CMP పాలిషింగ్ స్లర్రీ

Veteksemicon యొక్క CMP పాలిషింగ్ స్లర్రీ ప్రధానంగా CMP రసాయన మెకానికల్ పాలిషింగ్ స్లర్రీలో సెమీకండక్టర్ పదార్థాలను ప్లానరైజ్ చేయడానికి పాలిషింగ్ అబ్రాసివ్‌గా ఉపయోగించబడుతుంది. ఇది క్రింది ప్రయోజనాలను కలిగి ఉంది:

అల్ట్రా-హై ప్యూరిటీ సిరీస్ ఉత్పత్తుల కోసం పనితీరు సూచికలు

హై-ప్యూరిటీ సిరీస్ ఉత్పత్తుల కోసం పనితీరు లక్షణాలు

పరామితి	యూనిట్	హై-ప్యూరిటీ సిరీస్ ఉత్పత్తుల కోసం పనితీరు లక్షణాలు
		WGXY-1Z	WGXY-2Z	WGXY-3Z	WGXY-4Z	WGXY-5Z	WGXY-6Z	WGXY-7Z
సగటు సిలికా కణ పరిమాణం	nm	35±5	45±5	65±5	75±5	85±5	100 ± 5	120±5
నానోపార్టికల్ సైజ్ డిస్ట్రిబ్యూషన్ (PDI)	1	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15	<0.15
పరిష్కారం pH	1	9.5 ± 0.2	9.5 ± 0.2	9.5 ± 0.2	9.5 ± 0.2	9.5 ± 0.2	9.5 ± 0.2	9.5 ± 0.2
ఘన కంటెంట్	%	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40	30-40
స్వరూపం	--	లేత నీలం	నీలం	తెలుపు	ఆఫ్-వైట్	ఆఫ్-వైట్	ఆఫ్-వైట్	ఆఫ్-వైట్
పార్టికల్ మార్ఫాలజీ X	X: S- ఫెరికల్ ；B- వంపు;P- వేరుశెనగ ఆకారం
స్థిరీకరణ అయాన్లు	M:సేంద్రీయ అమైన్;K:పొటాషియం హైడ్రాక్సైడ్;N:సోడియం హైడ్రాక్సైడ్;లేదా ఇతర భాగాలు
మెటల్ ఇంప్యూరిటీ కంటెంట్	Z:హై-ప్యూరిటీ సిరీస్(H సిరీస్≤1ppm;L సిరీస్≤10ppm);స్టాండర్డ్ సిరీస్ (M సిరీస్ ≤300ppm)

CMP పాలిషింగ్ స్లర్రీ ఉత్పత్తి అప్లికేషన్లు:

● ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ ILD మెటీరియల్స్ CMP

● ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ Poly-Si మెటీరియల్స్ CMP

● సెమీకండక్టర్ సింగిల్ క్రిస్టల్ సిలికాన్ పొర పదార్థాలు CMP

● సెమీకండక్టర్ సిలికాన్ కార్బైడ్ పదార్థాలు CMP

● ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ STI పదార్థాలు CMP

● ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ మెటల్ మరియు మెటల్ బారియర్ లేయర్ మెటీరియల్స్ CMP