MOCVD టెక్నాలజీ

VeTek సెమీకండక్టర్ MOCVD టెక్నాలజీ విడి భాగాలలో ప్రయోజనం మరియు అనుభవం కలిగి ఉంది.

MOCVD, మెటల్-ఆర్గానిక్ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (మెటల్-ఆర్గానిక్ కెమికల్ ఆవిరి నిక్షేపణ) యొక్క పూర్తి పేరు, లోహ-సేంద్రీయ ఆవిరి దశ ఎపిటాక్సీ అని కూడా పిలుస్తారు. ఆర్గానోమెటాలిక్ సమ్మేళనాలు లోహ-కార్బన్ బంధాలతో కూడిన సమ్మేళనాల తరగతి. ఈ సమ్మేళనాలు లోహం మరియు కార్బన్ అణువుల మధ్య కనీసం ఒక రసాయన బంధాన్ని కలిగి ఉంటాయి. లోహ-సేంద్రీయ సమ్మేళనాలు తరచుగా పూర్వగాములుగా ఉపయోగించబడతాయి మరియు వివిధ నిక్షేపణ పద్ధతుల ద్వారా ఉపరితలంపై సన్నని చలనచిత్రాలు లేదా నానోస్ట్రక్చర్‌లను ఏర్పరుస్తాయి.

మెటల్-ఆర్గానిక్ కెమికల్ ఆవిరి నిక్షేపణ (MOCVD టెక్నాలజీ) అనేది ఒక సాధారణ ఎపిటాక్సియల్ గ్రోత్ టెక్నాలజీ, MOCVD టెక్నాలజీ సెమీకండక్టర్ లేజర్‌లు మరియు లెడ్‌ల తయారీలో విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. ముఖ్యంగా లెడ్‌లను తయారు చేస్తున్నప్పుడు, MOCVD అనేది గాలియం నైట్రైడ్ (GaN) మరియు సంబంధిత పదార్థాల ఉత్పత్తికి కీలకమైన సాంకేతికత.

ఎపిటాక్సీ యొక్క రెండు ప్రధాన రూపాలు ఉన్నాయి: లిక్విడ్ ఫేజ్ ఎపిటాక్సీ (LPE) మరియు ఆవిరి దశ ఎపిటాక్సీ (VPE). గ్యాస్ ఫేజ్ ఎపిటాక్సీని లోహ-సేంద్రీయ రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (MOCVD) మరియు మాలిక్యులర్ బీమ్ ఎపిటాక్సీ (MBE)గా విభజించవచ్చు.

విదేశీ పరికరాల తయారీదారులు ప్రధానంగా Aixtron మరియు Veeco ద్వారా ప్రాతినిధ్యం వహిస్తారు. MOCVD వ్యవస్థ అనేది లేజర్‌లు, లెడ్‌లు, ఫోటోఎలెక్ట్రిక్ భాగాలు, పవర్, RF పరికరాలు మరియు సౌర ఘటాల తయారీకి కీలకమైన పరికరాలలో ఒకటి.

మా కంపెనీ తయారు చేసిన MOCVD సాంకేతిక విడిభాగాల యొక్క ప్రధాన లక్షణాలు:

1) అధిక సాంద్రత మరియు పూర్తి ఎన్‌క్యాప్సులేషన్: మొత్తంగా గ్రాఫైట్ బేస్ అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు తినివేయు పని వాతావరణంలో ఉంటుంది, ఉపరితలం పూర్తిగా చుట్టబడి ఉండాలి మరియు మంచి రక్షణ పాత్రను పోషించడానికి పూత మంచి సాంద్రతను కలిగి ఉండాలి.

2) మంచి ఉపరితల ఫ్లాట్‌నెస్: సింగిల్ క్రిస్టల్ పెరుగుదలకు ఉపయోగించే గ్రాఫైట్ బేస్‌కు చాలా ఎక్కువ ఉపరితల ఫ్లాట్‌నెస్ అవసరం కాబట్టి, పూత సిద్ధమైన తర్వాత బేస్ యొక్క అసలైన ఫ్లాట్‌నెస్‌ను నిర్వహించాలి, అంటే పూత పొర ఏకరీతిగా ఉండాలి.

3) మంచి బంధం బలం: గ్రాఫైట్ బేస్ మరియు పూత పదార్థం మధ్య ఉష్ణ విస్తరణ యొక్క గుణకంలో వ్యత్యాసాన్ని తగ్గించండి, ఇది రెండింటి మధ్య బంధన బలాన్ని సమర్థవంతంగా మెరుగుపరుస్తుంది మరియు అధిక మరియు తక్కువ ఉష్ణోగ్రత వేడిని అనుభవించిన తర్వాత పూత పగులగొట్టడం సులభం కాదు. చక్రం.

4) అధిక ఉష్ణ వాహకత: అధిక-నాణ్యత చిప్ పెరుగుదలకు వేగవంతమైన మరియు ఏకరీతి వేడిని అందించడానికి గ్రాఫైట్ బేస్ అవసరం, కాబట్టి పూత పదార్థం అధిక ఉష్ణ వాహకతను కలిగి ఉండాలి.

5) అధిక ద్రవీభవన స్థానం, అధిక ఉష్ణోగ్రత ఆక్సీకరణ నిరోధకత, తుప్పు నిరోధకత: పూత అధిక ఉష్ణోగ్రత మరియు తినివేయు పని వాతావరణంలో స్థిరంగా పని చేయగలగాలి.

4 అంగుళాల ఉపరితలం ఉంచండి
పెరుగుతున్న LED కోసం బ్లూ-గ్రీన్ ఎపిటాక్సీ
రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లో ఉంచారు
పొరతో ప్రత్యక్ష పరిచయం 4 అంగుళాల ఉపరితలం ఉంచండి
UV LED ఎపిటాక్సియల్ ఫిల్మ్‌ను పెంచడానికి ఉపయోగిస్తారు
రియాక్షన్ ఛాంబర్‌లో ఉంచారు
పొరతో ప్రత్యక్ష పరిచయం వీకో K868/Veeco K700 మెషిన్
వైట్ LED ఎపిటాక్సీ/బ్లూ-గ్రీన్ LED ఎపిటాక్సీ VEECO సామగ్రిలో ఉపయోగించబడుతుంది
MOCVD ఎపిటాక్సీ కోసం
SiC కోటింగ్ ససెప్టర్ Aixtron TS సామగ్రి
లోతైన అతినీలలోహిత ఎపిటాక్సీ
2-అంగుళాల సబ్‌స్ట్రేట్ వీకో పరికరాలు
ఎరుపు-పసుపు LED ఎపిటాక్సీ
4-అంగుళాల వేఫర్ సబ్‌స్ట్రేట్ TaC కోటెడ్ ససెప్టర్
(SiC Epi/ UV LED రిసీవర్) SiC కోటెడ్ ససెప్టర్
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD ససెప్టర్)