పరిశ్రమ వార్తలు

ఈ వ్యాసం ప్రధానంగా GAN- ఆధారిత తక్కువ-ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సియల్ టెక్నాలజీని వివరిస్తుంది, వీటిలో GAN- ఆధారిత పదార్థాల క్రిస్టల్ స్ట్రక్చర్, 3. ఎపిటాక్సియల్ టెక్నాలజీ అవసరాలు మరియు అమలు పరిష్కారాలు, పివిడి సూత్రాల ఆధారంగా తక్కువ-ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సియల్ టెక్నాలజీ యొక్క ప్రయోజనాలు మరియు తక్కువ-ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సియల్ టెక్నాలజీ యొక్క అభివృద్ధి అవకాశాలు.

ఈ వ్యాసం మొదట TAC యొక్క పరమాణు నిర్మాణం మరియు భౌతిక లక్షణాలను పరిచయం చేస్తుంది మరియు సైనర్డ్ టాంటాలమ్ కార్బైడ్ మరియు సివిడి టాంటాలమ్ కార్బైడ్, అలాగే వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క ప్రసిద్ధ TAC పూత ఉత్పత్తుల యొక్క తేడాలు మరియు అనువర్తనాలపై దృష్టి పెడుతుంది.

ఈ వ్యాసం CVD TAC పూత యొక్క ఉత్పత్తి లక్షణాలను, CVD పద్ధతిని ఉపయోగించి CVD TAC పూతను తయారుచేసే ప్రక్రియ మరియు సిద్ధం చేసిన CVD TAC పూత యొక్క ఉపరితల పదనిర్మాణాన్ని గుర్తించే ప్రాథమిక పద్ధతిని పరిచయం చేస్తుంది.

ఈ వ్యాసం TAC పూత యొక్క ఉత్పత్తి లక్షణాలను పరిచయం చేస్తుంది, CVD సాంకేతిక పరిజ్ఞానాన్ని ఉపయోగించి TAC పూత ఉత్పత్తులను తయారుచేసే నిర్దిష్ట ప్రక్రియ, వెటెక్సెమికన్ యొక్క అత్యంత ప్రజాదరణ పొందిన TAC పూతను పరిచయం చేస్తుంది మరియు వెటెక్సెమికన్‌ను ఎంచుకోవడానికి గల కారణాలను క్లుప్తంగా విశ్లేషిస్తుంది.

ఈ వ్యాసం SIC ఎపిటాక్సియల్ వృద్ధికి కీలకమైన కోర్ పదార్థాన్ని SIC పూత కలిగి ఉండటానికి కారణాలను విశ్లేషిస్తుంది మరియు సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో SIC పూత యొక్క నిర్దిష్ట ప్రయోజనాలపై దృష్టి పెడుతుంది.

సిలికాన్ కార్బైడ్ నానోమెటీరియల్స్ (SIC) నానోమీటర్ స్కేల్ (1-100NM) వద్ద కనీసం ఒక కోణంతో కూడిన పదార్థాలు. ఈ పదార్థాలు సున్నా-, ఒకటి-, రెండు-, లేదా త్రిమితీయమైనవి మరియు విభిన్న అనువర్తనాలను కలిగి ఉంటాయి.