CVD TAC కోటింగ్

CVD TAC పూత (రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ టాంటాలమ్ కార్బైడ్ కోటింగ్) అనేది ప్రధానంగా టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TAC) తో కూడిన పూత ఉత్పత్తి. TAC పూత చాలా ఎక్కువ కాఠిన్యం, దుస్తులు నిరోధకత మరియు అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకతను కలిగి ఉంది, ఇది కీలక పరికరాల భాగాలను రక్షించడానికి మరియు ప్రక్రియ విశ్వసనీయతను మెరుగుపరచడానికి అనువైన ఎంపికగా మారుతుంది. ఇది సెమీకండక్టర్ ప్రాసెసింగ్‌లో అనివార్యమైన పదార్థం.

CVD TAC పూత ఉత్పత్తులు సాధారణంగా ప్రతిచర్య గదులు, పొర క్యారియర్లు మరియు ఎచింగ్ పరికరాలలో ఉపయోగించబడతాయి మరియు వాటిలో ఈ క్రింది కీలక పాత్రలను పోషిస్తాయి.

CVD TAC పూత తరచుగా సబ్‌స్ట్రేట్స్, వాల్ ప్యానెల్లు మరియు తాపన అంశాలు వంటి ప్రతిచర్య గదుల యొక్క అంతర్గత భాగాల కోసం ఉపయోగించబడుతుంది. దాని అద్భుతమైన అధిక ఉష్ణోగ్రత నిరోధకతతో కలిపి, ఇది అధిక ఉష్ణోగ్రత, తినివేయు వాయువులు మరియు ప్లాస్మా యొక్క కోతను సమర్థవంతంగా నిరోధించగలదు, తద్వారా పరికరాల సేవా జీవితాన్ని సమర్థవంతంగా విస్తరిస్తుంది మరియు ప్రక్రియ యొక్క స్థిరత్వం మరియు ఉత్పత్తి ఉత్పత్తి యొక్క స్వచ్ఛతను నిర్ధారిస్తుంది.

అదనంగా, TaC-కోటెడ్ పొర క్యారియర్‌లు (క్వార్ట్జ్ బోట్‌లు, ఫిక్చర్‌లు మొదలైనవి) కూడా అద్భుతమైన ఉష్ణ నిరోధకత మరియు రసాయన తుప్పు నిరోధకతను కలిగి ఉంటాయి. పొర క్యారియర్ అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద పొరకు నమ్మకమైన మద్దతును అందిస్తుంది, పొర కాలుష్యం మరియు వైకల్యాన్ని నిరోధించవచ్చు మరియు తద్వారా మొత్తం చిప్ దిగుబడిని మెరుగుపరుస్తుంది.

అంతేకాకుండా, VeTek సెమీకండక్టర్ యొక్క TaC పూత ప్లాస్మా ఎచర్లు, రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ వ్యవస్థలు మొదలైన వివిధ ఎచింగ్ మరియు థిన్ ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ పరికరాలలో కూడా విస్తృతంగా ఉపయోగించబడుతుంది. ఈ ప్రాసెసింగ్ సిస్టమ్‌లలో, CVD TAC పూత అధిక-శక్తి అయాన్ బాంబు దాడి మరియు బలమైన రసాయన ప్రతిచర్యలను తట్టుకోగలదు. , తద్వారా ప్రక్రియ యొక్క ఖచ్చితత్వం మరియు పునరావృతతను నిర్ధారిస్తుంది.

మీ నిర్దిష్ట అవసరాలు ఏమైనప్పటికీ, మేము మీ CVD TAC పూత అవసరాలకు ఉత్తమమైన పరిష్కారంతో సరిపోలుతాము మరియు ఎప్పుడైనా మీ సంప్రదింపుల కోసం ఎదురుచూస్తాము.

వెటెక్ సెమీకండక్టర్ సివిడి టిఎసి పూత ఉత్పత్తుల షాపులు:

సెమీకండక్టర్ చిప్ ఎపిటాక్సీ పరిశ్రమ గొలుసు యొక్క అవలోకనం: