SiC కాంటిలివర్ తెడ్డు

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ యొక్క సిక్ కాంటిలివర్ పాడిల్ హీట్ ట్రీట్మెంట్ ఫర్నేసులలో పొర పడవలను నిర్వహించడానికి మరియు మద్దతు ఇవ్వడానికి ఉపయోగిస్తారు. అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం మరియు SIC పదార్థం యొక్క అధిక ఉష్ణ వాహకత సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియలో అధిక సామర్థ్యం మరియు విశ్వసనీయతను నిర్ధారిస్తుంది. పోటీ ధరలకు అధిక-నాణ్యత ఉత్పత్తులను అందించడానికి మేము కట్టుబడి ఉన్నాము మరియు చైనాలో మీ దీర్ఘకాలిక భాగస్వామి కావడానికి ఎదురుచూస్తున్నాము.

విచారణ పంపండి

ఉత్పత్తి వివరణ

తాజా అమ్మకం, తక్కువ ధర మరియు అధిక-నాణ్యత గల SIC కాంటిలివర్ తెడ్డును కొనుగోలు చేయడానికి మా ఫ్యాక్టరీ వెటెక్ సెమీకండక్టర్‌కు రావాలని మీకు స్వాగతం పలికారు. మీతో సహకరించడానికి మేము ఎదురుచూస్తున్నాము.

VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ ఫీచర్లు:

అధిక ఉష్ణోగ్రత స్థిరత్వం: అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద దాని ఆకారం మరియు నిర్మాణాన్ని నిర్వహించగలదు, అధిక ఉష్ణోగ్రత ప్రాసెసింగ్ ప్రక్రియలకు అనువైనది.

తుప్పు నిరోధకత: వివిధ రకాల రసాయనాలు మరియు వాయువులకు అద్భుతమైన తుప్పు నిరోధకత.

అధిక బలం మరియు దృ g త్వం: వైకల్యం మరియు నష్టాన్ని నివారించడానికి నమ్మదగిన మద్దతును అందిస్తుంది.

VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ యొక్క ప్రయోజనాలు:

అధిక ఖచ్చితత్వం: అధిక ప్రాసెసింగ్ ఖచ్చితత్వం ఆటోమేటెడ్ పరికరాలలో స్థిరమైన ఆపరేషన్‌ను నిర్ధారిస్తుంది.

తక్కువ కాలుష్యం: అధిక-స్వచ్ఛత SIC పదార్థం కలుషిత ప్రమాదాన్ని తగ్గిస్తుంది, ఇది అల్ట్రా-క్లీన్ తయారీ వాతావరణాలకు చాలా ముఖ్యమైనది.

అధిక యాంత్రిక లక్షణాలు: అధిక ఉష్ణోగ్రతలు మరియు అధిక పీడనాలతో కఠినమైన పని వాతావరణాలను తట్టుకోగలవు.

SIC కాంటిలివర్ పాడిల్ మరియు దాని అప్లికేషన్ సూత్రం యొక్క నిర్దిష్ట అనువర్తనాలు

సెమీకండక్టర్ తయారీలో సిలికాన్ పొర నిర్వహణ:

SIC కాంటిలివర్ పాడిల్ ప్రధానంగా సెమీకండక్టర్ తయారీ సమయంలో సిలికాన్ పొరలను నిర్వహించడానికి మరియు మద్దతు ఇవ్వడానికి ఉపయోగిస్తారు. ఈ ప్రక్రియలలో సాధారణంగా శుభ్రపరచడం, చెక్కడం, పూత మరియు వేడి చికిత్స ఉంటాయి. దరఖాస్తు సూత్రం:

సిలికాన్ పొర నిర్వహణ: SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ సిలికాన్ పొరలను సురక్షితంగా బిగించడానికి మరియు తరలించడానికి రూపొందించబడింది. అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు రసాయన చికిత్స ప్రక్రియల సమయంలో, SiC పదార్థం యొక్క అధిక కాఠిన్యం మరియు బలం సిలికాన్ పొర దెబ్బతినకుండా లేదా వైకల్యం చెందకుండా నిర్ధారిస్తుంది.

రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (సివిడి) ప్రక్రియ:

సివిడి ప్రక్రియలో, సిలికాన్ పొరలను తీసుకెళ్లడానికి సిక్ కాంటిలివర్ పాడిల్ ఉపయోగించబడుతుంది, తద్వారా సన్నని చలనచిత్రాలను వాటి ఉపరితలాలపై జమ చేయవచ్చు. దరఖాస్తు సూత్రం:

CVD ప్రక్రియలో, SiC కాంటిలివర్ పాడిల్ ప్రతిచర్య గదిలో సిలికాన్ పొరను పరిష్కరించడానికి ఉపయోగించబడుతుంది మరియు వాయు పూర్వగామి అధిక ఉష్ణోగ్రత వద్ద కుళ్ళిపోతుంది మరియు సిలికాన్ పొర యొక్క ఉపరితలంపై ఒక సన్నని పొరను ఏర్పరుస్తుంది. SiC పదార్థం యొక్క రసాయన తుప్పు నిరోధకత అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు రసాయన వాతావరణంలో స్థిరమైన ఆపరేషన్‌ను నిర్ధారిస్తుంది.