CVD సిలికాన్ కార్బైడ్(SiC) కోటెడ్ RTP ససెప్టర్

ఫీచర్లు

• థర్మా ఏకరూపత - పదార్థం యొక్క అధిక ఉష్ణ డిఫ్యూసివిటీ వేగవంతమైన, ప్రాదేశికంగా ఏకరీతి ఉష్ణ బదిలీని అనుమతిస్తుంది, పునరావృతమయ్యే పొర ఉష్ణోగ్రత ప్రొఫైల్‌లకు మద్దతు ఇస్తుంది.
• అధిక స్వచ్ఛత స్థాయి - CVD SiC పూత 99.99995% స్వచ్ఛతను సాధిస్తుంది, క్లిష్టమైన ప్రక్రియ దశల్లో మొబైల్ అయాన్ మరియు మెటల్ కాలుష్య ప్రమాదాలను సమర్థవంతంగా తగ్గిస్తుంది.
• రసాయన మన్నిక - పూత అధిక ఉష్ణోగ్రతల క్రింద హాలోజన్ ఆధారిత వాయువులతో సహా తినివేయు జాతులకు బలమైన ప్రతిఘటనను ప్రదర్శిస్తుంది. l పొడిగించిన సేవా విరామాలు - మెరుగైన ఆక్సీకరణ మరియు దుస్తులు నిరోధకత తక్కువ రీప్లేస్‌మెంట్‌లకు మరియు తగ్గిన సాధనాల పనికిరాని సమయానికి అనువదిస్తుంది.
• డిజైన్ ఫ్లెక్సిబిలిటీ - నిర్దిష్ట RTP ఛాంబర్ జ్యామితులు మరియు పొర పరిమాణాలకు సరిపోయేలా కొలతలు మరియు కాన్ఫిగరేషన్‌లను స్వీకరించవచ్చు.

అప్లికేషన్లు

• రాపిడ్ థర్మల్ ప్రాసెసింగ్ (RTP)
• రాపిడ్ థర్మల్ ఎనియలింగ్ (RTA)
• డోపాంట్ యాక్టివేషన్ ఆక్సీకరణ మరియు ఎనియలింగ్ దశలు
• ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ (IC) తయారీ
• పవర్ డివైజ్ ఫ్యాబ్రికేషన్ టెక్నికల్
  
  

స్పెసిఫికేషన్లు

VeTek సెమీకండక్టర్‌ను ఎందుకు ఎంచుకోవాలి?

• అంతర్గత CVD SiC పూత ప్రక్రియ సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ అవసరాల కోసం ప్రత్యేకంగా అభివృద్ధి చేయబడింది.
• గ్రాఫైట్ శుద్దీకరణ, ఖచ్చితమైన మ్యాచింగ్ మరియు పూత మందం నియంత్రణ కోసం సమీకృత సామర్థ్యాలు.
• బ్యాచ్ ఉత్పత్తిలో నిరూపితమైన పూత సంశ్లేషణ మరియు పొర ఏకరూపత.
• ప్రధాన RTP టూల్ ప్లాట్‌ఫారమ్‌లకు అనుకూలమైన అనుకూల ససెప్టర్ డిజైన్‌లకు ఇంజనీరింగ్ మద్దతు.
• కఠినమైన ఇన్‌కమింగ్ మెటీరియల్ ఇన్‌స్పెక్షన్, ఇన్-ప్రాసెస్ మానిటరింగ్ మరియు ఫైనల్ క్వాలిఫికేషన్ టెస్టింగ్ బ్యాచ్-టు-బ్యాచ్ అనుగుణ్యతను నిర్ధారిస్తాయి.