గ్లాస్ కార్బన్ క్రూసిబుల్

1. మెటీరియల్ లక్షణాలు: గ్రాఫిటైజ్ చేయని గ్లాసీ కార్బన్, పనితీరు అన్ని అంశాలలో సాంప్రదాయ పదార్థాలను అధిగమిస్తుంది

వెటెక్సెమికన్ యొక్క గ్లాసీ కార్బన్ క్రూసిబుల్ అధునాతన అధిక-ఉష్ణోగ్రత సింటరింగ్ సాంకేతికతను అవలంబిస్తుంది, మరియు పాలిమర్ పూర్వగామి జడ వాయువు వాతావరణంలో 3000 ° C వద్ద ప్రాసెస్ చేయబడుతుంది. ఇది గాజు సాంద్రత మరియు సిరామిక్స్ యొక్క అధిక-ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత రెండింటినీ కలిగి ఉంది.ప్రధాన ప్రయోజనాలు ఉన్నాయి:

✔ అల్ట్రా-హై స్వచ్ఛత: అశుద్ధమైన కంటెంట్ 2ppm కన్నా తక్కువ (అల్యూమినియం మరియు ఇనుము వంటి లోహ మలినాలు వంటివి), ఇది సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ పదార్థాల అవసరాలను తీర్చగలదు.

✔ తీవ్ర ఉష్ణోగ్రత నిరోధకత: దీనిని వాక్యూమ్ లేదా జడ వాయువులో 3000 ° C వరకు స్థిరంగా ఉపయోగించవచ్చు మరియు ఉష్ణోగ్రత పెరుగుదలతో బలం పెరుగుతుంది (2400 ° C వద్ద బలం సాధారణ ఉష్ణోగ్రత కంటే రెండింతలు).

✔ సున్నా సచ్ఛిద్రత మరియు పారగమ్యత వ్యతిరేకత: బహిరంగ రంధ్రాలు లేవు, మరియు గ్యాస్ పారగమ్యత గుణకం 10⁻⁹ cm²/s కంటే తక్కువగా ఉంటుంది, ఇది కరిగిన లోహం యొక్క ఆక్సీకరణ లేదా కలుషితాన్ని నివారించగలదు.

✔ అద్భుతమైన విద్యుత్ మరియు ఉష్ణ వాహకత.

✔ రసాయన తుప్పు నిరోధకత: బలమైన ఆమ్లం, బలమైన క్షార మరియు కరిగిన ఉప్పు తుప్పుకు నిరోధకతను కలిగి ఉంటుంది, కణాల షెడ్డింగ్ లేదు, సెమీకండక్టర్ ఉత్పత్తి యొక్క పరిశుభ్రతను నిర్ధారిస్తుంది.

2. సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌లో కోర్ అప్లికేషన్ దృశ్యాలు

వెటెక్సెమికన్ యొక్క గ్లాసీ కార్బన్ క్రూసిబుల్ ఉత్పత్తులు సెమీకండక్టర్ తయారీలో మొత్తం ప్రక్రియ యొక్క ముఖ్య లింక్‌లను కవర్ చేస్తాయి, సాధారణంగా వీటితో సహా:

1) సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ పెరుగుదల:

SIC క్రిస్టల్ గ్రోత్ కొలిమి కోసం ఉపయోగించే ఇన్సులేటింగ్ పూత, థర్మల్ ఫీల్డ్ స్థిరత్వాన్ని మెరుగుపరచడం మరియు శక్తి వినియోగాన్ని 20%తగ్గించడం.

అధిక స్వచ్ఛత లక్షణాలు సిలికాన్ కరిగే కాలుష్యాన్ని నివారించండి మరియు జాలక లోపాలను తగ్గిస్తాయి.

2) అయాన్ ఇంప్లాంటేషన్ మరియు ఎచింగ్ ప్రాసెస్:

ప్లాస్మా ఎచింగ్ వ్యవస్థ కోసం ఎలక్ట్రోడ్ మరియు గ్యాస్ డిఫ్యూజర్‌గా, ఇది ఏకరీతి ఉత్సర్గ మరియు ప్రక్రియ స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తుంది.

యాంటీ-అయాన్ బాంబు దాడుల లక్షణాలు పరికరాల జీవితాన్ని విస్తరిస్తాయి.

3) మెటలైజేషన్ మరియు మిశ్రమం స్మెల్టింగ్:

కరిగిన బంగారం, పల్లాడియం మరియు టైటానియం మిశ్రమాలకు అనువైన కంటైనర్, చెమ్మగిల్లలేని ఉపరితలం పదార్థ నష్టాన్ని తగ్గిస్తుంది.

అత్యంత చురుకైన అరుదైన లోహాల (గాలియం మరియు ఇండియం వంటివి) శుద్దీకరణ మరియు అచ్చుకు అనువైనది.

హెచ్చరిక:: క్రోమియం-కోబాల్ట్-మాలిబ్డినం మిశ్రమాలను కరిగించడానికి గ్లాస్ కార్బన్ క్రూసిబుల్స్ ఉపయోగించబడవు. అదేవిధంగా, సిలికాన్ లేదా టంగ్స్టన్ వంటి సులభంగా కార్బైడ్ కరగడానికి వాటిని ఉపయోగించలేరు.

4) అధునాతన ప్యాకేజింగ్ మరియు పరీక్ష:

పొర బదిలీ క్యారియర్ (డమ్మీ పొర) మరియు హీట్ రిఫ్లెక్టర్‌గా, ఇది అధిక-ఉష్ణోగ్రత ప్రక్రియల యొక్క స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారిస్తుంది.

3. ఎంటర్ప్రైజ్ ప్రొడక్షన్ బలం: పెద్ద ఎత్తున తయారీ మరియు సాంకేతిక ఆవిష్కరణ

గ్లాస్ కార్బన్ ముడి పదార్థాల చైనా యొక్క ప్రముఖ సరఫరాదారుగా, వెటెక్సెమికన్ ఈ క్రింది ప్రధాన ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది:

✔ పూర్తి-ప్రాసెస్ స్వతంత్ర ఉత్పత్తి

ముడి పదార్థం పాలిమరైజేషన్ నుండి అధిక-ఉష్ణోగ్రత సింటరింగ్ వరకు, బ్యాచ్ స్థిరత్వాన్ని నిర్ధారించడానికి మొత్తం ప్రక్రియ నియంత్రించదగినది.

భారీ ఉత్పత్తి సామర్థ్యం 5μm-స్థాయి అల్ట్రా-సన్నని పూతలను పెద్ద క్రూసిబుల్స్ (వ్యాసం 132 మిమీ, ఎత్తు 273 మిమీ స్పెసిఫికేషన్లు వంటివి) కలిగి ఉంటుంది.

✔ అనుకూలీకరించిన ప్రాసెసింగ్ సామర్థ్యాలు

± 0.2 మిమీ సహనం ఖచ్చితత్వంతో ప్రామాణికం కాని పరిమాణ అనుకూలీకరణకు (ప్రత్యేక ఆకారపు క్రూసిబుల్స్, గొట్టాలు, చలనచిత్రాలు వంటివి) మద్దతు ఇస్తుంది.

✔ టెక్నాలజీ ఆర్ అండ్ డి రిజర్వ్స్

నానో గ్లాస్ కార్బన్ (3GPA వరకు బలం) అభివృద్ధి చేయడానికి చైనీస్ అకాడమీ ఆఫ్ సైన్సెస్ యొక్క శాస్త్రీయ పరిశోధనా సంస్థలతో సహకరించండి మరియు సూక్ష్మీకరించిన సెమీకండక్టర్ పరికరాల అనువర్తనాన్ని విస్తరించండి.

పదార్థాల సరిహద్దు ఆవిష్కరణను ప్రోత్సహించడానికి ఇంధన సెల్ బైపోలార్ ప్లేట్లు మరియు ఏరోస్పేస్ టెయిల్ నాజిల్స్ వంటి అభివృద్ధి చెందుతున్న పొలాలను వేయండి.