CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) కోటెడ్ గ్రాఫైట్ RTP RTA క్యారియర్

ఉత్పత్తి లక్షణాలు

· ప్రధాన సామగ్రి:రాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్ (RTA) మరియు రాపిడ్ థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ (RTP) వ్యవస్థల కోసం రూపొందించబడింది.

· ప్రైమాry Aఅప్లికేషన్: సెమీకండక్టర్ వేఫర్ ఎనియలింగ్ ప్రక్రియల కోసం ఆప్టిమైజ్ చేయబడింది.

· ఆప్eరేటింగ్ Teఉష్ణోగ్రత:200°C నుండి 700°C వరకు స్థిరమైన ఆపరేషన్.

· Excఎలెంట్ థెర్మాల్ ఏకరూపత: స్థిరమైన పొర ప్రాసెసింగ్ కోసం సమాన ఉష్ణ పంపిణీని నిర్ధారిస్తుంది.

· తక్కువ కణంGఎనరేషన్: దట్టమైన CVD SiC పూత కాలుష్యాన్ని తగ్గిస్తుంది మరియు ఉత్పత్తి దిగుబడిని మెరుగుపరుస్తుంది.

· సుపీరియర్ కెమికల్ రెసిస్టెన్స్:థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ సమయంలో ఆక్సీకరణ మరియు తినివేయు ప్రక్రియ వాయువులకు నిరోధకత.

· అత్యుత్తమమైనదిగ్రా థర్మ్అల్ షాక్ రెసిస్టెన్స్: పునరావృత వేగవంతమైన తాపన మరియు శీతలీకరణ చక్రాల ద్వారా నిర్మాణ సమగ్రతను నిర్వహిస్తుంది.

· సుదీర్ఘ సేవా జీవితం:వేర్-రెసిస్టెంట్ SiC కోటింగ్ కాంపోనెంట్ జీవితకాలాన్ని గణనీయంగా పొడిగిస్తుంది మరియు నిర్వహణ ఖర్చులను తగ్గిస్తుంది.

· కస్టమ్తయారీ:విభిన్న RTP/RTA పరికరాలకు సరిపోయేలా వివిధ పరిమాణాలు మరియు కాన్ఫిగరేషన్‌లలో అందుబాటులో ఉంది.

సాంకేతిక లక్షణాలు

అప్లికేషన్లు

·రాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్ (RTA)

· రాపిడ్ థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ (RTP)

· సిలికాన్ వేఫర్ అన్నేలింగ్

· డోపాంట్ యాక్టివేషన్

· ఆక్సీకరణం

· వ్యాప్తి

·కాంపౌండ్ సెమీకండక్టర్ తయారీ

·MEMS ఫాబ్రికేషన్

·పవర్ సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్

తరచుగా అడిగే ప్రశ్నలు

1. RTP/RTA క్యారియర్ అంటే ఏమిటి?

RTP/RTA క్యారియర్ అనేది వేఫర్ థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ మరియు వేగవంతమైన థర్మల్ ఎనియలింగ్ సిస్టమ్‌లలో ఉపయోగించే పొర మద్దతు భాగం. ఉష్ణ చక్రం అంతటా ఏకరీతి ఉష్ణ బదిలీని అందించేటప్పుడు ఇది సెమీకండక్టర్ పొరలను సురక్షితంగా కలిగి ఉంటుంది.

2. CVD SiC పూత ఎందుకు ప్రాధాన్యతనిస్తుంది?

బేర్ గ్రాఫైట్‌తో పోలిస్తే, CVD SiC పూత అత్యుత్తమ ఆక్సీకరణ నిరోధకత, తక్కువ కణాల ఉత్పత్తి, మెరుగైన రసాయన స్థిరత్వం మరియు గణనీయంగా ఎక్కువ సేవా జీవితాన్ని అందిస్తుంది.

3. VETEK అనుకూలీకరించిన RTP/RTA క్యారియర్‌లను అందించగలదా?

అవును. VETEK కస్టమర్ డ్రాయింగ్‌ల ఆధారంగా అనుకూలీకరించిన RTP/RTA క్యారియర్‌లను అందిస్తుంది.