ఉత్పత్తులు
ఉత్పత్తులు
వేఫర్ క్యారియర్ కోసం CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్
  • వేఫర్ క్యారియర్ కోసం CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్వేఫర్ క్యారియర్ కోసం CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్

వేఫర్ క్యారియర్ కోసం CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్

వేఫర్ క్యారియర్ కోసం VETEK CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ అనేది సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియల కోసం రూపొందించబడిన అధిక-పనితీరు గల పొర మద్దతు భాగం. ఉత్పత్తి అధిక-స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్‌ను సబ్‌స్ట్రేట్‌గా ఉపయోగిస్తుంది మరియు ఏకరీతి CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) పొరతో పూత పూయబడి, అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం, రసాయన నిరోధకత మరియు కణ నియంత్రణను అందిస్తుంది. క్లిష్టమైన గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ కాంపోనెంట్‌గా, ఇది రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లోని పొరలకు నేరుగా మద్దతు ఇస్తుంది మరియు ఏకరీతి ఉష్ణోగ్రత పంపిణీ మరియు స్థిరమైన ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల పరిస్థితులను నిర్వహించడానికి సహాయపడుతుంది.

1. ఉత్పత్తి ప్రయోజనాలు


  • అధిక స్వచ్ఛత పదార్థం:సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ గ్రాఫైట్ పదార్థం మరియు దట్టమైన SiC పూత నిర్మాణం కాలుష్య ప్రమాదాలను తగ్గిస్తుంది మరియు CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ యొక్క విశ్వసనీయతను మెరుగుపరుస్తుంది.
  • అద్భుతమైన ఉష్ణ ఏకరూపత:ఆప్టిమైజ్ చేయబడిన గ్రాఫైట్ నిర్మాణం మరియు SiC పూత స్థిరమైన ఉష్ణ బదిలీ మరియు ఏకరీతి పొర ఉష్ణోగ్రత నియంత్రణను అందిస్తాయి.
  • సుపీరియర్ కెమికల్ రెసిస్టెన్స్:దట్టమైన SiC పూత ప్రక్రియ వాయువులు మరియు తినివేయు వాతావరణాలకు వ్యతిరేకంగా బలమైన ప్రతిఘటనను అందిస్తుంది.
  • సుదీర్ఘ సేవా జీవితం:అధిక కాఠిన్యం మరియు దుస్తులు నిరోధకత అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సీ పరిస్థితులలో మన్నికను మెరుగుపరుస్తాయి.
  • తక్కువ కణ ఉత్పత్తి:దట్టమైన CVD SiC ఉపరితలం కణాల విడుదలను తగ్గిస్తుంది మరియు పొర ప్రక్రియ విశ్వసనీయతను మెరుగుపరుస్తుంది.
  • అనుకూలీకరించిన డిజైన్ సామర్థ్యం:పరికరాల అవసరాలకు అనుగుణంగా వివిధ పరిమాణాలు, నిర్మాణాలు మరియు కాన్ఫిగరేషన్‌లలో అందుబాటులో ఉంటుంది.



2. సాంకేతిక లక్షణాలు

అంశం
సాధారణ విలువ
సబ్‌స్ట్రేట్ మెటీరియల్
అధిక స్వచ్ఛత గ్రాఫైట్
పూత పదార్థం
CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC)
SiC స్వచ్ఛత
≥99.999%
పూత మందం
100 ± 20 μm (అనుకూలీకరించదగినది)
పూత మందం ఏకరూపత
బ్యాచ్‌ల మధ్య 10 μm లోపల నియంత్రించబడుతుంది
CVD SiC పూత యొక్క సాంద్రత
3.21 గ్రా/సెం³
ఉష్ణ వాహకత
300 W/m·K
థర్మల్ విస్తరణ గుణకం
4.5 × 10⁻⁶/K

3. అప్లికేషన్లు


  • SiC ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియ:గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ SiC ఎపిటాక్సీ పరికరాలలో పొర క్యారియర్‌గా ఉపయోగించబడుతుంది, అధిక-ఉష్ణోగ్రత ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదల సమయంలో SiC సబ్‌స్ట్రేట్‌లకు మద్దతు ఇస్తుంది.
  • సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియ:పొరలను సపోర్టింగ్ చేయడానికి మరియు స్థిరమైన ఉష్ణ పరిస్థితులను నిర్వహించడానికి సిలికాన్ ఎపిటాక్సియల్ రియాక్టర్లలో వర్తించబడుతుంది.
  • MOCVD ఎపిటాక్సీ:VETEK గ్రాఫైట్ ససెప్టర్లు MOCVD, LED ఎపిటాక్సీ, GaN ఎపిటాక్సీ, సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ మరియు అద్భుతమైన ఉష్ణ ఏకరూపత మరియు రసాయన స్థిరత్వం అవసరమయ్యే ఇతర సెమీకండక్టర్ తయారీ ప్రక్రియలకు అనుకూలంగా ఉంటాయి.
  • సెమీకండక్టర్ తయారీ సామగ్రి:LPE క్షితిజ సమాంతర ఫర్నేసులు, Aixtron, NuFlare మరియు సంబంధిత సెమీకండక్టర్ పరికరాలతో సహా వివిధ ఎపిటాక్సీ ప్లాట్‌ఫారమ్‌లకు అనుకూలమైనది.



4. VETEKని ఎందుకు ఎంచుకోవాలి?

VETEK గ్రాఫైట్ ప్యూరిఫికేషన్, ప్రిసిషన్ మ్యాచింగ్, CVD పూత మరియు తనిఖీ సామర్థ్యాలను సమగ్రపరిచే అనుకూలీకరించిన CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ సొల్యూషన్‌లను అందిస్తుంది. మా సెమీకండక్టర్-గ్రేడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్ ఉత్పత్తులు అధిక స్వచ్ఛత, ఏకరీతి పూత మందం, అద్భుతమైన థర్మల్ పనితీరు మరియు డిమాండ్ వేఫర్ క్యారియర్ అప్లికేషన్‌ల కోసం సుదీర్ఘ సేవా జీవితాన్ని కలిగి ఉంటాయి.

హాట్ ట్యాగ్‌లు: CVD SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ ససెప్టర్, గ్రాఫైట్ ససెప్టర్, SiC కోటెడ్ గ్రాఫైట్ వేఫర్ క్యారియర్, సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ ససెప్టర్, MOCVD గ్రాఫైట్ ససెప్టర్, SiC వేఫర్ క్యారియర్, CVD SiC గ్రాఫైట్ ససెప్టర్
విచారణ పంపండి
సంప్రదింపు సమాచారం
  • చిరునామా

    వాంగ్డా రోడ్, జియాంగ్ స్ట్రీట్, వుయి కౌంటీ, జిన్హువా సిటీ, జెజియాంగ్ ప్రావిన్స్, చైనా

  • ఇమెయిల్

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
వార్తల సిఫార్సులు
X
మీకు మెరుగైన బ్రౌజింగ్ అనుభవాన్ని అందించడానికి, సైట్ ట్రాఫిక్‌ను విశ్లేషించడానికి మరియు కంటెంట్‌ను వ్యక్తిగతీకరించడానికి మేము కుక్కీలను ఉపయోగిస్తాము. ఈ సైట్‌ని ఉపయోగించడం ద్వారా, మీరు మా కుక్కీల వినియోగానికి అంగీకరిస్తున్నారు. గోప్యతా విధానం
తిరస్కరించుఅంగీకరించు