4 అంగుళాల ఇన్సులేషన్ దృ feeld ంగా ఉంది - శరీరం

ప్రొఫెషనల్ హై క్వాలిటీ 4 అంగుళాల ఇన్సులేషన్ దృ feeld ంగా ఉంది - బాడీ తయారీదారు, మీరు 4 అంగుళాల ఇన్సులేషన్ దృ feeld ంగా అనుభూతి చెందమని హామీ ఇవ్వవచ్చు - వెటెక్ సెమీకండక్టర్ ఫ్యాక్టరీ నుండి శరీరం.

ఇన్సులేషన్ రిజిడ్ ఫీల్ అనేది అధిక ఉష్ణోగ్రత తీవ్ర వాతావరణం కోసం ప్రత్యేకంగా రూపొందించిన ఒక రకమైన మిశ్రమ ఇన్సులేషన్ పదార్థం, కార్బన్ ఫైబర్ మరియు కార్బన్ క్లాత్ లామినేషన్ మిశ్రమ ప్రక్రియ యొక్క ఉపయోగం, అధిక ఉష్ణోగ్రత కార్బోనైజేషన్/గ్రాఫిటైజేషన్ చికిత్స సాంకేతికతతో కలిపి, అల్ట్రా-హై స్వచ్ఛత (ASH ≤10ppm), అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు మెకానికల్ బలం కలిగి ఉంది. భౌతిక ఆవిరి బదిలీ (పివిటి) పద్ధతి యొక్క డిమాండ్ థర్మల్ ఫీల్డ్ ఏకరూపత, ఉష్ణోగ్రత ప్రవణత మరియు అశుద్ధత నియంత్రణ అవసరాలను తీర్చడానికి సిలికాన్ కార్బైడ్ (SIC) సింగిల్ క్రిస్టల్ గ్రోత్ ఫర్నేసులలో థర్మల్ ఇన్సులేషన్ సిస్టమ్స్‌లో ఉపయోగం కోసం ఈ పదార్థం రూపొందించబడింది.

పదార్థం మరియు ప్రక్రియ లక్షణాలు

మిశ్రమ నిర్మాణం డెసిగ్n

ఉపరితల కార్బన్ క్లాత్ ఉపబల: కార్బన్ ఫైబర్ అనుభూతి మరియు అధిక-సాంద్రత కలిగిన కార్బన్ క్లాత్ మిశ్రమానికి ప్రత్యేక ప్రక్రియ ద్వారా, దట్టమైన రక్షణ పొరను ఏర్పరుచుకునే ఉపరితలం, అధిక ఉష్ణోగ్రత గాలి వాష్ మరియు ఫైబర్ షెడ్డింగ్‌ను సమర్థవంతంగా నిరోధిస్తుంది, మలినాలను విడుదల చేస్తుంది.

మల్టీ-లేయర్ ఇంటిగ్రేషన్ ప్రాసెస్: కోర్ పొర కార్బన్ ఫైబర్ ఫీల్, మరియు గ్రాఫైట్ పేపర్ లేదా కార్బన్ వస్త్రం మధ్యలో పొందుపరచబడుతుంది. ద్వితీయ అధిక ఉష్ణోగ్రత శుద్దీకరణ (≥2000 ℃) తరువాత, పదార్థ నిర్మాణం సాంద్రత మరియు మలినాలు లోతుగా తొలగించబడతాయి.

అల్ట్రా-తక్కువ అశుద్ధ స్వచ్ఛత

ASH కంటెంట్ ≤10ppm, అధిక ఉష్ణోగ్రత వాతావరణంలో లోహ అయాన్లు, SIO₂ మరియు ఇతర మలినాలు అస్థిరత లేదని నిర్ధారించుకోండి, క్రిస్టల్ గ్రోత్ ఇంటర్‌ఫేస్‌ను కలుషితం చేయకుండా ఉండండి, సిలికాన్ కార్బైడ్ సింగిల్ క్రిస్టల్ మరియు లోపం నియంత్రణ స్థాయి 19 యొక్క స్వచ్ఛతను మెరుగుపరచండి.

ప్రాసెస్ అనుకూలత

అనుకూలీకరించిన ఉపరితల చికిత్సలు (గ్రాఫైట్ రేకు పూత, యాంటీఆక్సిడెంట్ పూత వంటివి), వాక్యూమ్ లేదా జడ వాయువు (AR, N₂) పర్యావరణానికి అనువైనవి, 1200 ° C నుండి 3000 ° C వరకు ఆపరేటింగ్ ఉష్ణోగ్రతలు.

కోర్ పనితీరు పరామితి

దరఖాస్తు ఫీల్డ్‌లు మరియు ప్రయోజనాలు

సిలికాన్ కార్బైడ్ సింగిల్ క్రిస్టల్ కొలిమి హాట్ ఫీల్డ్ ఇన్సులేషన్

కొలిమి ఇన్సులేషన్ పొర యొక్క ప్రధాన పదార్థం వలె, ఇది ఉష్ణ నష్టాన్ని తగ్గిస్తుంది, పెరుగుదల ఇంటర్ఫేస్ ఉష్ణోగ్రత ప్రవణత (ΔT≈20-50 ℃/cm) ను నిర్వహించగలదు మరియు స్ఫటికాల యొక్క అక్షసంబంధ/రేడియల్ పెరుగుదల రేటు సమతుల్యమైందని నిర్ధారిస్తుంది.

ప్రవణత ఇన్సులేషన్ నిర్మాణాన్ని ఏర్పరచటానికి, ఉష్ణ ఒత్తిడిని తగ్గించడానికి మరియు థర్మల్ ఫీల్డ్ యొక్క జీవితాన్ని పొడిగించడానికి మృదువైన అనుభూతితో ఉపయోగించబడుతుంది.

పోటీ ప్రయోజనం

థర్మల్ స్టెబిలిటీ: థర్మల్ విస్తరణ యొక్క తక్కువ గుణకం (CTE <2 × 10⁻⁶/℃), అద్భుతమైన థర్మల్ షాక్ నిరోధకత, పదేపదే పెరుగుతున్న మరియు శీతలీకరణ పరిస్థితులకు అనువైనది.

ఆర్థిక వ్యవస్థ: సాంప్రదాయ మృదువైన అనుభూతితో పోలిస్తే, సేవా జీవితం 3-5 రెట్లు పెరుగుతుంది, ఇది వేడి క్షేత్ర పున ment స్థాపన మరియు ఉత్పత్తి ఖర్చుల పౌన frequency పున్యాన్ని తగ్గిస్తుంది.

అనుకూలీకరణ: సిలిండర్, ప్లేట్ మరియు ఇతర రకాల ప్రాసెసింగ్, డైమెన్షనల్ ఖచ్చితత్వం ± 0.5 మిమీ వరకు, వేర్వేరు కొలిమి రూపకల్పనకు అనువైనది.

సాధారణ అప్లికేషన్ కేసు

వాక్యూమ్ హై ప్రెజర్ గ్యాస్ అణచివేసే కొలిమి: వేడి కవచంగా, శక్తి వినియోగాన్ని 20% కంటే ఎక్కువ తగ్గించండి

పెద్ద సైజు SIC క్రిస్టల్ పెరుగుదల: 8-అంగుళాల క్రిస్టల్ ఫర్నేసుల కోసం, థర్మల్ ఫీల్డ్ ఏకరూపత విచలనం <1.5%