరియు ప్రక్షాళన చేసిన తరువాత, ట్రేస్ మలినాలను కలిగి ఉన్న అవశేష ద్రవం ఉత్పత్తి అవుతుంది. కొన్ని పూత ప్రక్రియల తరువాత (ఫోటోరేసిస్ట్ పూత వంటివి), సేకరించాల్సిన అదనపు ద్రవాలు (ఫోటోరేసిస్ట్ వ్యర్థ ద్రవం వంటివి) కూడా ఉంటాయి.

ఫంక్షన్ క్వార్ట్జ్ లిక్విడ్ కలెక్షన్ సీసాలు ఈ అవశేష లేదా వ్యర్థ ద్రవాలను దగ్గరగా సేకరించడానికి ఉపయోగిస్తారు, ముఖ్యంగా "అధిక-ఖచ్చితమైన శుభ్రపరిచే దశ" (పొర ఉపరితలం యొక్క ప్రీ-ట్రీట్మెంట్ దశ వంటివి) లో, ఇక్కడ అవశేష ద్రవంలో తక్కువ మొత్తంలో అధిక-విలువ కారకాలు లేదా తరువాతి విశ్లేషణ అవసరమయ్యే మలినాలను కలిగి ఉంటుంది. క్వార్ట్జ్ బాటిల్స్ యొక్క తక్కువ కాలుష్యం అవశేష ద్రవాన్ని తిరిగి కలుషితం చేయకుండా నిరోధించగలదు, తదుపరి రికవరీ (రియాజెంట్ ప్యూరిఫికేషన్ వంటివి) లేదా ఖచ్చితమైన గుర్తింపు (అవశేష ద్రవంలో అశుద్ధమైన కంటెంట్ యొక్క విశ్లేషణ వంటివి).

అదనంగా, సింథటిక్ క్వార్ట్జ్ పదార్థాలతో తయారు చేసిన క్వార్ట్జ్ మాస్క్‌లు ఫోటోలిథోగ్రఫీలో నమూనా బదిలీ కోసం ఫోటోలిథోగ్రఫీ యంత్రాల యొక్క "ప్రతికూలతలు" గా వర్తించబడతాయి. మరియు సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ (పివిడి, సివిడి, ఎఎల్డి) లో సన్నని ఫిల్మ్ యొక్క మందాన్ని పర్యవేక్షించడానికి మరియు నిక్షేపణ యొక్క ఏకరూపతను నిర్ధారించడానికి, అనేక ఇతర అంశాలతో పాటు, ఈ వ్యాసంలో వివరించబడలేదు.

ముగింపులో, క్వార్ట్జ్ ఉత్పత్తులు సెమీకండక్టర్ తయారీ యొక్క మొత్తం ప్రక్రియలో దాదాపుగా ఉన్నాయి, మోనోక్రిస్టలైన్ సిలికాన్ (క్వార్ట్జ్ క్రూసిబుల్స్) యొక్క పెరుగుదల నుండి ఫోటోలిథోగ్రఫీ (క్వార్ట్జ్ మాస్క్‌లు), ఎచింగ్ (క్వార్ట్జ్ రింగులు), మరియు సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ (క్వార్ట్జ్ క్రిస్టల్ ఓసిలేటర్స్), ఇవన్నీ వాటి అద్భుతమైన భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాలపై ఆధారపడతాయి. సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియల పరిణామంతో, క్వార్ట్జ్ పదార్థాల స్వచ్ఛత, ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత మరియు డైమెన్షనల్ ఖచ్చితత్వం యొక్క అవసరాలు మరింత మెరుగుపరచబడతాయి.