QR కోడ్
ఉత్పత్తులు
మమ్మల్ని సంప్రదించండి


ఫ్యాక్స్
+86-579-87223657

ఇమెయిల్

చిరునామా
వాంగ్డా రోడ్, జియాంగ్ స్ట్రీట్, వుయి కౌంటీ, జిన్హువా సిటీ, జెజియాంగ్ ప్రావిన్స్, చైనా
|
పరిశ్రమ |
సెమీకండక్టర్ తయారీ (ఎపిటాక్సీ/ఎచింగ్ హాట్-జోన్ కాంపోనెంట్ నాణ్యత ఆమోదం) |
|
ప్రక్రియ |
GaN MOCVD,SiC ఎపిటాక్సీ, సంబంధిత హాట్-జోన్ భాగాల ఇన్కమింగ్ మరియు ఆన్-టూల్ అంగీకారం |
|
పరిష్కారం |
మందం ఏకరూపత, కణాలు, స్వచ్ఛత మరియు ఉపరితల స్థితి కోసం పరిమాణాత్మక అంగీకార ఫ్రేమ్వర్క్ |
|
సేవలు |
GDMS/ICP-OES నివేదికలు, మందం మరియు ఏకరూపత డేటా, నమూనా ధృవీకరణ, వైఫల్య విశ్లేషణ మద్దతు |
|
ఫలితాలు |
• సాధారణ మందం ఏకరూపత లక్ష్యం: ±5% లోపల • కణ నియంత్రణ సూచన: ≤0.1/cm² క్రమం (ప్రాసెస్-ఆధారిత) • పూత స్వచ్ఛత 5 ppm కంటే తక్కువగా ఉంటుంది; కొన్ని బ్యాచ్లు 99.99995%కి చేరుకుంటాయి • డెలివరీలో తనిఖీ చేయగల ఇన్కమింగ్ మెట్రిక్లు మరియు రిపోర్ట్ ఐటెమ్లు |
మెటీరియల్ని ఎంచుకున్న తర్వాత, టూల్ పనితీరును తరచుగా నిర్ణయించేది మందం ఏకరూపత, కణ స్థాయి మరియు స్వచ్ఛత వంటి పరిమాణాత్మక కొలమానాలు. ఈ కథనం ఆమోదం మరియు ఉపయోగంలో CVD SiC పూత యొక్క కీలక నాణ్యత కొలతలను నిర్వహిస్తుంది, ఇది "స్పెసిఫికేషన్ మ్యాచ్లు" నుండి "నివేదికను తనిఖీ చేయవచ్చు మరియు ప్రమాదాన్ని అంచనా వేయవచ్చు.
ప్రధాన ముగింపు:నాన్-యూనిఫాం పూత మందం స్థానిక ఉష్ణ నిరోధకత మరియు ఉపరితల స్థితిని మారుస్తుంది, ఇది ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపత మరియు ఎపిటాక్సియల్ ఫిల్మ్ మందం పంపిణీని ప్రభావితం చేస్తుంది. ఒక సాధారణ ఇంజనీరింగ్ లక్ష్యం ±5% లోపల మందం ఏకరూపతను నియంత్రించడం, కొలత పాయింట్లు భాగం యొక్క క్లిష్టమైన జోన్లలో ఉంచబడతాయి-సగటు విలువను మాత్రమే చూడటం లేదు.
ససెప్టర్లు మరియు ప్రీహీట్ రింగులు వంటి హాట్-జోన్ భాగాల కోసం, పూత రసాయన అవరోధం మరియు ఉష్ణ మార్గంలో భాగం. అదే నామమాత్రపు మందంతో, అంచు మరియు మధ్య మధ్య లేదా పొడవైన కమ్మీలు మరియు చదునైన ప్రాంతాల మధ్య పెద్ద విచలనాలు ప్రక్రియ విండో అంచు వద్ద ఏకరూపత వైవిధ్యాన్ని పెంచుతాయి.
• నామమాత్రపు మందం మరియు సహనం పరిధి (ప్రాసెస్ మరియు పార్ట్ స్ట్రక్చర్కి సరిపోలింది)
• బహుళ-పాయింట్ ఏకరూపత (కవరింగ్ సెంటర్, ఎడ్జ్ మరియు స్ట్రక్చరల్ ట్రాన్సిషన్ జోన్లను సిఫార్సు చేయండి)
• క్లిష్టమైన మరియు నాన్-క్రిటికల్ ముఖాల మధ్య తేడాలు ఆమోదయోగ్యమైన పరిధిలో ఉన్నాయా
ప్రధాన ముగింపు:కణ నియంత్రణ "తక్కువ కణాలు" వద్ద ఆగదు. ఇది ఉపరితల శుభ్రత, సాంద్రత మరియు ఉపయోగంలో పౌడర్ ప్రమాదాన్ని కలిగి ఉండాలి. ఇంజినీరింగ్ ప్రాక్టీస్ తరచుగా ఇన్కమింగ్ వద్ద మరియు ఆన్-టూల్ వినియోగానికి ముందు చెక్ ఐటెమ్లుగా యూనిట్ ప్రాంతానికి కణాలు, ఉపరితల కరుకుదనం మరియు పూత సమగ్రతను ఉపయోగిస్తుంది. లక్ష్య కణ స్థాయి ≤0.1/cm² క్రమాన్ని సూచించవచ్చు మరియు ప్రతి మొక్క ప్రక్రియకు బిగించి లేదా సడలించబడుతుంది.
ఎపిటాక్సీ మరియు ఎచింగ్ కణ-సెన్సిటివ్. పూత పోరస్, మైక్రో క్రాక్ లేదా స్థానికంగా చాలా మందంగా/పలచగా ఉంటే, కొంత ఉపయోగం తర్వాత అది కణ మూలంగా మారే అవకాశం ఉంది. సమస్యలు కనిపించిన తర్వాత నిందలు వేయడం కంటే ఇన్కమింగ్ అంగీకారంలో ఉపరితల పరిస్థితిని స్పష్టం చేయడం మరింత ప్రభావవంతంగా ఉంటుంది.
• స్వరూపం: ఏకరీతి రంగు, స్పష్టమైన గుంటలు, బొబ్బలు లేదా డీలామినేషన్ లేదు
• ఉపరితల కరుకుదనం (రా) అంగీకరించిన పరిధిలో ఉందో లేదో
• కణ లేదా శుభ్రత ప్రకటనలు అందించబడినా (పరస్పరం అంగీకరించిన పరీక్ష పద్ధతుల ప్రకారం)
ప్రధాన ముగింపు:GDMS/ICP-OES స్వచ్ఛత నివేదికలు, మందం మరియు ఏకరూపత డేటా, రూపాన్ని మరియు క్లిష్టమైన కొలతలు ప్రామాణిక ఇన్కమింగ్ ప్యాకేజీగా పరిగణించాలని సిఫార్సు చేయబడింది. పూత స్వచ్ఛత 5 ppm కంటే తక్కువగా ఉంటుంది; కొన్ని బ్యాచ్లు 99.99995%కి చేరుకుంటాయి. రిపోర్టులు గుర్తించడానికి నిర్దిష్ట స్థలాలు మరియు భాగాలకు మ్యాప్ చేయాలి.
మౌఖిక "స్పెసిఫికేషన్కు అనుగుణంగా" కంటే ఎక్జిక్యూటబుల్ అంగీకార జాబితా మరింత ఉపయోగకరంగా ఉంటుంది. కింది అంశాలను మొక్కల అవసరాలకు కత్తిరించవచ్చు మరియు కొనుగోలు మరియు IQC పత్రాలలో వ్రాయవచ్చు.
|
అంశాన్ని తనిఖీ చేయండి |
వివరణ |
|
లాట్ మరియు రిపోర్ట్ మ్యాపింగ్ |
నివేదిక సంఖ్య భౌతిక లాట్తో సరిపోతుంది; గుర్తించదగినది |
|
స్వచ్ఛత (GDMS/ICP-OES) |
అంగీకరించిన పరిమితుల్లో క్లిష్టమైన మలినాలు; పూత స్వచ్ఛత 5 ppm కంటే తక్కువగా ఉంటుంది |
|
మందం మరియు ఏకరూపత |
నామమాత్రపు మందం కలుసుకుంది; సాధారణ ఏకరూపత లక్ష్యం ±5% లోపల |
|
స్వరూపం మరియు ఉపరితలం |
ఏకరీతి రంగు, కనిపించే లోపాలు లేవు; అంగీకరించిన పరిధిలో రా |
|
క్లిష్టమైన కొలతలు |
సాధనం సరిపోతుందని నిర్ధారించడానికి డ్రాయింగ్ లేదా OEM స్పేర్ టాలరెన్స్లను సరిపోల్చండి |
ఆన్-టూల్ వినియోగానికి ముందు, ఉష్ణోగ్రత ఏకరూపత మరియు కణ పనితీరు యొక్క నమూనా ధృవీకరణ ఇప్పటికీ సిఫార్సు చేయబడింది. పాసింగ్ రిపోర్ట్ ప్రాసెస్ విండో లోపల వాంఛనీయ పనితీరుకు హామీ ఇవ్వదు, అయితే ఇది సాధనానికి లోపభూయిష్ట లాట్ను విడుదల చేసే అవకాశాన్ని బాగా తగ్గిస్తుంది.
ప్రధాన ముగింపు:మందం ఏకరూపత, కణాలు/ఉపరితలం మరియు స్వచ్ఛతను ఎక్జిక్యూటబుల్ అంగీకార నిబంధనలలో వ్రాయండి మరియు లాట్లతో ఒకదానికొకటి మ్యాప్ చేయడానికి నివేదికలు అవసరం. క్రమరాహిత్యాలు సంభవించినప్పుడు, మొదట అదే స్థలంలో ఇతర సాధనాలను సరిపోల్చండి మరియు మార్పులను ప్రాసెస్ చేయండి, ఆపై మెటీరియల్ సొల్యూషన్ను అప్గ్రేడ్ చేయాలా వద్దా అని నిర్ణయించుకోండి.
సిఫార్సు చేయబడిన క్రమం:
1. కొనుగోలు వివరణలో, మందం సహనం, ఏకరూపత లక్ష్యం, స్వచ్ఛత పద్ధతి మరియు పరిమితులు మరియు ప్రదర్శన అవసరాలను నిర్వచించండి.
2. ఇన్కమింగ్ వద్ద, ఫిజికల్ లాట్కి వ్యతిరేకంగా నివేదికను తనిఖీ చేయండి; నమూనా క్లిష్టమైన కొలతలు మరియు ప్రదర్శన.
3. కొత్త లాట్ లేదా ప్రాసెస్ మార్పు తర్వాత, కణాలు మరియు ఏకరూపతను తనిఖీ చేయడానికి సాధనంపై చిన్న బ్యాచ్ని అమలు చేయండి.
4. జీవితకాలం లేదా కణాలు అసాధారణంగా ఉన్నప్పుడు, పూత డేటా మరియు ఫర్నేస్/ప్రాసెస్ పరిస్థితులను సమాంతరంగా పరిశోధించండి; ఒకే-కారణ లక్షణాన్ని నివారించండి.
ప్రధాన ముగింపు:సగటు మందాన్ని మాత్రమే నివేదించడం సరిపోదు. అంచు మరియు నిర్మాణ పరివర్తన మండలాల వద్ద స్థానిక సన్నబడటం లేదా గట్టిపడటం నేరుగా కణ మరియు ఉష్ణ క్షేత్ర ప్రమాదాన్ని పెంచుతుంది. అంగీకారం తప్పనిసరిగా బహుళ-పాయింట్ ఏకరూపత మరియు కొలత స్థానాలను పేర్కొనాలి-డిస్క్-సగటు నామమాత్రపు టాలరెన్స్లో పడుతుందా లేదా అనేది మాత్రమే కాదు.
ఇంజనీరింగ్ గమనిక:
ఒక తర్వాతSiC ఎపిటాక్సీలైన్ కొత్త స్పెసిఫికేషన్ను ప్రవేశపెట్టిందిCVD SiC పూతsusceptor, IQC సరఫరాదారు నివేదికను తనిఖీ చేసింది: నామమాత్రపు మందం మరియు డిస్క్-సగటు మందం రెండూ అంగీకరించిన సహనంలో ఉన్నాయి, GDMS స్వచ్ఛత ఉత్తీర్ణత సాధించింది మరియు ప్రదర్శన ఎటువంటి స్పష్టమైన క్రమరాహిత్యాన్ని చూపలేదు, కాబట్టి చాలా సాధనానికి విడుదల చేయబడింది. దాదాపు ఇరవై పరుగుల తర్వాత, కొన్ని ట్రేలు పొర-అంచు సంబంధిత ప్రాంతంలో రేణువులు మరియు స్థానిక చలనచిత్రం సన్నబడటం పదే పదే చూపించాయి, అదే లాట్ నుండి ఇతర ట్రేలు సాధారణంగా పని చేస్తాయి. ప్రాసెస్ గ్యాస్ పంపిణీ మొదట అనుమానించబడింది, కానీ అదే గదిని పాత-స్పెసిఫికేషన్ ట్రేలకు తిరిగి మార్చినప్పుడు, అంచు సమస్య స్పష్టంగా తగ్గిపోయింది, ఇది కొత్త స్థలాన్ని సూచిస్తుంది. విఫలమైన భాగాలపై బహుళ-పాయింట్ మందం కొలత అప్పుడు అదే-లాట్ సాధారణ భాగాలపై చూపబడింది: డిస్క్ సగటు వాస్తవానికి స్పెక్లో ఉంది, అయితే బాహ్య-రింగ్ సమీప-అంచు పాయింట్లు క్రమపద్ధతిలో 8%–12% సన్నగా ఉన్నాయి, ఇప్పటికే ప్లాంట్ యొక్క అంతర్గత ఏకరూపత లక్ష్యమైన ±5% కంటే ఎక్కువ; సన్నని మండలాలు అధిక-కణ మండలాలను అతివ్యాప్తి చేశాయి. మూలకారణం గాడిలలో నిక్షేపణ రేటు మరియు బాహ్య వలయం ఆ నిర్మాణం కోసం పూర్తిగా క్రమాంకనం చేయబడలేదు; అవుట్గోయింగ్ నివేదిక అంగీకరించిన బహుళ-పాయింట్ పంపిణీ లేకుండా సగటును మాత్రమే అందించింది. పంక్తి "సెంటర్ + ఎడ్జ్ + గ్రూవ్ ట్రాన్సిషన్" బహుళ-పాయింట్ ఏకరూపతను తప్పనిసరి ఇన్కమింగ్ చెక్లుగా వ్రాసింది మరియు కొలత-పాయింట్ మ్యాప్ను చేర్చడానికి అవసరమైన నివేదికలు. సరఫరాదారు ఔటర్-రింగ్ ప్రాసెస్ విండోను తదుపరి లాట్లలో సర్దుబాటు చేసిన తర్వాత, అంచు కణాలు మరియు ఫిల్మ్-మందం వైవిధ్యం చారిత్రక స్థాయిలకు తిరిగి వచ్చాయి. ఈ సందర్భం చూపిస్తుంది: స్పెక్లో సగటు అంటే స్పెక్లో ఏకరూపత కాదు. థర్మల్లీ సెన్సిటివ్ ససెప్టర్ల కోసం, బహుళ-పాయింట్ మందం మరియు స్థాన డేటా లేకుండా అంగీకరించడం వలన స్థానిక లోపాలను లైన్లోకి పంపవచ్చు. "నివేదిక ఆమోదయోగ్యంగా ఉందా" అని వాదించడం కంటే కొలత-పాయింట్ లేఅవుట్ మరియు స్పెసిఫికేషన్లో ±5% వంటి ఏకరూపత లక్ష్యం రాయడం మరింత ప్రభావవంతంగా ఉంటుంది.
1. ±5% మందం ఏకరూపత తప్పనిసరి ప్రమాణమా?
ఇది ఒక సాధారణ ఇంజనీరింగ్ లక్ష్యం, ప్రత్యేకమైన చట్టపరమైన ప్రమాణం కాదు. భాగం నిర్మాణం మరియు ప్రక్రియ సున్నితత్వం ఆధారంగా సరఫరాదారుతో గట్టి లేదా కొంచెం విస్తృత పరిధిని అంగీకరించవచ్చు. మెజర్మెంట్ పాయింట్ కవరేజ్ మరియు రిపోర్ట్ ట్రేస్బిలిటీ ముఖ్యం.
2. అన్ని ప్రక్రియలకు ≤0.1/cm² వర్తిస్తుందా?
ఇది పరిమాణం యొక్క సూచన క్రమం. తుది ప్రమాణాలు మొక్క యొక్క గది, ప్రక్రియ మరియు దిగుబడి అవసరాలను అనుసరించాలి, పరీక్షా పద్ధతి మరియు నిర్దేశిత నియమాలు నిర్దేశించబడ్డాయి.
3. స్వచ్ఛత నివేదిక ఒక్కటే సరిపోతుందా?
సంఖ్య. కనిష్టంగా, స్వచ్ఛత, మందం/ఏకరూపత మరియు రూపాన్ని (ప్లస్ అంగీకరించిన ఉపరితల కొలమానాలు) కలిసి అందుబాటులో ఉండాలి; డైమెన్షనల్ మ్యాచ్ ఆన్-టూల్ వినియోగాన్ని కూడా ప్రభావితం చేస్తుంది.
4. నివేదిక పాస్ అయితే ఆన్-టూల్ పార్టికల్స్ ఇంకా ఎక్కువగా ఉంటే?
మొదట అదే స్థలంలో ఇతర సాధనాలను సరిపోల్చండి, ఇటీవలి ప్రక్రియ/నిర్వహణ మార్పులు మరియు శుభ్రపరిచే స్థితి, ఆపై పూత పరిష్కారం లేదా ప్రాసెస్ విండో సర్దుబాటు అవసరమా అని అంచనా వేయండి. అవసరమైతే ఎంపిక-నిర్ణయం మరియు పరికరాలు-అనుకూలత క్లస్టర్ పేజీలతో క్రాస్-చెక్ చేయండి.
5. VeTek ఏ నాణ్యత-సంబంధిత మద్దతును అందించగలదు?
GDMS/ICP-OES మరియు సారూప్య విశ్లేషణ నివేదికలు, మందం మరియు ఏకరూపత డేటా, నమూనా ధృవీకరణ మరియు క్రమరాహిత్యాలపై సాంకేతిక కమ్యూనికేషన్ (ఇంగ్లీష్తో సహా) అందించబడతాయి.
సరైన పదార్థాన్ని ఎంచుకున్న తర్వాత, మందం ఏకరూపత, కణ నియంత్రణ మరియు స్వచ్ఛత ఇచ్చిన లాట్ ప్రక్రియ విండోలో స్థిరంగా ప్రవేశించవచ్చో లేదో నిర్ణయిస్తుంది. ఈ మూడింటిని తనిఖీ చేయదగిన అంగీకార నిబంధనలలో వ్రాయడం మరియు రిపోర్టులు లాట్లకు మ్యాప్ చేయాలని పట్టుబట్టడం ఆన్-టూల్ ప్రమాదాన్ని తగ్గించడానికి అత్యంత ప్రత్యక్ష మార్గం.
మీకు నిర్దిష్ట భాగానికి అంగీకార కొలమానాలు అవసరమైతే లేదా నివేదికలను వివరించడంలో సహాయం కావాలంటే, మీరు VeTek సాంకేతిక బృందాన్ని సంప్రదించడానికి స్వాగతం. డాక్టర్ జియావో మరియు ఇంజినీరింగ్ బృందం స్పెసిఫికేషన్ అలైన్మెంట్, శాంపిల్ వెరిఫికేషన్ మరియు అనోమాలి అనాలిసిస్లో సహాయం చేయగలరు.
ఎంపిక లాజిక్ కోసం, చూడండి:VETEK | ప్రాసెస్ షరతుల ద్వారా SiC కోటింగ్, TaC కోటింగ్ లేదా సాలిడ్ SiCని ఎలా ఎంచుకోవాలి; పూర్తి ఫ్రేమ్వర్క్ కోసం, పిల్లర్ పేజీని చూడండిఎపిటాక్సీ మరియు ఎచింగ్ ప్రక్రియలలో CVD SiC, TaC మరియు సాలిడ్ SiC యొక్క పనితీరు సరిహద్దులు.
ప్రధాన సూచనలు మరియు డేటా మూలాధారాలు
1. VeTek సెమీకండక్టర్ అంతర్గత ఇంజనీరింగ్ మరియు కస్టమర్ అంగీకార అభ్యాసం.
2. సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ & ఎచింగ్ ఎక్విప్మెంట్ కోసం CVD కోటింగ్ కన్సూమబుల్స్ సెలక్షన్ ఇంజనీరింగ్ హ్యాండ్బుక్లో స్వచ్ఛత, మందం ఏకరూపత మరియు కణ నియంత్రణపై మెట్రిక్ వివరణలు.
3. VeTek అధికారిక వెబ్సైట్ ఉత్పత్తి మరియు సాంకేతిక పదార్థాలు: https://www.veteksemicon.com/silicon-carbide-coating
గమనిక: టెక్స్ట్లోని ఏకరూపత, కణ మరియు స్వచ్ఛత గణాంకాలు సాధారణ ఇంజనీరింగ్ సూచనలు; వాస్తవ విలువలు కాంట్రాక్ట్ నిర్దేశాలు మరియు కొలిచిన ఫలితాలను అనుసరిస్తాయి.
రచయిత: VeTek సెమీకండక్టర్ టెక్నికల్ ఇంజనీరింగ్ బృందం (డా. జియావో మార్గదర్శకత్వంలో పూర్తి చేయబడింది)
తదుపరి సాంకేతిక చర్చ లేదా నమూనా మూల్యాంకనం కోసం, దయచేసి అధికారిక వెబ్సైట్ ద్వారా మమ్మల్ని సంప్రదించండి.
+86-579-87223657
వాంగ్డా రోడ్, జియాంగ్ స్ట్రీట్, వుయి కౌంటీ, జిన్హువా సిటీ, జెజియాంగ్ ప్రావిన్స్, చైనా
కాపీరైట్ © 2024 WuYi TianYao కొత్త మెటీరియల్ Tech.Co.,Ltd. సర్వ హక్కులు ప్రత్యేకించబడినవి.
Links | Sitemap | RSS | XML | గోప్యతా విధానం |