వెబ్ మెనూ

ఉత్పత్తి శోధన

భాష

ఉత్పత్తులు
ఉత్పత్తులు

సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సీ


అధిక-నాణ్యత సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సీ తయారీ అధునాతన సాంకేతిక పరిజ్ఞానం మరియు పరికరాలు మరియు పరికరాల ఉపకరణాలపై ఆధారపడి ఉంటుంది. ప్రస్తుతం, ఎక్కువగా ఉపయోగించే సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సీ గ్రోత్ పద్ధతి రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి). ఇది ఎపిటాక్సియల్ ఫిల్మ్ మందం మరియు డోపింగ్ గా ration త, తక్కువ లోపాలు, మితమైన వృద్ధి రేటు, ఆటోమేటిక్ ప్రాసెస్ కంట్రోల్ మొదలైన వాటి యొక్క ఖచ్చితమైన నియంత్రణ యొక్క ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది మరియు ఇది వాణిజ్యపరంగా విజయవంతంగా వర్తించే నమ్మకమైన సాంకేతికత.


సిలికాన్ కార్బైడ్ సివిడి ఎపిటాక్సీ సాధారణంగా వేడి గోడ లేదా వెచ్చని గోడ సివిడి పరికరాలను అవలంబిస్తుంది, ఇది అధిక వృద్ధి ఉష్ణోగ్రత పరిస్థితులలో (1500 ~ 1700 ℃) ఎపిటాక్సీ పొర 4 హెచ్ స్ఫటికాకార సిక్ యొక్క కొనసాగింపును నిర్ధారిస్తుంది (1500 ~ 1700 ℃), అభివృద్ధి యొక్క సంవత్సరాల తరువాత వేడి గోడ లేదా వెచ్చని గోడ సివిడి, ఇన్లెట్ గాలి ప్రవాహ దిశ మరియు ఉపరితల ఉపరితలం మధ్య ఉన్న సంబంధం ప్రకారం, రియాక్ట్ మరియు ప్రతిచర్య ఉపరితలం.


SIC ఎపిటాక్సియల్ కొలిమి యొక్క నాణ్యతకు మూడు ప్రధాన సూచికలు ఉన్నాయి, మొదటిది ఎపిటాక్సియల్ వృద్ధి పనితీరు, వీటిలో మందం ఏకరూపత, డోపింగ్ ఏకరూపత, లోపం రేటు మరియు వృద్ధి రేటు; రెండవది తాపన/శీతలీకరణ రేటు, గరిష్ట ఉష్ణోగ్రత, ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపతతో సహా పరికరాల ఉష్ణోగ్రత పనితీరు; చివరగా, ఒకే యూనిట్ యొక్క ధర మరియు సామర్థ్యంతో సహా పరికరాల ఖర్చు పనితీరు.



మూడు రకాల సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ కొలిమి మరియు కోర్ ఉపకరణాలు తేడాలు


హాట్ వాల్ క్షితిజ సమాంతర CVD (LPE కంపెనీ యొక్క సాధారణ మోడల్ PE1O6), వెచ్చని గోడ గ్రహాల CVD (సాధారణ మోడల్ AIXTRON G5WWC/G10) మరియు పాక్షిక-వేడి గోడ CVD (నుఫ్లేర్ కంపెనీ యొక్క EPIREVOS6 చే ప్రాతినిధ్యం వహిస్తున్నవి) ఈ దశలో ప్రధానమైన ఎపిటాక్సియల్ ఎక్విప్మెంట్ టెక్నికల్ సొల్యూషన్స్. మూడు సాంకేతిక పరికరాలు కూడా వాటి స్వంత లక్షణాలను కలిగి ఉన్నాయి మరియు డిమాండ్ ప్రకారం ఎంచుకోవచ్చు. వాటి నిర్మాణం ఈ క్రింది విధంగా చూపబడింది:


సంబంధిత కోర్ భాగాలు ఈ క్రింది విధంగా ఉన్నాయి:


(ఎ) హాట్ వాల్ క్షితిజ సమాంతర రకం కోర్ పార్ట్- హాఫ్‌మూన్ భాగాలు ఉంటాయి

దిగువ ఇన్సులేషన్

ప్రధాన ఇన్సులేషన్ ఎగువ

ఎగువ సగం మేన్

అప్‌స్ట్రీమ్ ఇన్సులేషన్

పరివర్తన ముక్క 2

పరివర్తన ముక్క 1

బాహ్య గాలి నాజిల్

దెబ్బతిన్న స్నార్కెల్

బయటి బయటి లోయ

ఆర్గాన్ గ్యాస్ నాజిల్

పొర మద్దతు ప్లేట్

సెంటరింగ్ పిన్

సెంట్రల్ గార్డ్

దిగువ ఎడమ రక్షణ కవర్

దిగువ కుడి రక్షణ కవర్

అప్‌స్ట్రీమ్ ఎడమ రక్షణ కవర్

అప్‌స్ట్రీమ్ కుడి రక్షణ కవర్

సైడ్ వాల్

గ్రాఫైట్ రింగ్

రక్షణ అనుభూతి

సహాయక అనుభూతి

కాంటాక్ట్ బ్లాక్

గ్యాస్ అవుట్లెట్ సిలిండర్



(బి) వెచ్చని గోడ గ్రహ రకం

SIC పూత ప్లానెటరీ డిస్క్ & TAC కోటెడ్ ప్లానెటరీ డిస్క్


(సి) పాక్షిక-థర్మల్ వాల్ స్టాండింగ్ రకం


నుఫ్లేర్ (జపాన్): ఈ సంస్థ డ్యూయల్-ఛాంబర్ నిలువు కొలిమిలను అందిస్తుంది, ఇది ఉత్పత్తి దిగుబడికి దోహదం చేస్తుంది. ఈ పరికరాలు నిమిషానికి 1000 విప్లవాల యొక్క హై-స్పీడ్ భ్రమణాన్ని కలిగి ఉంటాయి, ఇది ఎపిటాక్సియల్ ఏకరూపతకు చాలా ప్రయోజనకరంగా ఉంటుంది. అదనంగా, దాని వాయు ప్రవాహ దిశ ఇతర పరికరాల నుండి భిన్నంగా ఉంటుంది, ఇది నిలువుగా క్రిందికి ఉంటుంది, తద్వారా కణాల ఉత్పత్తిని తగ్గిస్తుంది మరియు లాఫర్లపై పడే కణ బిందువుల సంభావ్యతను తగ్గిస్తుంది. మేము ఈ పరికరాల కోసం కోర్ SIC పూత గ్రాఫైట్ భాగాలను అందిస్తాము.


SIC ఎపిటాక్సియల్ పరికరాల భాగాల సరఫరాదారుగా, SIC ఎపిటాక్సీ యొక్క విజయవంతమైన అమలుకు మద్దతుగా వినియోగదారులకు అధిక-నాణ్యత పూత భాగాలను అందించడానికి వెటెక్ సెమీకండక్టర్ కట్టుబడి ఉంది.



View as  
 
సిక్ కోటెడ్ పొర హోల్డర్

సిక్ కోటెడ్ పొర హోల్డర్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ ఒక ప్రొఫెషనల్ తయారీదారు మరియు చైనాలో SIC కోటెడ్ పొర హోల్డర్ ఉత్పత్తుల నాయకుడు. SIC పూత పొర హోల్డర్ సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌లో ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియకు పొర హోల్డర్. ఇది కోలుకోలేని పరికరం, ఇది పొరను స్థిరీకరిస్తుంది మరియు ఎపిటాక్సియల్ పొర యొక్క ఏకరీతి పెరుగుదలను నిర్ధారిస్తుంది. మీ తదుపరి సంప్రదింపులను స్వాగతించండి.
మరిన్ని చూడండి >> విచారణ పంపండి >>
ఎపి పొర హోల్డర్

ఎపి పొర హోల్డర్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ చైనాలోని ప్రొఫెషనల్ ఎపి పొర హోల్డర్ తయారీదారు మరియు ఫ్యాక్టరీ. సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌లో ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియకు EPI పొర హోల్డర్ పొర హోల్డర్. పొరను స్థిరీకరించడానికి మరియు ఎపిటాక్సియల్ పొర యొక్క ఏకరీతి పెరుగుదలను నిర్ధారించడానికి ఇది ఒక ముఖ్యమైన సాధనం. ఇది MOCVD మరియు LPCVD వంటి ఎపిటాక్సీ పరికరాలలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. ఇది ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియలో భర్తీ చేయలేని పరికరం. మీ తదుపరి సంప్రదింపులను స్వాగతించండి.
మరిన్ని చూడండి >> విచారణ పంపండి >>
ఐక్స్ట్రాన్ శాటిలైట్ పొర క్యారియర్

ఐక్స్ట్రాన్ శాటిలైట్ పొర క్యారియర్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క ఐక్స్ట్రాన్ ఉపగ్రహ పొర క్యారియర్ అనేది ఐక్స్ట్రాన్ పరికరాలలో ఉపయోగించే పొర క్యారియర్, ఇది ప్రధానంగా MOCVD ప్రక్రియలలో ఉపయోగించబడుతుంది మరియు ఇది అధిక-ఉష్ణోగ్రత మరియు అధిక-చికిత్స సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియలకు ప్రత్యేకంగా అనుకూలంగా ఉంటుంది. క్యారియర్ MOCVD ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల సమయంలో స్థిరమైన పొర మద్దతు మరియు ఏకరీతి చలనచిత్ర నిక్షేపణను అందిస్తుంది, ఇది పొర నిక్షేపణ ప్రక్రియకు అవసరం. మీ తదుపరి సంప్రదింపులను స్వాగతించండి.
మరిన్ని చూడండి >> విచారణ పంపండి >>
LPE హాఫ్మూన్ SIC EPI రియాక్టర్

LPE హాఫ్మూన్ SIC EPI రియాక్టర్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ ఒక ప్రొఫెషనల్ LPE హాఫ్‌మూన్ SIC EPI రియాక్టర్ ఉత్పత్తి తయారీదారు, ఇన్నోవేటర్ మరియు చైనాలో నాయకుడు. LPE హాఫ్‌మూన్ SIC EPI రియాక్టర్ అనేది అధిక-నాణ్యత సిలికాన్ కార్బైడ్ (SIC) ఎపిటాక్సియల్ పొరలను ఉత్పత్తి చేయడానికి ప్రత్యేకంగా రూపొందించిన పరికరం, దీనిని ప్రధానంగా సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో ఉపయోగిస్తారు. మీ తదుపరి విచారణలకు స్వాగతం.
మరిన్ని చూడండి >> విచారణ పంపండి >>
సివిడి సిక్ కోటెడ్ సీలింగ్

సివిడి సిక్ కోటెడ్ సీలింగ్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క సివిడి సిక్ కోటెడ్ సీలింగ్ అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత, అధిక కాఠిన్యం మరియు తక్కువ ఉష్ణ విస్తరణ గుణకం వంటి అద్భుతమైన లక్షణాలను కలిగి ఉంది, ఇది సెమీకండక్టర్ తయారీలో అనువైన పదార్థ ఎంపికగా మారుతుంది. చైనా ప్రముఖ సివిడి సిక్ కోటెడ్ సీలింగ్ తయారీదారు మరియు సరఫరాదారుగా, వెటెక్ సెమీకండక్టర్ మీ సంప్రదింపుల కోసం ఎదురు చూస్తున్నాడు.
మరిన్ని చూడండి >> విచారణ పంపండి >>
సివిడి సిక్ గ్రాఫైట్ సిలిండర్

సివిడి సిక్ గ్రాఫైట్ సిలిండర్

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క CVD SIC గ్రాఫైట్ సిలిండర్ సెమీకండక్టర్ పరికరాలలో కీలకమైనది, అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు పీడన సెట్టింగులలో అంతర్గత భాగాలను కాపాడటానికి రియాక్టర్లలో రక్షణ కవచంగా పనిచేస్తుంది. ఇది రసాయనాలు మరియు విపరీతమైన వేడి నుండి సమర్థవంతంగా కవచం, పరికరాల సమగ్రతను కాపాడుతుంది. అసాధారణమైన దుస్తులు మరియు తుప్పు నిరోధకతతో, ఇది సవాలు చేసే వాతావరణంలో దీర్ఘాయువు మరియు స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తుంది. ఈ కవర్లను ఉపయోగించడం సెమీకండక్టర్ పరికర పనితీరును పెంచుతుంది, జీవితకాలం పొడిగిస్తుంది మరియు నిర్వహణ అవసరాలు మరియు నష్టాలను తగ్గిస్తుంది.
మరిన్ని చూడండి >> విచారణ పంపండి >>

Veteksemicon silicon carbide epitaxy is your advanced procurement option for producing high-performance 4H-SiC and 6H-SiC epitaxial layers used in wide bandgap semiconductor devices. SiC epitaxy enables the formation of defect-controlled, dopant-engineered epitaxial layers critical for high-power, high-frequency, and high-temperature electronic devices.


Our offering includes specialized components such as SiC epitaxial susceptors, SiC-coated wafer holders, and epitaxy process rings, tailored for use in horizontal and vertical MOCVD and CVD reactors, including platforms by Veeco, Aixtron, and LPE. Veteksemicon’s parts are coated with high-purity CVD SiC, ensuring chemical compatibility, temperature uniformity, and minimal contamination during epitaxial layer growth.


Silicon carbide epitaxy is essential for fabricating power MOSFETs,  IGBTs, and RF components, particularly in automotive, energy, and aerospace applications. The epitaxial process requires extremely precise control over doping concentration, layer thickness, and crystallographic orientation, which is why substrate compatibility and thermal stability of reactor parts are critical.


Relevant terms in this category include 4H-SiC epitaxial wafer, low-defect-density epitaxy, SiC epi-ready substrates, and wide bandgap semiconductors. Veteksemicon supports both research-scale and volume production needs with stable, repeatable, and thermally robust component solutions.


To learn more about our silicon carbide epitaxy support materials, visit the Veteksemicon product detail page or contact us for detailed specifications and engineering support.


చైనాలో ప్రొఫెషనల్ సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సీ తయారీదారు మరియు సరఫరాదారుగా, మాకు మా స్వంత కర్మాగారం ఉంది. మీ ప్రాంతం యొక్క నిర్దిష్ట అవసరాలను తీర్చడానికి మీకు అనుకూలీకరించిన సేవలు అవసరమా లేదా చైనాలో తయారు చేసిన అధునాతన మరియు మన్నికైన {77 by కొనాలనుకుంటున్నారా, మీరు మాకు సందేశాన్ని పంపవచ్చు.
వార్తల సిఫార్సులు
ఐసోట్రోపిక్ గ్రాఫైట్ మరియు సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ మధ్య తేడాలు ఏమిటి?
ఐసోట్రోపిక్ గ్రాఫైట్ మరియు సిలికానైజ్డ్ గ్రాఫైట్ మధ్య తేడాలు ఏమిటి?మరిన్ని చూడండి >>
నీలమణి గురించి మీకు ఎంత తెలుసు?
నీలమణి గురించి మీకు ఎంత తెలుసు?మరిన్ని చూడండి >>
అధిక నాణ్యత గల క్రిస్టల్ పెరుగుదలను ఎలా సాధించాలి? - sic క్రిస్టల్ గ్రోత్ కొలిమి
అధిక నాణ్యత గల క్రిస్టల్ పెరుగుదలను ఎలా సాధించాలి? - sic క్రిస్టల్ గ్రోత్ కొలిమిమరిన్ని చూడండి >>
MOCVD ససెప్టర్ గురించి మీకు తెలుసా?
MOCVD ససెప్టర్ గురించి మీకు తెలుసా?మరిన్ని చూడండి >>
తైకో ప్రక్రియ సిలికాన్ పొరలను ఎంత సన్నగా చేస్తుంది?
తైకో ప్రక్రియ సిలికాన్ పొరలను ఎంత సన్నగా చేస్తుంది?మరిన్ని చూడండి >>
సివిడి టిఎసి పూత అంటే ఏమిటి? - వెటెక్సేమి
సివిడి టిఎసి పూత అంటే ఏమిటి? - వెటెక్సేమిమరిన్ని చూడండి >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept