ఉత్పత్తులు
ఉత్పత్తులు
పొర క్యారియర్ ట్రే
  • పొర క్యారియర్ ట్రేపొర క్యారియర్ ట్రే

పొర క్యారియర్ ట్రే

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ తన వినియోగదారులతో భాగస్వామ్యం చేయడంలో ప్రత్యేకత కలిగి ఉంది, పొర క్యారియర్ ట్రే కోసం కస్టమ్ డిజైన్లను రూపొందించడానికి. CVD సిలికాన్ ఎపిటాక్సీ, III-V ఎపిటాక్సీ, మరియు III-నైట్రైడ్ ఎపిటాక్సీ, సిలికాన్ కార్బైడ్ ఎపిటాక్సీలో వాఫర్ క్యారియర్ ట్రేని రూపొందించవచ్చు. దయచేసి మీ ససెప్టర్ అవసరాలకు సంబంధించి వెటెక్ సెమీకండక్టర్‌ను సంప్రదించండి.

మీరు మా ఫ్యాక్టరీ నుండి పొర క్యారియర్ ట్రేని కొనమని హామీ ఇవ్వవచ్చు.

Vetek సెమీకండక్టర్ ప్రధానంగా మూడవ తరం సెమీకండక్టర్ SiC-CVD పరికరాల కోసం వేఫర్ క్యారియర్ ట్రే వంటి CVD SiC కోటింగ్ గ్రాఫైట్ భాగాలను అందిస్తుంది మరియు పరిశ్రమ కోసం అధునాతన మరియు పోటీ ఉత్పత్తి పరికరాలను అందించడానికి అంకితం చేయబడింది. SiC-CVD పరికరాలు సిలికాన్ కార్బైడ్ సబ్‌స్ట్రేట్‌పై సజాతీయ సింగిల్ క్రిస్టల్ థిన్ ఫిల్మ్ ఎపిటాక్సియల్ పొర పెరుగుదలకు ఉపయోగించబడుతుంది, SiC ఎపిటాక్సియల్ షీట్ ప్రధానంగా షాట్కీ డయోడ్, IGBT, MOSFET మరియు ఇతర ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల వంటి పవర్ పరికరాల తయారీకి ఉపయోగించబడుతుంది.

పరికరాలు ప్రక్రియ మరియు పరికరాలను దగ్గరగా మిళితం చేస్తాయి. SiC-CVD పరికరాలు అధిక ఉత్పత్తి సామర్థ్యం, ​​6/8 అంగుళాల అనుకూలత, పోటీ ధర, బహుళ ఫర్నేస్‌ల కోసం నిరంతర స్వయంచాలక వృద్ధి నియంత్రణ, తక్కువ లోపం రేటు, నిర్వహణ సౌలభ్యం మరియు ఉష్ణోగ్రత క్షేత్ర నియంత్రణ మరియు ప్రవాహ క్షేత్ర నియంత్రణ రూపకల్పన ద్వారా విశ్వసనీయతలో స్పష్టమైన ప్రయోజనాలను కలిగి ఉన్నాయి. మా Vetek సెమీకండక్టర్ అందించిన SiC కోటెడ్ వేఫర్ క్యారియర్ ట్రేతో కలిపి, ఇది పరికరాల ఉత్పత్తి సామర్థ్యాన్ని మెరుగుపరుస్తుంది, జీవితాన్ని పొడిగిస్తుంది మరియు ఖర్చును నియంత్రించగలదు.

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క పొర క్యారియర్ ట్రే ప్రధానంగా అధిక స్వచ్ఛత, మంచి గ్రాఫైట్ స్థిరత్వం, అధిక ప్రాసెసింగ్ ప్రెసిషన్, ప్లస్ సివిడి సిక్ పూత, అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం: సిలికాన్-కార్బైడ్ పూతలు అద్భుతమైన అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వాన్ని కలిగి ఉంటాయి మరియు చాలా ఎక్కువ ఉష్ణోగ్రత పరిసరాలలో వేడి మరియు రసాయన తుప్పు నుండి ఉపరితలం నుండి రక్షించబడతాయి .

కాఠిన్యం మరియు దుస్తులు నిరోధకత: సిలికాన్-కార్బైడ్ పూతలు సాధారణంగా అధిక కాఠిన్యాన్ని కలిగి ఉంటాయి, అద్భుతమైన దుస్తులు నిరోధకతను అందిస్తాయి మరియు ఉపరితలం యొక్క సేవా జీవితాన్ని పొడిగిస్తాయి.

తుప్పు నిరోధకత: సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత అనేక రసాయనాలకు నిరోధకత మరియు తుప్పు నష్టం నుండి ఉపరితలాన్ని రక్షించగలదు.

ఘర్షణ యొక్క తగ్గిన గుణకం: సిలికాన్-కార్బైడ్ పూతలు సాధారణంగా ఘర్షణ యొక్క తక్కువ గుణకాన్ని కలిగి ఉంటాయి, ఇది ఘర్షణ నష్టాలను తగ్గిస్తుంది మరియు భాగాల పని సామర్థ్యాన్ని మెరుగుపరుస్తుంది.

థర్మల్ కండక్టివిటీ: సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత సాధారణంగా మంచి ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉంటుంది, ఇది ఉపరితలం మెరుగైన వేడిని బాగా చెదరగొట్టడానికి మరియు భాగాల ఉష్ణ వెదజల్లడం ప్రభావాన్ని మెరుగుపరచడంలో సహాయపడుతుంది.

సాధారణంగా, CVD సిలికాన్ కార్బైడ్ పూత ఉపరితలానికి బహుళ రక్షణను అందిస్తుంది, దాని సేవా జీవితాన్ని పొడిగిస్తుంది మరియు దాని పనితీరును మెరుగుపరుస్తుంది.


CVD SIC పూత యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలు:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE

సివిడి సిక్ పూత యొక్క ప్రాథమిక భౌతిక లక్షణాలు
ఆస్తి సాధారణ విలువ
క్రిస్టల్ నిర్మాణం FCC β దశ పాలిక్రిస్టలైన్, ప్రధానంగా (111) ఆధారితమైనది
సాంద్రత 3.21 గ్రా/సెం.మీ.
కాఠిన్యం 2500 వికర్స్ కాఠిన్యం (500 గ్రా లోడ్)
ధాన్యం పరిమాణం 2 ~ 10 మిమీ
రసాయన స్వచ్ఛత 99.99995%
ఉష్ణ సామర్థ్యం 640 J·kg-1·కె-1
సబ్లిమేషన్ ఉష్ణోగ్రత 2700℃
ఫ్లెక్సురల్ స్ట్రెంత్ 415 MPa Rt 4-పాయింట్
యంగ్ మాడ్యులస్ 430 Gpa 4pt బెండ్, 1300℃
ఉష్ణ వాహకత 300W · M-1·కె-1
థర్మల్ విస్తరణ (CTE) 4.5 × 10-6K-1


ఉత్పత్తి దుకాణాలు:

VeTek Semiconductor Production Shop


సెమీకండక్టర్ చిప్ ఎపిటాక్సీ పరిశ్రమ గొలుసు యొక్క అవలోకనం:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


హాట్ ట్యాగ్‌లు: పొర క్యారియర్ ట్రే
విచారణ పంపండి
సంప్రదింపు సమాచారం
  • చిరునామా

    వాంగ్డా రోడ్, జియాంగ్ స్ట్రీట్, వుయి కౌంటీ, జిన్హువా సిటీ, జెజియాంగ్ ప్రావిన్స్, చైనా

  • ఇమెయిల్

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
వార్తల సిఫార్సులు
X
మీకు మెరుగైన బ్రౌజింగ్ అనుభవాన్ని అందించడానికి, సైట్ ట్రాఫిక్‌ను విశ్లేషించడానికి మరియు కంటెంట్‌ను వ్యక్తిగతీకరించడానికి మేము కుక్కీలను ఉపయోగిస్తాము. ఈ సైట్‌ని ఉపయోగించడం ద్వారా, మీరు మా కుక్కీల వినియోగానికి అంగీకరిస్తున్నారు. గోప్యతా విధానం
తిరస్కరించుఅంగీకరించు