వార్తలు

పరిశ్రమ వార్తలు

అధిక-ఉష్ణోగ్రత పరిసరాలలో పదార్థ పనితీరు గురించి ఇంకా ఆందోళన చెందుతున్నారా?31 2025-07

అధిక-ఉష్ణోగ్రత పరిసరాలలో పదార్థ పనితీరు గురించి ఇంకా ఆందోళన చెందుతున్నారా?

సెమీకండక్టర్ పరిశ్రమలో ఒక దశాబ్దం పాటు పనిచేసిన తరువాత, అధిక-ఉష్ణోగ్రత, అధిక-శక్తి వాతావరణంలో భౌతిక ఎంపిక ఎంత సవాలుగా ఉంటుందో నేను ప్రత్యక్షంగా అర్థం చేసుకున్నాను. నేను వెటెక్ యొక్క SIC బ్లాక్‌ను ఎదుర్కొనే వరకు నేను చివరకు నిజంగా నమ్మదగిన పరిష్కారాన్ని కనుగొన్నాను.
చిప్ తయారీ: అణు పొర నిక్షేపణ (ALD)16 2024-08

చిప్ తయారీ: అణు పొర నిక్షేపణ (ALD)

సెమీకండక్టర్ తయారీ పరిశ్రమలో, పరికర పరిమాణం తగ్గిపోతున్నందున, సన్నని చలన చిత్ర సామగ్రి యొక్క నిక్షేపణ సాంకేతికత అపూర్వమైన సవాళ్లను ఎదుర్కొంది. అణు పొర నిక్షేపణ (ALD), అణు స్థాయిలో ఖచ్చితమైన నియంత్రణను సాధించగల సన్నని ఫిల్మ్ డిపాజిషన్ టెక్నాలజీగా, సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఒక అనివార్యమైన భాగంగా మారింది. ఈ వ్యాసం అధునాతన చిప్ తయారీలో దాని ముఖ్యమైన పాత్రను అర్థం చేసుకోవడంలో ALD యొక్క ప్రక్రియ ప్రవాహం మరియు సూత్రాలను ప్రవేశపెట్టడం లక్ష్యంగా పెట్టుకుంది.
సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియ అంటే ఏమిటి?13 2024-08

సెమీకండక్టర్ ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియ అంటే ఏమిటి?

సంపూర్ణ స్ఫటికాకార బేస్ లేయర్‌పై ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌లు లేదా సెమీకండక్టర్ పరికరాలను నిర్మించడం ఉత్తమం. సెమీకండక్టర్ తయారీలో ఎపిటాక్సీ (epi) ప్రక్రియ ఒక స్ఫటికాకార ఉపరితలంపై సాధారణంగా 0.5 నుండి 20 మైక్రాన్‌ల వరకు ఉండే చక్కటి సింగిల్-స్ఫటికాకార పొరను జమ చేయడం లక్ష్యంగా పెట్టుకుంది. సెమీకండక్టర్ పరికరాల తయారీలో, ముఖ్యంగా సిలికాన్ పొరల తయారీలో ఎపిటాక్సీ ప్రక్రియ ఒక ముఖ్యమైన దశ.
ఎపిటాక్సీ మరియు ALD మధ్య తేడా ఏమిటి?13 2024-08

ఎపిటాక్సీ మరియు ALD మధ్య తేడా ఏమిటి?

ఎపిటాక్సీ మరియు అటామిక్ లేయర్ డిపాజిషన్ (ALD) మధ్య ప్రధాన వ్యత్యాసం వారి చలనచిత్ర వృద్ధి విధానాలు మరియు ఆపరేటింగ్ పరిస్థితులలో ఉంది. ఎపిటాక్సీ ఒక స్ఫటికాకార సన్నని చలనచిత్రాన్ని స్ఫటికాకార ఉపరితలంపై ఒక నిర్దిష్ట ధోరణి సంబంధంతో పెంచే ప్రక్రియను సూచిస్తుంది, అదే లేదా ఇలాంటి క్రిస్టల్ నిర్మాణాన్ని నిర్వహిస్తుంది. దీనికి విరుద్ధంగా, ALD అనేది ఒక నిక్షేపణ సాంకేతికత, ఇది క్రమంలో వేర్వేరు రసాయన పూర్వగాములకు ఒక ఉపరితలాన్ని బహిర్గతం చేస్తుంది, ఒక సమయంలో సన్నని ఫిల్మ్ వన్ అటామిక్ పొరను ఏర్పరుస్తుంది.
సివిడి టిఎసి పూత అంటే ఏమిటి? - వెటెక్సేమి09 2024-08

సివిడి టిఎసి పూత అంటే ఏమిటి? - వెటెక్సేమి

CVD TAC పూత అనేది ఒక ఉపరితలంపై (గ్రాఫైట్) దట్టమైన మరియు మన్నికైన పూతను ఏర్పరచడానికి ఒక ప్రక్రియ. ఈ పద్ధతిలో అధిక ఉష్ణోగ్రతల వద్ద ఉపరితల ఉపరితలంపై TaC ని నిక్షిప్తం చేయడం జరుగుతుంది, దీని ఫలితంగా అద్భుతమైన ఉష్ణ స్థిరత్వం మరియు రసాయన నిరోధకతతో టాంటాలమ్ కార్బైడ్ (TaC) పూత వస్తుంది.
రోల్ అప్! ఇద్దరు ప్రధాన తయారీదారులు 8-అంగుళాల సిలికాన్ కార్బైడ్ను భారీగా ఉత్పత్తి చేయబోతున్నారు07 2024-08

రోల్ అప్! ఇద్దరు ప్రధాన తయారీదారులు 8-అంగుళాల సిలికాన్ కార్బైడ్ను భారీగా ఉత్పత్తి చేయబోతున్నారు

8-అంగుళాల సిలికాన్ కార్బైడ్ (SiC) ప్రక్రియ పరిపక్వం చెందడంతో, తయారీదారులు 6-అంగుళాల నుండి 8-అంగుళాలకు మారడాన్ని వేగవంతం చేస్తున్నారు. ఇటీవల, ON సెమీకండక్టర్ మరియు రెసోనాక్ 8-అంగుళాల SiC ఉత్పత్తిపై నవీకరణలను ప్రకటించాయి.
X
మీకు మెరుగైన బ్రౌజింగ్ అనుభవాన్ని అందించడానికి, సైట్ ట్రాఫిక్‌ను విశ్లేషించడానికి మరియు కంటెంట్‌ను వ్యక్తిగతీకరించడానికి మేము కుక్కీలను ఉపయోగిస్తాము. ఈ సైట్‌ని ఉపయోగించడం ద్వారా, మీరు మా కుక్కీల వినియోగానికి అంగీకరిస్తున్నారు. గోప్యతా విధానం
తిరస్కరించు అంగీకరించు